JP2001314752A - プラズマ反応容器及びガスプラズマ分解方法 - Google Patents
プラズマ反応容器及びガスプラズマ分解方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 反応容器内を通過するガスの流速分布を均一
とし、高流速部（空間中心部）のプラズマ中におけるガ
スの滞在時間を長くすることによって、反応の高効率化
を図る。 【解決手段】 相対向する第１の平板型電極及び第２の
平板型電極と、これら第１及び第２の電極間に介装され
る誘電体と、前記第１及び第２の電極間に電位差を付与
する電位差付与手段とを備えてなり、前記第１及び第２
の電極間に高電圧を印加して導入したガスを電極間のプ
ラズマ分解領域で分解するプラズマ反応容器において、
前記誘電体の表面の両面またはいずれか一方に凸状部を
複数形成する。
とし、高流速部（空間中心部）のプラズマ中におけるガ
スの滞在時間を長くすることによって、反応の高効率化
を図る。 【解決手段】 相対向する第１の平板型電極及び第２の
平板型電極と、これら第１及び第２の電極間に介装され
る誘電体と、前記第１及び第２の電極間に電位差を付与
する電位差付与手段とを備えてなり、前記第１及び第２
の電極間に高電圧を印加して導入したガスを電極間のプ
ラズマ分解領域で分解するプラズマ反応容器において、
前記誘電体の表面の両面またはいずれか一方に凸状部を
複数形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高効率でガスをプ
ラズマ処理により改質するプラズマ反応容器及びガスプ
ラズマ分解方法に関する。
ラズマ処理により改質するプラズマ反応容器及びガスプ
ラズマ分解方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、環境中の汚染ガス（例えばＮ
ＯX、ＶＯＣ（揮発性有機化合物、Volatile Organic Co
mpound、エチレンなどの有害物質）を浄化する方法とし
て、例えば放電（無声放電、バリア放電）によるガスプ
ラズマ分解処理方法が知られている。
ＯX、ＶＯＣ（揮発性有機化合物、Volatile Organic Co
mpound、エチレンなどの有害物質）を浄化する方法とし
て、例えば放電（無声放電、バリア放電）によるガスプ
ラズマ分解処理方法が知られている。
【０００３】以下、この従来のガスのプラズマ処理方法
について説明する。図１２は、ガスプラズマ処理を行う
平行平板型ガス反応装置の構成図である。図１２に示す
ように従来の平行平板型ガス反応装置は、対向する平行
金属製平板型電極０１Ａ，０１Ｂと、一方の電極（図中
下面側）０１Ｂの表面に配してなる誘電体０２と、前記
電極間０１Ａ，０１Ｂに高電圧を印加する高圧電源０３
とから構成されており、電極間に形成される放電空間０
４にプラズマ放電を発生させている。この装置によれ
ば、電極０１Ａ，０１Ｂ間に高圧電源０３から交流高電
圧を印加することにより、電極間に微小放電柱の集合体
が形成され、見かけ上平板状に一様に広がった無声放電
が発生し、放電空間０４に分解するガス０５を供給する
ことで、プラズマ分解処理がなされている。この無声放
電は常圧放電で一般的な雷放電に対してプラズマとガス
との接触確率（ガスの電離、励起確率）を高めることが
でき、反応率の向上がはかれるとされている。
について説明する。図１２は、ガスプラズマ処理を行う
平行平板型ガス反応装置の構成図である。図１２に示す
ように従来の平行平板型ガス反応装置は、対向する平行
金属製平板型電極０１Ａ，０１Ｂと、一方の電極（図中
下面側）０１Ｂの表面に配してなる誘電体０２と、前記
電極間０１Ａ，０１Ｂに高電圧を印加する高圧電源０３
とから構成されており、電極間に形成される放電空間０
４にプラズマ放電を発生させている。この装置によれ
ば、電極０１Ａ，０１Ｂ間に高圧電源０３から交流高電
圧を印加することにより、電極間に微小放電柱の集合体
が形成され、見かけ上平板状に一様に広がった無声放電
が発生し、放電空間０４に分解するガス０５を供給する
ことで、プラズマ分解処理がなされている。この無声放
電は常圧放電で一般的な雷放電に対してプラズマとガス
との接触確率（ガスの電離、励起確率）を高めることが
でき、反応率の向上がはかれるとされている。
【０００４】このように誘電体を電極間に挿入した無声
放電を利用することにより、大気圧付近の比較的高ガス
圧下においても放電体積を拡大することができ、その結
果、流入ガスのプラズマ化確率が高まり、効率的にガス
反応（分解）を行うことができる。
放電を利用することにより、大気圧付近の比較的高ガス
圧下においても放電体積を拡大することができ、その結
果、流入ガスのプラズマ化確率が高まり、効率的にガス
反応（分解）を行うことができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来技
術にかかる平行平板型反応容器では、電極を積層構造に
するなどの手法により、反応容器のコンパクト化を図る
ことは容易であるが、図１３に示すように、反応容器内
を通過するガス０５の流速分布が放電空間部の電極近傍
と中心部分とではガス流速に相違があるので、流速分布
が不均一になる、という問題がある。この結果、高流速
部（空間中心部）のプラズマ中におけるガス０５の滞在
時間が短くなり、高効率の反応を行うことができない、
という問題がある。
術にかかる平行平板型反応容器では、電極を積層構造に
するなどの手法により、反応容器のコンパクト化を図る
ことは容易であるが、図１３に示すように、反応容器内
を通過するガス０５の流速分布が放電空間部の電極近傍
と中心部分とではガス流速に相違があるので、流速分布
が不均一になる、という問題がある。この結果、高流速
部（空間中心部）のプラズマ中におけるガス０５の滞在
時間が短くなり、高効率の反応を行うことができない、
という問題がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決する本発
明の第１の態様は、相対向する第１の平板型電極及び第
２の平板型電極と、これら第１及び第２の電極間に介装
される誘電体と、前記第１及び第２の電極間に電位差を
付与する電位差付与手段とを備えてなり、前記第１及び
第２の電極間に高電圧を印加して、導入したガスを電極
間のプラズマ分解領域で分解するプラズマ反応容器にお
いて、前記誘電体の表面の両面またはいずれか一方に凸
状部を複数形成してなることを特徴とするプラズマ反応
容器にある。
明の第１の態様は、相対向する第１の平板型電極及び第
２の平板型電極と、これら第１及び第２の電極間に介装
される誘電体と、前記第１及び第２の電極間に電位差を
付与する電位差付与手段とを備えてなり、前記第１及び
第２の電極間に高電圧を印加して、導入したガスを電極
間のプラズマ分解領域で分解するプラズマ反応容器にお
いて、前記誘電体の表面の両面またはいずれか一方に凸
状部を複数形成してなることを特徴とするプラズマ反応
容器にある。
【０００７】本発明の第２の態様は、第１の態様におい
て、前記誘電体を介装した第１及び第２の電極を１ユニ
ットとし、該ユニットを複数個積層してなることを特徴
とするプラズマ反応容器にある。
て、前記誘電体を介装した第１及び第２の電極を１ユニ
ットとし、該ユニットを複数個積層してなることを特徴
とするプラズマ反応容器にある。
【０００８】本発明の第３の態様は、第２の態様におい
て、隣接するユニットの少なくとも一方の電極が共有さ
れていることを特徴とするプラズマ反応容器にある。
て、隣接するユニットの少なくとも一方の電極が共有さ
れていることを特徴とするプラズマ反応容器にある。
【０００９】本発明の第４の態様は、第１〜３の態様の
何れかにおいて、前記誘電体の表面に形成した凸状部の
平面形状が菱形、多角形、円、長円、楕円形状のいずれ
かであることを特徴とするプラズマ反応容器にある。
何れかにおいて、前記誘電体の表面に形成した凸状部の
平面形状が菱形、多角形、円、長円、楕円形状のいずれ
かであることを特徴とするプラズマ反応容器にある。
【００１０】本発明の第５の態様は、第１〜４の態様の
何れかにおいて、前記誘電体の表面に形成した凸状部の
高さが一部異なることを特徴とするプラズマ反応容器に
ある。
何れかにおいて、前記誘電体の表面に形成した凸状部の
高さが一部異なることを特徴とするプラズマ反応容器に
ある。
【００１１】本発明の第６の態様は、第１〜５の態様の
何れかにおいて、前記誘電体は、前記第１及び第２の電
極の少なくとも一方と非接触状態であることを特徴とす
るプラズマ反応容器にある。
何れかにおいて、前記誘電体は、前記第１及び第２の電
極の少なくとも一方と非接触状態であることを特徴とす
るプラズマ反応容器にある。
【００１２】本発明の第７の態様は、第１〜５の何れか
の態様において、前記誘電体と前記第１及び第２の電極
とが接触していることを特徴とするプラズマ反応容器に
ある。
の態様において、前記誘電体と前記第１及び第２の電極
とが接触していることを特徴とするプラズマ反応容器に
ある。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００１４】（第１の実施の形態）図１に本実施の形態
にかかるガス反応器の概略図を示す。図２は凸状部の種
類を示す概略図である。
にかかるガス反応器の概略図を示す。図２は凸状部の種
類を示す概略図である。
【００１５】図１に示すように、本実施の形態にかかる
ガス反応器は、相対向する金属製平板型である第１の電
極１１Ａ及び第２の電極１１Ｂと、これら電極１１Ａ及
び１１Ｂ間に介装されると共に表面に凸状部１２を有す
る誘電体１３とから構成されている。本実施形態では、
誘電体１３の凸状部１２は、第１及び第２の電極１１Ａ
及び１１Ｂと接触した状態となっている。
ガス反応器は、相対向する金属製平板型である第１の電
極１１Ａ及び第２の電極１１Ｂと、これら電極１１Ａ及
び１１Ｂ間に介装されると共に表面に凸状部１２を有す
る誘電体１３とから構成されている。本実施形態では、
誘電体１３の凸状部１２は、第１及び第２の電極１１Ａ
及び１１Ｂと接触した状態となっている。
【００１６】また、前記電極１１Ａ及び１１Ｂの間に
は、図示しない電源ユニットとから交流電圧を印加する
ことで放電空間１４内にプラズマ放電が生成されるよう
になっており、導入されたガス１５は、放電空間部１４
内でプラズマ処理がなされてガスが改質され、改質され
たガスが排出される。
は、図示しない電源ユニットとから交流電圧を印加する
ことで放電空間１４内にプラズマ放電が生成されるよう
になっており、導入されたガス１５は、放電空間部１４
内でプラズマ処理がなされてガスが改質され、改質され
たガスが排出される。
【００１７】この装置によれば、凸状部が形成されてい
るので、導入されたガスが該凸状部１２に衝突すること
になり、その結果ガス流速が減速され、ガス流速が均一
となる結果、放電空間１４内における滞留時間が平滑面
の場合よりも全体として伸び、プラズマ処理効率が向上
する。また、凸状部の電界強度が高まり、バリア放電中
に光量の強い局所集中放電に似た複数の放電中が混在す
る複合バリア放電が形成され易く、反応が促進される。
るので、導入されたガスが該凸状部１２に衝突すること
になり、その結果ガス流速が減速され、ガス流速が均一
となる結果、放電空間１４内における滞留時間が平滑面
の場合よりも全体として伸び、プラズマ処理効率が向上
する。また、凸状部の電界強度が高まり、バリア放電中
に光量の強い局所集中放電に似た複数の放電中が混在す
る複合バリア放電が形成され易く、反応が促進される。
【００１８】ここで、誘電体１３に設けられた凸状部１
２を両面に形成する必要がない場合には、片側のみに形
成するようにしてもよい。
２を両面に形成する必要がない場合には、片側のみに形
成するようにしてもよい。
【００１９】なお、凸状部１２の形状は特に限定される
ものではなく、ガス衝突頻度を高めることができるよう
な形状、例えば、図２（ａ）に示すような円形状の凸状
部１２Ａの他に星形状、三角形状の凸状部や、図２
（ｂ）に示すような楕円形の凸状部１２Ｂを斜めに配置
したものや、図２（ｃ）に示すようなＳ字形状の凸状部
１２Ｃを例示することができる。また、菱形形状、多角
形状、楕円形状などの適宜任意の凸状形状としてもよ
い。
ものではなく、ガス衝突頻度を高めることができるよう
な形状、例えば、図２（ａ）に示すような円形状の凸状
部１２Ａの他に星形状、三角形状の凸状部や、図２
（ｂ）に示すような楕円形の凸状部１２Ｂを斜めに配置
したものや、図２（ｃ）に示すようなＳ字形状の凸状部
１２Ｃを例示することができる。また、菱形形状、多角
形状、楕円形状などの適宜任意の凸状形状としてもよ
い。
【００２０】（第２の実施の形態）図３に本実施の形態
にかかるガス反応器の概略図を示す。
にかかるガス反応器の概略図を示す。
【００２１】図３に示すように、本実施の形態にかかる
ガス反応器は、誘電体表面に形成された凸状部１２の片
側（図中下側）のみが第２の電極１１Ｂに当接している
ものである。それ以外は第１の実施形態と同様であるの
で、同符号を付して部材の説明は省略する。
ガス反応器は、誘電体表面に形成された凸状部１２の片
側（図中下側）のみが第２の電極１１Ｂに当接している
ものである。それ以外は第１の実施形態と同様であるの
で、同符号を付して部材の説明は省略する。
【００２２】本実施形態によって、導入されたガス分子
の衝突頻度が高められ、これにより、反応効率の向上を
図ることができる。
の衝突頻度が高められ、これにより、反応効率の向上を
図ることができる。
【００２３】（第３の実施の形態）図４に本実施の形態
にかかるガス反応器の概略図を示す。
にかかるガス反応器の概略図を示す。
【００２４】図４に示すように、本実施の形態にかかる
ガス反応器は、誘電体表面に形成された凸状部１２の両
側が相対向する電極表面から離れた非接触状態にしてい
るものである。それ以外は第１の実施形態と同様である
ので、同符号を付して部材の説明は省略する。
ガス反応器は、誘電体表面に形成された凸状部１２の両
側が相対向する電極表面から離れた非接触状態にしてい
るものである。それ以外は第１の実施形態と同様である
ので、同符号を付して部材の説明は省略する。
【００２５】本実施形態によっても、導入されたガス分
子の衝突頻度が高められ、これにより、反応効率の向上
を図ることができる。
子の衝突頻度が高められ、これにより、反応効率の向上
を図ることができる。
【００２６】（第４の実施の形態）図５に本実施の形態
にかかるガス反応器の要部概略図を示す。
にかかるガス反応器の要部概略図を示す。
【００２７】図５に示すように、本実施の形態にかかる
ガス反応器は、凸状部１２の高さを一部低くしてなる凸
状部１７を配設してなり、第１の金属板電極１１Ａとの
間に強電界部を一部分形成して局所放電を生成させ、無
声放電と共に複合バリア放電を生成するようにすること
もできる。
ガス反応器は、凸状部１２の高さを一部低くしてなる凸
状部１７を配設してなり、第１の金属板電極１１Ａとの
間に強電界部を一部分形成して局所放電を生成させ、無
声放電と共に複合バリア放電を生成するようにすること
もできる。
【００２８】このように、本実施形態によれば、複数の
凸状部１２に一部高さの低い凸状部１７を配設させるこ
とにより、霧状バリア放電と雷状局所集中放電との複合
バリア放電が可能となり、プラズマエネルギーレベルの
向上を図り、ガス分解の存在により導入されたガス分子
の衝突頻度が高められ、これにより、ガス反応効率の向
上を図るようにしている。
凸状部１２に一部高さの低い凸状部１７を配設させるこ
とにより、霧状バリア放電と雷状局所集中放電との複合
バリア放電が可能となり、プラズマエネルギーレベルの
向上を図り、ガス分解の存在により導入されたガス分子
の衝突頻度が高められ、これにより、ガス反応効率の向
上を図るようにしている。
【００２９】以下、本発明の好適な実施例について説明
するが、本発明は何らこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
するが、本発明は何らこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
【００３０】（実施例１）図６に示すような装置を用
い、電極への通電位置の相違によるガスの分解効率を測
定した。
い、電極への通電位置の相違によるガスの分解効率を測
定した。
【００３１】本試験装置は、図６に示すように、複数の
ガス１、２、３を混合するガス混合器２２と、混合ガス
を供給しプラズマ分解処理を施すプラズマ反応器２３
と、該プラズマ反応器に高電圧を印加する高圧電源２４
と、分解されたガスを測定するガス分析装置２５とから
構成されている。
ガス１、２、３を混合するガス混合器２２と、混合ガス
を供給しプラズマ分解処理を施すプラズマ反応器２３
と、該プラズマ反応器に高電圧を印加する高圧電源２４
と、分解されたガスを測定するガス分析装置２５とから
構成されている。
【００３２】誘電体表面に形成する凸状部１２の形状
を、図７〜図９に示すように種々変化させ、それぞれを
用いてＣＯ2の分解試験を行った。本実施例の試験結果
を、表１及び図１０に示す。
を、図７〜図９に示すように種々変化させ、それぞれを
用いてＣＯ2の分解試験を行った。本実施例の試験結果
を、表１及び図１０に示す。
【００３３】本実施例にかかるＣＯ2ガス分解条件を以
下に示す。 ・ガス組成：ＣＯ2（１０％）＋Ｏ2（１０％）／Ｎ
2（バランス） ・ガス流量：２００〜１０００ｃｃ／分 ・目的反応：ＣＯ2の分解反応（ＣＯ2→ＣＯ＋１／２Ｏ
2） ・反応容器形式 ・電極寸法：２０ｍｍ×５０ｍｍ 誘電体材質：ＡＬ2Ｏ3 反応容器体積：２８６ｃｃ
下に示す。 ・ガス組成：ＣＯ2（１０％）＋Ｏ2（１０％）／Ｎ
2（バランス） ・ガス流量：２００〜１０００ｃｃ／分 ・目的反応：ＣＯ2の分解反応（ＣＯ2→ＣＯ＋１／２Ｏ
2） ・反応容器形式 ・電極寸法：２０ｍｍ×５０ｍｍ 誘電体材質：ＡＬ2Ｏ3 反応容器体積：２８６ｃｃ
【００３４】(1)凸状部（片側、円形状）付誘電体（片
側接触）（図７参照） 誘電体厚み：０．５ｍｍ 凸状部高さ：０．２５ｍｍ 凸状部径：２ｍｍ
側接触）（図７参照） 誘電体厚み：０．５ｍｍ 凸状部高さ：０．２５ｍｍ 凸状部径：２ｍｍ
【００３５】(2)凸状部（両側、円形状）付誘電体（両
側非接触）（図８参照） 誘電体厚み：０．５ｍｍ 凸状部高さ：０．２５ｍｍ
側非接触）（図８参照） 誘電体厚み：０．５ｍｍ 凸状部高さ：０．２５ｍｍ
【００３６】(3)凸状部（片側、長円形状）付誘電体
（両側接触）（図９参照］ 誘電体厚み：０．５ｍｍ 凸状部高さ：０．２５ｍｍ 凸状部径：２ｍｍ（短径）、３ｍｍ（長径）
（両側接触）（図９参照］ 誘電体厚み：０．５ｍｍ 凸状部高さ：０．２５ｍｍ 凸状部径：２ｍｍ（短径）、３ｍｍ（長径）
【００３７】(4)平滑面誘電体 （図１２参照） 誘電体厚み：０．５ｍｍ
【００３８】
【表１】
【００３９】表１及び図１０に示すように、（１）から
（３）の凸状部を形成した場合には、（４）の従来のも
のに比較してプラズマガス分解率がいずれも高いもので
あった。
（３）の凸状部を形成した場合には、（４）の従来のも
のに比較してプラズマガス分解率がいずれも高いもので
あった。
【００４０】また、本発明にかかる（３）及び（４）の
反応容器は、（２）の容器よりも放電体積が少ないにも
かかわらず高い反応率を示した。
反応容器は、（２）の容器よりも放電体積が少ないにも
かかわらず高い反応率を示した。
【００４１】（実施例２）上記（１）から（４）の種々
のプラズマ反応容器を用い、ＮＯXの分解試験を行っ
た。
のプラズマ反応容器を用い、ＮＯXの分解試験を行っ
た。
【００４２】本実施例にかかるＮＯXガス分解条件を以
下に示す。 ・ガス組成：ＮＯ（５００ｐｐｍ）＋Ｏ2（１０％）／
Ｎ2（バランス） ・ガス流量：５００ｃｃ／分 ・電源：電圧（２．８ｋＶｐ）,周波数（１０ｋＨｚ）,
波形（矩形波） 誘電体材質：Ａｌ2Ｏ3（接地側電極側へ配設） 誘電体厚さ：０．５ｍｍ 電極材質：ＳＵＳ 電極寸法：５０ｍｍ×２０ｍｍ（長手方向がガス流れ方
向） 放電間隔：１.５ｍｍ
下に示す。 ・ガス組成：ＮＯ（５００ｐｐｍ）＋Ｏ2（１０％）／
Ｎ2（バランス） ・ガス流量：５００ｃｃ／分 ・電源：電圧（２．８ｋＶｐ）,周波数（１０ｋＨｚ）,
波形（矩形波） 誘電体材質：Ａｌ2Ｏ3（接地側電極側へ配設） 誘電体厚さ：０．５ｍｍ 電極材質：ＳＵＳ 電極寸法：５０ｍｍ×２０ｍｍ（長手方向がガス流れ方
向） 放電間隔：１.５ｍｍ
【００４３】本実施例の試験結果を、表２及び図１１に
示す。
示す。
【００４４】
【表２】
【００４５】表２及び図１１に示すように、（１）から
（３）の凸状部を形成した場合には、（４）の従来のも
のに比較してプラズマガス分解率がいずれも高いもので
あった。
（３）の凸状部を形成した場合には、（４）の従来のも
のに比較してプラズマガス分解率がいずれも高いもので
あった。
【００４６】また、本発明にかかる（３）及び（４）の
反応容器は、（２）の容器よりも放電体積が少ないにも
かかわらず高い反応率を示した。
反応容器は、（２）の容器よりも放電体積が少ないにも
かかわらず高い反応率を示した。
【００４７】
【発明の効果】本発明によれば、誘電体の表面に凸状部
が形成されているので、導入されたガスが該凸状部に衝
突することになり、その結果ガス流速が減速されてガス
流速が均一となり、放電空間内の滞留時間が平滑面の場
合よりも全体として伸び、プラズマ処理効率が向上し、
高効率でガスの改質が可能となる。
が形成されているので、導入されたガスが該凸状部に衝
突することになり、その結果ガス流速が減速されてガス
流速が均一となり、放電空間内の滞留時間が平滑面の場
合よりも全体として伸び、プラズマ処理効率が向上し、
高効率でガスの改質が可能となる。
【図１】第１の実施の形態にかかるプラズマ反応容器の
概略図である。
概略図である。
【図２】凸状部の形状を示す概略図である。
【図３】第２の実施の形態にかかるプラズマ反応容器の
概略図である。
概略図である。
【図４】第３の実施の形態にかかるプラズマ反応容器の
概略図である。
概略図である。
【図５】第４の実施の形態にかかるプラズマ反応容器の
概略図である。
概略図である。
【図６】本実施例に試験装置の概略図である。
【図７】本実施例にかかる凸状部の構成を示す図であ
る。
る。
【図８】本実施例にかかる凸状部の構成を示す図であ
る。
る。
【図９】本実施例にかかる凸状部の構成を示す図であ
る。
る。
【図１０】実施例にかかるＣＯ2分解率のグラフであ
る。
る。
【図１１】実施例にかかるＮＯXの分解率のグラフであ
る。
る。
【図１２】平行平板型反応容器の概略図である。
【図１３】平行平板型反応容器内のガスの流速の概略図
である。
である。
１１Ａ 第１の金属製平板型電極 １１Ｂ 第２の金属製平板型電極 １２ 誘電体 １３ 電源 １４ 放電空間部 １５ ガス
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤代 秀行 埼玉県和光市中央１丁目４番１号 株式会 社本田技術研究所内 (72)発明者 堂坂 健児 埼玉県和光市中央１丁目４番１号 株式会 社本田技術研究所内 (72)発明者 鳥居 稔 埼玉県和光市中央１丁目４番１号 株式会 社本田技術研究所内 (72)発明者 安藤 和夫 埼玉県和光市中央１丁目４番１号 株式会 社本田技術研究所内 (72)発明者 小谷 耕爾 埼玉県和光市中央１丁目４番１号 株式会 社本田技術研究所内 Ｆターム(参考） 4G046 JA04 JB01 JB21 4G075 AA03 BA01 BA05 CA47 EB42 EC21 FA05 FC15
Claims (7)
- 【請求項１】 相対向する第１の平板型電極及び第２の
平板型電極と、これら第１及び第２の電極間に介装され
る誘電体と、前記第１及び第２の電極間に電位差を付与
する電位差付与手段とを備えてなり、前記第１及び第２
の電極間に高電圧を印加して導入したガスを電極間のプ
ラズマ分解領域で分解するプラズマ反応容器において、
前記誘電体の表面の両面またはいずれか一方に凸状部を
複数形成してなることを特徴とするプラズマ反応容器。 - 【請求項２】 請求項１において、前記誘電体を介装し
た第１及び第２の電極を１ユニットとし、該ユニットを
複数個積層してなることを特徴とするプラズマ反応容
器。 - 【請求項３】 請求項２において、隣接するユニットの
少なくとも一方の電極が共有されていることを特徴とす
るプラズマ反応容器。 - 【請求項４】 請求項１〜３の何れかにおいて、前記誘
電体の表面に形成した凸状部の平面形状が菱形、多角
形、円、長円、楕円形状のいずれかであることを特徴と
するプラズマ反応容器。 - 【請求項５】 請求項１〜４の何れかにおいて、前記誘
電体の表面に形成した凸状部の高さが一部異なることを
特徴とするプラズマ反応容器。 - 【請求項６】 請求項１〜５の何れかにおいて、前記誘
電体は、前記第１及び第２の電極の少なくとも一方と非
接触状態であることを特徴とするプラズマ反応容器。 - 【請求項７】 請求項１〜５の何れかにおいて、前記誘
電体と前記第１及び第２の電極とが接触していることを
特徴とするプラズマ反応容器。
Priority Applications (2)
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|---|---|---|---|
| JP2000140287A JP2001314752A (ja) | 2000-05-12 | 2000-05-12 | プラズマ反応容器及びガスプラズマ分解方法 |
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Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP2000140287A JP2001314752A (ja) | 2000-05-12 | 2000-05-12 | プラズマ反応容器及びガスプラズマ分解方法 |
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|---|---|
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|---|---|---|---|
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001314752A (ja) |
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