JP5093606B2 - 真空ラミネート装置 - Google Patents
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Description
また、基板が、長尺連続体の場合、基板が傾いて真空槽の搬入口から搬入されるとズレが拡大し、基板が搬入口の端に接触し、基板にダメージを与える点である。
また、本発明は、基板にフィルムを貼り合わせるための真空槽と、この真空槽の搬入口または搬出口に設けた一対のシールローラとを有する真空ラミネート装置において、前記一対のシールローラには回転軸を有していて、前記搬入口または搬出口を通過する前記基板またはフィルムの厚さより大きい高さで、前記一対のシールローラの間に隙間を一時的に開けるために、前記一対のシールローラの回転軸間を押し広げるくさびを設けることである。
(1)基板にフィルムを貼り合わせるための真空槽と、この真空槽の搬入口または搬出口に設けた一対のシールローラとを有する真空ラミネート装置において、前記搬入口または搬出口を通過する前記基板またはフィルムの厚さより大きい高さで、前記一対のシールローラの間に隙間を一時的に開けるための開放手段を設ける真空ラミネート装置。
(2)基板にフィルムを貼り合わせるための真空槽と、この真空槽の搬入口または搬出口に設けた一対のシールローラとを有する真空ラミネート装置において、前記一対のシールローラには回転軸を有していて、前記搬入口または搬出口を通過する前記基板またはフィルムの厚さより大きい高さで、前記一対のシールローラの間に隙間を一時的に開けるために、前記一対のシールローラの回転軸間を押し広げるくさびを設ける真空ラミネート装置。
金属性の軸には、一般的に銅、アルミニウム、鉄、ステンレスなどの金属、ステンレスや鉄にニッケル、マンガン、モリブデン、シリコンなどを添加した合金等が用いられる。
弾性体の材質は、シリコーンゴム、フッ素ゴム、エチレンプロピレンゴム、ニトリルブタジエンゴム、クロロプレーンゴムなどの耐熱性のあるエラストマが使用できる。無機ヒイラーを添加したりして硬度を調節する。また、基板の凹凸の状態により、表面が柔らかで背面が硬いような複層の弾性体や硬度の異なる複数枚の弾性体を用いてもよい。
ラミネートローラ2には、加熱手段を設け、また、ラミネートローラ2の表面には弾性体を設ける。
そして、一対のラミネートローラ2の一方には、ラミネートローラ2が上下に移動できるためのエアーまたは油圧シリンダ等の上下運動手段(表示は省く)を設け、他方のラミネートローラ2は、真空槽1の内壁に固定する。
図1の装置では、真空槽1内に設けた、ロール状に巻かれたフィルム供給手段6から供給された上下2枚のフィルム7を一対のラミネートローラ5間に通しながら、そのフィルム7間に入るように、右から基板4を、搬入口に設けた一対のシールローラ5間から挿入し、真空槽1内の搬送ローラ8により水平に保ちながら、ラミネートされる。ラミネート後、真空槽1の取り出し口に設けた一対のシールローラ5を通し、搬出ローラ9により水平に保ちながら、搬出される。
図2は、ラミネートローラと取り出し口のシールローラ部分の部分図(シールローラ間を一時的に開けるための開放手段の表示は省く)で、このフィルムのしわの除去方法を示している。
次に、図2(b)に示すように、フィルム供給手段6の回転を停止させた後、フィルム7の真空槽外に引き出した部分10を図2では左方向に、また幅方向にも広がるように引っ張って、フィルム7のたるみを除く。
次に、図2(c)に示すように、フィルム7の真空槽外に引き出した部分10を引っ張ったままで、一対のラミネートローラ2間を押し付け合って隙間をなくし、次に、一対のシールローラ5間を押し付け合って隙間をなくす。
以上の方法により、ラミネートをする前の段取りにおいて、フィルムのしわの除去を行う。
次に、一対のラミネートローラ2間の隙間を閉じて真空ラミネートを開始する。
Claims (2)
- 基板にフィルムを貼り合わせるための真空槽と、この真空槽の搬入口または搬出口に設けた一対のシールローラとを有する真空ラミネート装置において、前記搬入口または搬出口を通過する前記基板またはフィルムの厚さより大きい高さで、前記一対のシールローラの間に隙間を一時的に開けるための開放手段を設ける真空ラミネート装置。
- 基板にフィルムを貼り合わせるための真空槽と、この真空槽の搬入口または搬出口に設けた一対のシールローラとを有する真空ラミネート装置において、前記一対のシールローラには回転軸を有していて、前記搬入口または搬出口を通過する前記基板またはフィルムの厚さより大きい高さで、前記一対のシールローラの間に隙間を一時的に開けるために、前記一対のシールローラの回転軸間を押し広げるくさびを設ける真空ラミネート装置。
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JP2008173314A JP5093606B2 (ja) | 2008-07-02 | 2008-07-02 | 真空ラミネート装置 |
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