JP5091249B2 - 多層の硬化シリコーン樹脂組成物で被覆またはラミネートされたガラス基板 - Google Patents
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Description
本出願は、合衆国法典第35巻米国特許法第119条(e)のもとで、2006年12月20日出願に出願した米国仮特許出願番号第60/875,953号の利益を請求する。米国仮特許出願番号第60/875,953号を、参照により本明細書に援用する。
ヒドロシリル化硬化シリコーン樹脂組成物は、(A)ヒドロシリル化硬化性シリコーン樹脂、(B)架橋剤、および(C)ヒドロシリル化触媒を含むシリコーン樹脂組成物の硬化物を含む。この硬化物は、(A)、(B)、および(C)を含むシリコーン組成物を硬化させる工程を含む方法によって得られる。本明細書で定義する「硬化された」は、本発明のシリコーン組成物(構成成分、混合物、溶液またはブレンドの形態であり得る組成物)が、室温空気中に曝されたか、高温、例えば50℃から450℃までの温度あるいは100℃から200℃までの温度に加熱されたか、あるいは紫外線、電子線もしくはマイクロ波に曝されたことを意味する。本明細書で定義する「硬化する」は、本発明のシリコーン組成物(構成成分、混合物、溶液またはブレンドの形態であり得る組成物)を、室温空気中に曝すか、高温(50℃から450℃までの温度あるいは100℃から200℃までの温度)で加熱するか、あるいは紫外線、電子線もしくはマイクロ波に曝すことを意味する。加熱は、任意の公知の従来手段を用いて、例えばシリコーン組成物またはシリコーン組成物で被覆したガラスを、50℃から450℃までの温度、あるいは100℃から200℃までの温度に設定した空気循環オーブンに入れることにより行うことができる。
(R1R2 2SiO1/2)w(R2 2SiO2/2)x(R1SiO3/2)y(SiO4/2)z (I)
(式中、R1は上述のとおりであり、かつ、R2は、R1、または上述により例示したアルケニル基であり、w、x、y、およびzはモル分率である)。式(I)で表わされるシリコーン樹脂は平均で分子あたり少なくとも2個のケイ素に結合したアルケニル基を有する。より具体的には、下付き記号wは、典型的には0から0.8まで、あるいは0.02から0.75まで、あるいは0.05から0.3までの値を有する。下付き記号xは、典型的には0から0.6まで、あるいは0から0.45まで、あるいは0から0.25までの値を有する。下付き記号yは、典型的には0から0.99まで、あるいは0.25から0.8まで、あるいは0.5から0.8までの値を有する。下付き記号zは、典型的には0から0.35まで、あるいは0から0.25まで、あるいは0から0.15までの値を有する。またy+zの合計はゼロよりも大きく、典型的には0.2から0.99、あるいは0.5から0.95、あるいは0.65から0.9である。さらに、w+xの合計は、ゼロとなり得るが、典型的には0.01から0.80、あるいは0.05から0.5、あるいは0.1から0.35である。
(ViMe2SiO1/2)w(PhSiO3/2)y、(ViMe2SiO1/2)w(MeSiO3/2)y(PhSiO3/2)y、(ViMe2SiO1/2)w(PhSiO3/2)y(SiO4/2)z、および(Vi2MeSiO1/2)w(ViMe2SiO1/2)w(PhSiO3/2)y
(式中、Meはメチルであり、Viはビニルであり、Phはフェニルであり、かつ、w、y、またはzは、式(I)で上述したとおりである)。前述の式における単位の順序は、いかなる意味でも本発明の範囲を限定するものと解されるべきではない。上記式(I)で表わされるシリコーン樹脂の具体例として、これらだけに限定されないが、次の式を有する樹脂が挙げられる:
(Vi2MeSiO1/2)0.25(PhSiO3/2)0.75、(ViMe2SiO1/2)0.25(PhSiO3/2)0.75、(ViMe2SiO1/2)0.25(MeSiO3/2)0.25(PhSiO3/2)0.50、(ViMe2SiO1/2)0.15(PhSiO3/2)0.75(SiO4/2)0.1、および(Vi2MeSiO1/2)0.15(ViMe2SiO1/2)0.1(PhSiO3/2)0.75
(式中、Meはメチルであり、Viはビニルであり、Phはフェニルであり、かつ括弧の外側の下付き数字は、式(I)についてのw、x、y、またはzのいずれかに相当するモル分率を示す)。前述の式における単位の順序は、いかなる意味でも本発明の範囲を限定するものと解されるべきではない。
(R1R2 2SiO1/2)w(R2 2SiO2/2)x(R1SiO3/2)y(SiO4/2)z (II)
(式中、R1は上述のとおりであり、R2は、R1または水素原子であり、w、x、y、およびzはモル分率である)。式(II)で表わされるシリコーン樹脂は、平均で1分子あたり少なくとも2個のケイ素に結合した水素原子を有する。より具体的には、下付き記号wは、典型的には0から0.8まで、あるいは0.02から0.75まで、あるいは0.05から0.3までの値を有する。下付き記号xは、典型的には0から0.6まで、あるいは0から0.45まで、あるいは0から0.25までの値を有する。下付き記号yは、典型的には0から0.99まで、あるいは0.25から0.8まで、あるいは0.5から0.8までの値を有する。下付き記号zは、典型的には0から0.35まで、あるいは0から0.25まで、あるいは0から0.15までの値を有する。またy+zの合計は、ゼロよりも大きく、典型的には0.2から0.99、あるいは0.5から0.95、あるいは0.65から0.9である。さらに、w+xの合計は、ゼロとなり得るが、典型的には0.01から0.80、あるいは0.05から0.5、あるいは0.1から0.35である。
(HMe2SiO1/2)w(PhSiO3/2)y、(HMeSiO2/2)x(PhSiO3/2)y(MeSiO3/2)y、および(Me3SiO1/2)w(H2SiO2/2)x(MeSiO3/2)y(PhSiO3/2)y
(式中、Meはメチルであり、Phはフェニルであり、かつ、w、x、およびyは上述したとおりである)。前述の式における単位の順序は、いかなる意味でも本発明の範囲を限定するものと解されるべきではない。上記式(II)で表わされるシリコーン樹脂の具体例として、これらだけ限定されないが、次の式を有する樹脂が挙げられる:
(HMe2SiO1/2)0.25(PhSiO3/2)0.75、(HMeSiO2/2)0.3(PhSiO3/2)0.6(MeSiO3/2)0.1、および(Me3SiO1/2)0.1(H2SiO2/2)0.1(MeSiO3/2)0.4(PhSiO3/2)0.4
(式中、Meはメチルであり、Phはフェニルであり、かつ、括弧外の下付き数字はモル分率を示す)。前述の式における単位の順序は、いかなる意味でも本発明の範囲を限定するものと解されるべきではない。
HR1 2Si−R3−SiR1 2H (III)
〔式中、R1は、上に定義し、例示したとおりであり、R3は脂肪族不飽和を含まない、次の構造から選択される式を有するヒドロカルビレン基である:
PhSi(OSiMe2H)3、Si(OSiMe2H)4、MeSi(OSiMe2H)3、およびPh2Si(OSiMe2H)2、
(式中、Meはメチルであり、Phはフェニルである)。
(式中、Meはメチルであり、Phはフェニルであり、かつ、下付き文字nは2から10までの値を有する)。オルガノ水素ポリシロキサン樹脂中のR4で表わされる基の典型的には少なくとも50モル%、あるいは少なくとも65モル%、あるいは少なくとも80モル%は、少なくとも1個のケイ素結合水素原子を有するオルガノシリルアルキル基である。本明細書において、R4中のオルガノシリルアルキル基のモル%は、シリコーン樹脂中のケイ素に結合したオルガノシリルアルキル基のモル数の、樹脂中のR4基の合計モル数に対する比に100を掛けたものであると定義する。
(R1R4 2SiO1/2)w(R4 2SiO2/2)x(R1SiO3/2)y(SiO4/2)z (IV)
(式中、R1、R4、w、x、y、およびzは、それぞれ上で定義し、例示したとおりである)。
((HMe2SiC6H4SiMe2CH2CH2)2MeSiO1/2)w(PhSiO3/2)y、
((HMe2SiC6H4SiMe2CH2CH2)2MeSiO1/2)w(PhSiO3/2)y、
((HMe2SiC6H4SiMe2CH2CH2)2MeSiO1/2)w(MeSiO3/2)y(PhSiO3/2)y、
((HMe2SiC6H4SiMe2CH2CH2)2MeSiO1/2)w(PhSiO3/2)y(SiO4/2)z、および
((HMe2SiC6H4SiMe2CH2CH2)2MeSiO1/2)w((HMe2SiC6H4SiMe2CH2CH2)Me2SiO1/2)w(PhSiO3/2)y、
(式中、Meはメチルであり、Phはフェニルであり、C6H4はパラフェニレン基を示し、かつ、w、y、およびzは上で定義したとおりである。前述の式においける単位の順序はいかなる意味でも本発明の範囲を限定するものと解されるべきではない。オルガノ水素ポリシロキサン樹脂の具体例として、これらだけに限定されないが、次の式を有する樹脂が挙げられる:
((HMe2SiC6H4SiMe2CH2CH2)2MeSiO1/2)0.12(PhSiO3/2)0.88、
((HMe2SiC6H4SiMe2CH2CH2)2MeSiO1/2)0.17(PhSiO3/2)0.83、
((HMe2SiC6H4SiMe2CH2CH2)2MeSiO1/2)0.17(MeSiO3/2)0.17(PhSiO3/2)0.66、
((HMe2SiC6H4SiMe2CH2CH2)2MeSiO1/2)0.15(PhSiO3/2)0.75(SiO4/2)0.10、および
((HMe2SiC6H4SiMe2CH2CH2)2MeSiO1/2)0.08((HMe2SiC6H4SiMe2CH2CH2)Me2SiO1/2)0.06(PhSiO3/2)0.86
(式中、Meはメチルであり、Phはフェニルであり、C6H4はパラフェニレン基を示し、かつ、括弧の外の下付き数字はモル分率を示す)。前述の式における単位の順序は、いかなる意味においても本発明の範囲を限定するものと解されるべきではない。
(a)上記式(I)で表わされる式:
(R1R2 2SiO1/2)w(R2 2SiO2/2)x(R1SiO3/2)y(SiO4/2)z、
を有するシリコーン樹脂、および(b)1分子あたり平均で2から4個のケイ素結合水素原子を有し且つ1,000未満の分子量を有する有機ケイ素化合物を含む反応混合物を、
(c)ヒドロシリル化触媒、および(d)場合により有機溶剤の存在下で反応させることによって製造することができる。ここで、式中、R1、R2、w、x、y、およびzはそれぞれ上で定義し、例示したとおりである。ただし、シリコーン樹脂(a)が分子あたり平均で少なくとも2個のケイ素結合アルケニル基を有することを条件とし、かつ、(b)中のケイ素結合水素原子の、(a)中のアルケニル基に対するモル比が1.5から5までであることを条件とする。シリコーン樹脂(a)と、少なくとも1種のヒドロシリル化硬化性シリコーン樹脂を含むシリコーン組成物中の成分(A)として用いられる具体的なシリコーン樹脂とは同じであっても、異なっていてもよい。
Vi4Si、PhSiVi3、MeSiVi3、PhMeSiVi2、Ph2SiVi2、およびPhSi(CH2CH=CH2)3
(式中、Meはメチルであり、Phはフェニルであり、かつ、Viはビニルである)。
ViMe2SiO(Me2SiO)aSiMe2Vi、ViMe2SiO(Ph2SiO)aSiMe2Vi、およびViMe2SiO(PhMeSiO)aSiMe2Vi
(式中、Meはメチルであり、Phはフェニルであり、Viはビニルであり、下付き文字aは1から4までの値を有する)。シリコーンラバー(D)(i)は、単一のシリコーンラバーであっても、2以上の異なるシリコーンラバーを含み、各シリコーンラバーが(D)(i)の式を満たしている混合物であってもよい。
HMe2SiO(Me2SiO)bSiMe2H、HMe2SiO(Ph2SiO)bSiMe2H、HMe2SiO(PhMeSiO)bSiMe2H、およびHMe2SiO(Ph2SiO)2(Me2SiO)2SiMe2H
(式中、Meはメチルであり、Phはフェニルであり、かつ下付き文字bは1から4までの値を有する)。成分(D)(ii)は、単一のシリコーンラバーであっても、各シリコーンラバーが(D)(ii)の式を満たす2つ以上の異なるシリコーンラバーを含む混合物であってもよい。
R5R1 2SiO(R1R5SiO)cSiR1 2R5、および
R1R2 2SiO(R2 2SiO)dSiR2 2R1
(式中、R1およびR5は上で定義し、例示したとおりであり、cおよびdはそれぞれ、4より大きく1000まで、あるいは10から500まで、あるいは10から50までの値である)
とを、上述したヒドロシリル化触媒(c)および場合により上述した有機溶剤の存在下で反応させることを含む方法によって製造されるラバー変性シリコーン樹脂によって例示される。ただし、シリコーン樹脂(A)が1分子あたり平均して少なくとも2個のケイ素結合アルケニル基を有し、シリコーンラバー(D)(iii)が1分子あたり平均して少なくとも2個のケイ素結合水素原子を有することを条件とし、かつ、シリコーン樹脂(A)中ケイ素結合アルケニル基に対する、シリコーンラバー(D)(iii)中のケイ素結合水素原子のモル比が0.01から0.5であることを条件とする。有機溶剤が存在する場合には、ラバー変性シリコーン樹脂は有機溶剤に混和可能であり、沈澱や懸濁を形成しない。
(R1R6 2SiO1/2)w(R6 2SiO2/2)x(R6SiO3/2)y(SiO4/2)z (V)
(式中、R1は、上で定義し例示したとおりであり、R6は、R1、−H、−OH、または加水分解性基であり、かつw、x、y、およびzは、上で定義し例示したとおりであり、かつシリコーン樹脂(A1)は、1分子あたり平均して少なくとも2個のケイ素結合水素原子、少なくとも2個のケイ素結合ヒドロキシ基、または少なくとも2個のケイ素結合加水分解性基を有する)。本明細書において用語「加水分解性基」は、ケイ素結合基が、室温(約23±2℃)から100℃までの任意の温度で、数分、例えば30分以内で、触媒の不存在下で水と反応して、シラノール(Si−OH)基を形成することを意味する。R6で表わされる加水分解性基の例としては、これらだけに限定されないが、−Cl、−Br、−OR7、−OCH2CH2OR7、CH3C(=O)O−、Et(Me)C=N−O−、CH3C(=O)N(CH3)−、および−ONH2が挙げられる(式中、R7は、C1からC8のヒドロカルビルまたはC1からC8のハロゲン置換ヒドロカルビル基である)。
(Me(MeO)SiO2/2)x(MeSiO3/2)y、(Ph(HO)SiO2/2)x(PhSiO3/2)y、(Me3SiO1/2)w(CH3COOSiO3/2)y(SiO4/2)z、(Ph(MeO)SiO2/2)x(MeSiO3/2)y(PhSiO3/2)y、(Ph(MeO)(HO)SiO1/2)w(MeSiO3/2)y(PhSiO3/2)y(Ph2SiO2/2)x(PhMeSiO2/2)x、(PhMe(MeO)SiO1/2)w(Ph(HO)SiO2/2)x(MeSiO3/2)y(PhSiO3/2)y(PhMeSiO2/2)x、および(Ph(HO)SiO2/2)x(PhSiO3/2)y(MeSiO3/2)y(PhMeSiO2/2)x
(式中、Meはメチルであり、Phはフェニルであり、かつw、x、y、およびzは上に定義したとおりであり、下付き文字yは、シリコーン樹脂が500から50,000までの数平均分子量を有することとなる値である)。前述の式における単位の順序は、本発明の範囲を限定するもの解されるべきではない。
(Me(MeO)SiO2/2)0.05(Me3SiO1/2)0.75(SiO4/2)0.2、
(Ph(HO)SiO2/2)0.09(MeSiO3/2)0.67(PhSiO3/2)0.24、
(Ph(MeO)SiO2/2)0.05(MeSiO3/2)0.45(PhSiO3/2)0.35(Ph2SiO2/2)0.1(PhMeSiO2/2)0.05、
(PhMe(MeO)SiO1/2)0.02(PhSiO3/2)0.4(MeSiO3/2)0.45(PhSiO3/2)0.1(PhMeSiO2/2)0.03、
および(Ph(HO)SiO2/2)0.04(PhMe(MeO)SiO1/2)0.03(PhSiO3/2)0.36(MeSiO3/2)0.1(PhMeSiO2/2)0.47
(式中、Meはメチルであり、Phはフェニルであり、括弧の外側の下付き数字はモル分率を示す)。前述の式における単位の順序は、本発明の範囲を限定するものと解されるべきではない。
(i)次式:
(R1R6 2SiO1/2)w(R6 2SiO2/2)x(R6SiO3/2)y(SiO4/2)z
を有するシリコーン樹脂および(ii)上記(i)の前駆体から選択される有機ケイ素化合物と、
(iii)次式:
R8 3SiO(R1R8SiO)mSiR8 3
を有するシリコーンラバーと
を、水、(iv)縮合触媒および(v)有機溶剤の存在下で反応させることによって製造されるラバー変性シリコーン樹脂であってよい。式中、R1およびR6は、上で定義し例示したとおりであり、R8は、R1または加水分解性基であり、mは2から1,000まで、あるいは4から500まで、あるいは8から400までであり、w、x、y、およびzは上で定義し例示したとおりであり、かつ、シリコーン樹脂(i)は、1分子あたり平均して少なくとも2個のケイ素結合ヒドロキシまたはケイ素結合加水分解性基を有し、シリコーンラバー(iii)は、1分子あたり平均して少なくとも2個のケイ素結合加水分解性基を有し、かつ、シリコーン樹脂(i)中のケイ素結合ヒドロキシまたは加水分解性基に対するシリコーンラバー(iii)中のケイ素結合加水分解性基のモル比が0.01から1.5、あるいは0.05から0.8、あるいは0.2から0.5である。典型的には、シリコーン樹脂中の基R6の1モル%から30モル%、あるいは1モル%から15モル%が水素、ヒドロキシ、または加水分解性基である。
(Me(MeO)SiO2/2)x(MeSiO3/2)y、(Ph(HO)SiO2/2)x(PhSiO3/2)y、(Ph(MeO)SiO2/2)x(PhSiO3/2)y(MeSiO3/2)y(PhSiO3/2)y(PhMeSiO2/2)x、および(CH3COOSiO3/2)y(PhSiO3/2)y(SiO4/2)z(Me2SiO2/2)x(Ph2SiO2/2)x
(式中、Meはメチルであり、Phはフェニルであり、かつx、y、およびzは上で定義したとおりであり、下付き文字yは、シリコーン樹脂が500から50,000までの数平均分子量を有することになる値である)。前述の式における単位の順序は、本発明の範囲を限定するものと解されるべきではない。
(Ph(HO)SiO2/2)0.03(PhSiO3/2)0.37(MeSiO3/2)0.45(PhSiO3/2)0.1(PhMeSiO2/2)0.05、および(CH3COOSiO3/2)0.06(PhSiO3/2)0.3(SiO4/2)0.04(Me2SiO2/2)0.2(Ph2SiO2/2)0.4
(式中、Meはメチルであり、Phはフェニルであり、括弧の外側の下付き数字はモル分率を示す)。前述の式における単位の順序は、本発明の範囲を限定するものと解されるべきではない。シリコーン樹脂(i)は、単一のシリコーン樹脂であっても、各シリコーン樹脂が特定した式を有する二つ以上の異なるシリコーン樹脂を含む混合物であってもよい。
(EtO)3SiO(Me2SiO)55Si(OEt)3、(EtO)3SiO(Me2SiO)16Si(OEt)3、(EtO)3SiO(Me2SiO)386Si(OEt)3、および(EtO)2MeSiO(PhMeSiO)10SiMe(OEt)2(式中、Meはメチルであり、Etはエチルである)。
(R1R9 2SiO1/2)w(R9 2SiO2/2)x(R1SiO3/2)y(SiO4/2)z (VI)
(式中、R1は、上で定義し例示したとおりであり、R9はR1、アルケニル、またはアルキニルであり、かつw、x、y、およびzは上で定義し例示したとおりである)。
(Vi2MeSiO1/2)w(PhSiO3/2)y、(ViMe2SiO1/2)w(PhSiO3/2)y、(ViMe2SiO1/2)w(MeSiO3/2)y(PhSiO3/2)y、(ViMe2SiO1/2)w(PhSiO3/2)y(SiO4/2)z、および(Vi2MeSiO1/2)w(ViMe2SiO1/2)w(PhSiO3/2)y
(式中、Meはメチルであり、Viはビニルであり、Phはフェニルであり、かつ、w、y、およびzは上で定義したとおりである)。前述の式における単位の順序は、本発明の範囲を限定するものと解されるべきではない。これらのシリコーン樹脂の具体例として、次の式を有するシリコーン樹脂が挙げられる:
(Vi2MeSiO1/2)0.25(PhSiO3/2)0.75、(ViMe2SiO1/2)0.25(PhSiO3/2)0.75、(ViMe2SiO1/2)0.25(MeSiO3/2)0.25(PhSiO3/2)0.50、(ViMe2SiO1/2)0.15(PhSiO3/2)0.75(SiO4/2)0.1、および(Vi2MeSiO1/2)0.15(ViMe2SiO1/2)0.1(PhSiO3/2)0.75
(式中、Meはメチルであり、Viはビニルであり、Phはフェニルであり、かつ、括弧の外側の下付き数字はモル分率を示す)。前述の式における単位の順序は本発明の範囲を限定するものと解されるべきではない。
Vi4Si、PhSiVi3、MeSiVi3、PhMeSiVi2、Ph2SiVi2、およびPhSi(CH2CH=CH2)3
(式中、Meはメチルであり、Phはフェニルであり、Viはビニルである)。
PhSi(OSiMe2Vi)3、Si(OSiMe2Vi)4、MeSi(OSiMe2Vi)3、およびPh2Si(OSiMe2Vi)2
(式中、Meはメチルであり、Viはビニルであり、Phはフェニルである)。
トリメトキシフェニルシラン(200g)、テトラメチルジビニルジシロキサン(38.7g)、脱イオン水(65.5g)、トルエン(256g)、およびトリフルオロメタンスルホン酸(1.7g)を、ディーン・スターク・トラップと温度計とを備える三口丸底フラスコ中で混合した。混合物を、60から65℃で2時間加熱した。その後、混合物を加熱還流させ、水およびメタノールを、ディーン・スターク・トラップを用いて除去した。混合物の温度が80℃に達し、水およびメタノールの除去が完了すると、混合物を50℃未満に冷却した。炭酸カルシウム(3.3g)および水(約1g)を混合物に添加した。その後、混合物を室温で2時間撹拌し、次いで、水酸化カリウム(0.17g)を添加した。次いで、この混合物を加熱還流し、水をディーン・スターク・トラップを用いて除去した。反応物の温度が120℃に達し、水の除去が完了すると、混合物を40℃未満に冷却した。クロロジメチルビニルシラン(0.37g)をこの混合物に添加し、混合を室温で1時間続けた。混合物を濾過して、式:(PhSiO3/2)0.75(ViMe2SiO1/2)0.25を有するシリコーン樹脂(以下「シリコーン樹脂1」という)のトルエン溶液を得た。シリコーン樹脂1は、約1700の重量平均分子量を有し、約1440の数平均分子量を有し、かつ、約1モル%のケイ素結合ヒドロキシ基を含有する。溶液の量を調節して、トルエン中79.5重量%のシリコーン樹脂1を含む溶液を製造した。溶液中のシリコーン樹脂1の濃度は、溶液のサンプル(2.0g)をオーブン中150℃で1.5時間乾燥した後の重量損失を測定することによって決定した。
0211 Microglass(登録商標)板をコーニング社から入手した。シリコーン組成物Aを、メチルイソブチルケトン(MIBM)で25重量%に希釈した。希釈した組成物を、ジビニルテトラメチルジシロキサンとの錯体の形態の白金5ppmと混合した。触媒化した溶液を、70マイクロメートル厚のガラス板上に、スピン速度2000rpmかつスピン時間50秒でスピンコートした。被覆ガラス板は換気フード中に置き、3時間乾燥し、空気循環オーブンに移して100℃で1時間、次いで160℃で1時間、次いで200℃で1時間硬化させた。硬化後、ガラス板の反対側も同様にコーティングし、硬化させた。被覆の硬さを増すために、硬化ガラス板を350℃の窒素中で1時間アニーリング(焼きなまし)を行った。
0211 Microgalss(登録商標)板を、比較例1の方法に従ってコーティングした。シリコーン組成物Aの濃度を、75重量%に変更し、被覆8.5μm厚のものを得た。他の製法条件は比較例1と同じであった。
0211 Microglass(登録商標)板を、比較例1の方法に従ってコーティングした。シリコーン組成物Aの濃度を、93重量%に変更し、被覆25μm厚がのものを得た。他の製法条件は比較例1と同じであった。
比較例1の被覆ガラス板を、SDC Coating Technologies社からのシリコーン樹脂MP101クリスタル・コート・レジン〔(Me(MeO)SiO2/2)単位、(MeSiO3/2)単位、および(SiO4/2)単位を含み、イソプロパノール、水、酢酸、およびメタノールを含む混合溶剤に溶解された縮合硬化性シリコーン樹脂〕で被覆した。この樹脂溶液の固形分は25から35重量%であり、以下「シリコーン樹脂2」と表示する。シリコーン樹脂2を、シリコーン組成物Aの上に適用した。シリコーン樹脂2は希釈せずに使用し、スピンコート条件は第一層の条件と同じであった。これらの二重層被覆ガラス板を、空気循環オーブン中で次の温度手順に従って硬化させた:1℃/分で75℃まで、75℃で1時間、1℃/分で100℃まで、100℃で1時間、1℃/分で125℃まで、125℃で1時間。二重層被覆について4μmの合計厚さが得られた。
比較例2の被覆ガラス板を、実施例1に記述した方法と同じ方法を用いてシリコーン樹脂2で再び被覆した。二重層被覆について11μmの合計厚さを得た。本実施例で製造した二重層被覆および比較例2で製造した単一層被覆のモジュラスおよび硬さ値を、表1に含める。二重層被覆が、単一層被覆よりも10倍以上高い硬さを有していることが分かる。
比較例3の被覆ガラス板を、実施例1に記述した方法と同じ方法を用いてシリコーン樹脂2で被覆した。二重層被覆について28μmの合計厚さを得た。本実施例で製造した二重層被覆および比較例3で製造した単一層被覆のモジュラスおよび硬さ値を、表1に含める。再び非常に高い被覆硬さが二重層被覆で得られた。
Claims (9)
- (i)少なくとも一つのガラス基板;
(ii)前記ガラス基板の少なくとも一つの面の少なくとも一部の上の第一コーティング層;および
(iii)第一コーティング層の少なくとも一部の上の第二コーティング層
を含む製造品であって、
第一コーティング層が、ヒドロシリル化硬化シリコーン樹脂組成物、縮合硬化シリコーン樹脂組成物、もしくはフリーラジカル硬化シリコーン樹脂組成物から選択される硬化シリコーン樹脂組成物を含み;
第二コーティング層が、ヒドロシリル化硬化シリコーン樹脂組成物、縮合硬化シリコーン樹脂組成物、もしくはフリーラジカル硬化シリコーン樹脂組成物から選択される硬化シリコーン樹脂組成物を含み;
但し、第一コーティング層の硬化シリコーン樹脂組成物と第二コーティング層の硬化シリコーン樹脂組成物とが異なることを条件とし;
前記ヒドロシリル化硬化シリコーン樹脂組成物が、
(A)次式を有するシリコーン樹脂:
(R1R2 2SiO1/2)w(R2 2SiO2/2)x(R1SiO3/2)y(SiO4/2)z
(式中、R1は、いずれも脂肪族不飽和を含まない、C1からC10のヒドロカルビル基またはC1からC10のハロゲン置換ヒドロカルビル基であり、R2は、R1またはアルケニル基であり、wは0から0.8までの値を有し、xは0から0.6までの値を有し、yは0から0.99までの値を有し、zは0から0.35までの値を有し、y+zの合計は0.2から0.99であり、かつ、w+xの合計は0.01から0.80であり、但し、シリコーン樹脂(A)が、ケイ素に結合したアルケニル基を1分子あたり少なくとも2個有することを条件とする);
(B)ケイ素に結合した水素原子を1分子あたり少なくとも2個有するオルガノ水素シランまたはオルガノ水素シロキサン;および
(C)クロロ白金酸とビニル含有オルガノシロキサンとの錯体、白金族金属を表面に有する固体担体を含む担持型ヒドロシリル化触媒、および熱可塑性樹脂中に封止された白金族金属を含むマイクロカプセル化された白金族金属含有触媒から選択される白金含有触媒、または、前記白金含有触媒とヒドロシリル化触媒抑制剤との混合
を含むシリコーン組成物の硬化物であり;
前記縮合硬化シリコーン樹脂組成物が、
(A1)次式を有するシリコーン樹脂:
(R1R6 2SiO1/2)w(R6 2SiO2/2)x(R6SiO3/2)y(SiO4/2)z
(式中、R1は、いずれも脂肪族不飽和を含まない、C1からC10のヒドロカルビル基またはC1からC10のハロゲン置換ヒドロカルビル基であり、R6は、R1、−H、−OHまたは加水分解性基であり、wは0から0.8までの値を有し、xは0から0.6までの値を有し、yは0から0.99までの値を有し、zは0から0.35までの値を有し、y+zの合計は0.2から0.99であり、かつ、w+xの合計は0.01から0.80であり、但し、シリコーン樹脂(A1)が、1分子あたりに平均して、ケイ素に結合した水素原子を少なくとも2個、ケイ素に結合したヒドロキシ基を少なくとも2個、あるいはケイ素に結合した加水分解性基を少なくとも2個有することを条件とする);
(B1)次式を有する架橋剤: R7 qSiX4−q(式中、R7は、C1からC8のヒドロカルビル基またはC1からC8のハロゲン置換ヒドロカルビル基であり、Xは加水分解性基であり、かつqは0または1である);および
(C1)スズ(II)化合物およびスズ(IV)化合物から選択される縮合触媒
を含むシリコーン組成物の硬化物であり;かつ、
前記フリーラジカル硬化シリコーン樹脂組成物が、
(A2)次式を有するフリーラジカル硬化性シリコーン樹脂:
(R1R9 2SiO1/2)w(R9 2SiO2/2)x(R1SiO3/2)y(SiO4/2)z
(式中、R1は、いずれも脂肪族不飽和を含まない、C1からC10のヒドロカルビル基またはC1からC10のハロゲン置換ヒドロカルビル基であり、R9はR1、アルケニル、またはアルキニルであり、wは0から0.8までの値を有し、xは0から0.6までの値を有し、yは0から0.99までの値を有し、zは0から0.35までの値を有し、y+zの合計は0.2から0.99であり、w+xの合計は0.01から0.80であり、但し、シリコーン樹脂(A2)が、1分子あたりに平均して、ケイ素に結合したアルケニル基を少なくとも2個、あるいはケイ素に結合したアルキニル基を少なくとも2個有することを条件とする);
(B2)(i)1分子あたり少なくとも1個のケイ素に結合したアルケニル基を有する少なくとも1種の有機ケイ素化合物、(ii)1分子あたり少なくとも1個の脂肪族炭素−炭素二重結合を有する少なくとも1種の有機化合物、または(iii)(i)と(ii)とを含む混合物から選択される、500未満の分子量を有する不飽和化合物である架橋剤;および
(C2)フリーラジカル光開始剤または有機過酸化物
を含むシリコーン組成物の硬化物である、製造品。 - 前記製造品が、
(iv)前記第二コーティング層の少なくとも一部の上の第三コーティング層
、および
(v)第三コーティング層の少なくとも一部の上の一つ以上の追加のコーティング層
をさらに含み、
第三コーティング層が、前記硬化シリコーン樹脂組成物を含み;
追加のコーティング層が、前記硬化シリコーン樹脂組成物を含む
請求項1に記載の製造品。 - 第一コーティング層(ii)が前記ヒドロシリル化硬化シリコーン樹脂組成物を含み、第二コーティング層(iii)が前記縮合硬化シリコーン樹脂組成物を含む、請求項1に記載の製造品。
- 第三コーティング層(iv)が前記ヒドロシリル化硬化シリコーン樹脂組成物を含み、第四コーティング層(v)が前記縮合硬化シリコーン樹脂組成物を含む、請求項2に記載の製造品。
- (A)が、(ViMe2SiO1/2)w(PhSiO3/2)y、(ViMe2SiO1/2)w(MeSiO3/2)y(PhSiO3/2)y、(ViMe2SiO1/2)w(PhSiO3/2)y(SiO4/2)z、または(Vi2MeSiO1/2)w(ViMe2SiO1/2)w(PhSiO3/2)y(式中、Meはメチル基であり、Viはビニル基であり、Phはフェニル基であり、wは0.05から0.3までの値を有し、yは0.5から0.8、までの値を有し、zは0から0.15までの値を有する)であり;
(B)が、次式を有するオルガノ水素シラン:
HR1 2Si−R3−SiR1 2H
(式中、R1は、いずれも脂肪族不飽和を含まない、C1からC10のヒドロカルビル基またはC1からC10のハロゲン置換ヒドロカルビル基であり、かつ、R3は、脂肪族不飽和を含まないヒドロカルビレン基である)
であり;
(A1)が、(Me(MeO)SiO2/2)x(MeSiO3/2)y、(Ph(HO)SiO2/2)x(PhSiO3/2)y、(Me3SiO1/2)w(CH3COOSiO3/2)y(SiO4/2)z、(Ph(MeO)SiO2/2)x(MeSiO3/2)y(PhSiO3/2)y、(Ph(MeO)(HO)SiO1/2)w(MeSiO3/2)y(PhSiO3/2)y(Ph2SiO2/2)x(PhMeSiO2/2)x、(PhMe(MeO)SiO1/2)w(Ph(HO)SiO2/2)x(MeSiO3/2)y(PhSiO3/2)y(PhMeSiO2/2)x、または(Ph(HO)SiO2/2)x(PhSiO3/2)y(MeSiO3/2)y(PhMeSiO2/2)x
(式中、Meはメチル基であり、Phはフェニル基であり、wは0.05から0.3までの値を有し、xは0から0.25までの値を有し、yは0.5から0.8までの値を有し、zは0から0.15までの値を有し、下付き文字yは、シリコーン樹脂が500から50,000までの数平均分子量を有することとなる値である)であり;
(B1)が、MeSi(OCH3)3、CH3Si(OCH2CH3)3、CH3Si(OCH2CH2CH3)3、CH3Si[O(CH2)3CH3]3、CH3CH2Si(OCH2CH3)3、C6H5Si(OCH3)3、C6H5CH2Si(OCH3)3、C6H5Si(OCH2CH3)3、CH2=CHSi(OCH3)3、CH2=CHCH2Si(OCH3)3、CF3CH2CH2Si(OCH3)3、CH3Si(OCH2CH2OCH3)3、CF3CH2CH2Si(OCH2CH2OCH3)3、CH2=CHSi(OCH2CH2OCH3)3、CH2=CHCH2Si(OCH2CH2OCH3)3、C6H5Si(OCH2CH2OCH3)3、Si(OCH3)4、Si(OC2H5)4、Si(OC3H7)4、CH3Si(OCOCH3)3、CH3CH2Si(OCOCH3)3、CH2=CHSi(OCOCH3)3、CH3Si[O−N=C(CH3)CH2CH3]3、Si[O−N=C(CH3)CH2CH3]4、CH2=CHSi[O−N=C(CH3)CH2CH3]3、CH3Si[NHC(=O)CH3]3、C6H5Si[NHC(=O)CH3]3、CH3Si[NH(s−C4H9)]3、CH3Si(NHC6H11)3、またはオルガノアミノオキシシランであり;
(C1)が、スズジラウラート、スズジオクトエート、テトラブチルスズ、またはチタニウムテトラブトキシドであり;
(A2)が、(Vi2MeSiO1/2)w(PhSiO3/2)y、(ViMe2SiO1/2)w(PhSiO3/2)y、(ViMe2SiO1/2)w(MeSiO3/2)y(PhSiO3/2)y、(ViMe2SiO1/2)w(PhSiO3/2)y(SiO4/2)z、または(Vi2MeSiO1/2)w(ViMe2SiO1/2)w(PhSiO3/2)y
(式中、Meはメチル基であり、Viはビニル基であり、Phはフェニル基であり、wは0.05から0.3までの値を有し、yは0.5から0.8までの値を有し、zは0から0.15までの値を有する)であり;
が、
(i)Vi4Si、PhSiVi3、MeSiVi3、PhMeSiVi2、Ph2SiVi2 、PhSi(CH2CH=CH2)3、PhSi(OSiMe2Vi)3、Si(OSiMe2Vi)4、MeSi(OSiMe2Vi)3、またはPh2Si(OSiMe2Vi)2
(式中、Meはメチル基であり、Viはビニル基であり、Phはフェニル基である)、
(ii)1,4−ジビニルベンゼン、1,3−ヘキサジエニルベンゼン、または1,2−ジエテニルシクロブタン、および
(iii)(i)と(ii)とを含む混合物
から選択される、請求項1に記載の製造品。 - (i)少なくとも一つのガラス基板;
(ii)前記ガラス基板の少なくとも一つの面の少なくとも一部の上の第一コーティング層;および
(iii)第一コーティング層の少なくとも一部の上の第二コーティング層
を含む製造品であって、
第一コーティング層が、ヒドロシリル化硬化シリコーン樹脂組成物、縮合硬化シリコーン樹脂組成物、もしくはフリーラジカル硬化シリコーン樹脂組成物から選択される硬化シリコーン樹脂組成物を含み;
第二コーティング層が、ヒドロシリル化硬化シリコーン樹脂組成物、縮合硬化シリコーン樹脂組成物、もしくはフリーラジカル硬化シリコーン樹脂組成物から選択される硬化シリコーン樹脂組成物を含み;
但し、第一コーティング層の硬化シリコーン樹脂組成物と第二コーティング層の硬化シリコーン樹脂組成物とが異なることを条件とし;
前記ヒドロシリル化硬化シリコーン樹脂組成物が、
(A)次式を有するシリコーン樹脂:
(R1R2 2SiO1/2)w(R2 2SiO2/2)x(R1SiO3/2)y(SiO4/2)z
(式中、R1は、いずれも脂肪族不飽和を含まない、C1からC10のヒドロカルビル基またはC1からC10のハロゲン置換ヒドロカルビル基であり、R2は、R1またはアルケニル基であり、wは0から0.8までの値を有し、xは0から0.6までの値を有し、yは0から0.99までの値を有し、zは0から0.35までの値を有し、y+zの合計は0.2から0.99であり、かつ、w+xの合計は0.01から0.80であり、但し、シリコーン樹脂(A)が、ケイ素に結合したアルケニル基を1分子あたり少なくとも2個有することを条件とする);
(B)ケイ素に結合した水素原子を1分子あたり少なくとも2個有するオルガノ水素シランまたはオルガノ水素シロキサン;および
(C)ヒドロシリル化触媒、または、ヒドロシリル化触媒とヒドロシリル化触媒抑制剤との混合
を含むシリコーン組成物の硬化物であり;
前記縮合硬化シリコーン樹脂組成物が、
(A1)次式を有するシリコーン樹脂:
(R1R6 2SiO1/2)w(R6 2SiO2/2)x(R6SiO3/2)y(SiO4/2)z
(式中、R1は、いずれも脂肪族不飽和を含まない、C1からC10のヒドロカルビル基またはC1からC10のハロゲン置換ヒドロカルビル基であり、R6は、R1、−H、−OHまたは加水分解性基であり、wは0から0.8までの値を有し、xは0から0.6までの値を有し、yは0から0.99までの値を有し、zは0から0.35までの値を有し、y+zの合計は0.2から0.99であり、w+xの合計は0.01から0.80であり、但し、シリコーン樹脂(A1)が、1分子あたりに平均して、ケイ素に結合した水素原子を少なくとも2個、ケイ素に結合したヒドロキシ基を少なくとも2個、あるいはケイ素に結合した加水分解性基を少なくとも2個有することを条件とする);
(B1)次式を有する架橋剤: R7 qSiX4−q(式中、R7は、C1からC8のヒドロカルビル基またはC1からC8のハロゲン置換ヒドロカルビル基であり、Xは加水分解性基であり、かつqは0または1である);および
(C1)スズ(II)化合物およびスズ(IV)化合物から選択される縮合触媒
を含むシリコーン組成物の硬化物であり;かつ、
前記フリーラジカル硬化シリコーン樹脂組成物が、
(A2)次式を有するフリーラジカル硬化性シリコーン樹脂:
(R1R9 2SiO1/2)w(R9 2SiO2/2)x(R1SiO3/2)y(SiO4/2)z
(式中、R1は、いずれも脂肪族不飽和を含まない、C1からC10のヒドロカルビル基またはC1からC10のハロゲン置換ヒドロカルビル基であり、R9はR1、アルケニル、またはアルキニルであり、wは0から0.8までの値を有し、xは0から0.6までの値を有し、yは0から0.99までの値を有し、zは0から0.35までの値を有し、y+zの合計は0.2から0.99であり、w+xの合計は0.01から0.80であり、但し、シリコーン樹脂(A2)が、1分子あたりに平均して、ケイ素に結合したアルケニル基を少なくとも2個、あるいはケイ素に結合したアルキニル基を少なくとも2個有することを条件とする);
(B2)(i)1分子あたり少なくとも1個のケイ素に結合したアルケニル基を有する少なくとも1種の有機ケイ素化合物、(ii)1分子あたり少なくとも1個の脂肪族炭素−炭素二重結合を有する少なくとも1種の有機化合物、または(iii)(i)と(ii)とを含む混合物から選択される、500未満の分子量を有する不飽和化合物である架橋剤;および
(C2)フリーラジカル光開始剤または有機過酸化物
を含むシリコーン組成物の硬化物であり;
かつ、少なくとも1つの追加のガラス基板を含み、
但し、第一コーティング層(ii)および第二コーティング層を含む多層コーティングが、前記ガラス基板および追加のガラス基板のいずれの間にも挟まれていることを条件とする
、製造品。 - 前記多層コーティング層が各ガラス基板の両面に存在する、請求項7に記載の製造品。
- (A)が、(ViMe2SiO1/2)w(PhSiO3/2)y、(ViMe2SiO1/2)w(MeSiO3/2)y(PhSiO3/2)y、(ViMe2SiO1/2)w(PhSiO3/2)y(SiO4/2)z、または(Vi2MeSiO1/2)w(ViMe2SiO1/2)w(PhSiO3/2)y
(式中、Meはメチル基であり、Viはビニル基であり、Phはフェニル基であり、wは0.05から0.3までの値を有し、yは0.5から0.8までの値を有し、zは0から0.15までの値を有する)であり;
(B)が、次式を有するオルガノ水素シラン:
HR1 2Si−R3−SiR1 2H
(式中、R1は、いずれも脂肪族不飽和を含まない、C1からC10のヒドロカルビル基またはC1からC10のハロゲン置換ヒドロカルビル基であり、かつ、R3は、脂肪族不飽和を含まないヒドロカルビレン基である)
であり;
(A1)が、(Me(MeO)SiO2/2)x(MeSiO3/2)y、(Ph(HO)SiO2/2)x(PhSiO3/2)y、(Me3SiO1/2)w(CH3COOSiO3/2)y(SiO4/2)z、(Ph(MeO)SiO2/2)x(MeSiO3/2)y(PhSiO3/2)y、(Ph(MeO)(HO)SiO1/2)w(MeSiO3/2)y(PhSiO3/2)y(Ph2SiO2/2)x(PhMeSiO2/2)x、(PhMe(MeO)SiO1/2)w(Ph(HO)SiO2/2)x(MeSiO3/2)y(PhSiO3/2)y(PhMeSiO2/2)x、または(Ph(HO)SiO2/2)x(PhSiO3/2)y(MeSiO3/2)y(PhMeSiO2/2)x
(式中、Meはメチル基であり、Phはフェニル基であり、xは0から0.25までの値を有し、wは0.05から0.3までの値を有し、yは0.5から0.8までの値を有し、zは0から0.15までの値を有し、下付き文字yは、シリコーン樹脂が500から50,000までの数平均分子量を有することとなる値である)であり;
(B1)が、MeSi(OCH3)3、CH3Si(OCH2CH3)3、CH3Si(OCH2CH2CH3)3、CH3Si[O(CH2)3CH3]3、CH3CH2Si(OCH2CH3)3、C6H5Si(OCH3)3、C6H5CH2Si(OCH3)3、C6H5Si(OCH2CH3)3、CH2=CHSi(OCH3)3、CH2=CHCH2Si(OCH3)3、CF3CH2CH2Si(OCH3)3、CH3Si(OCH2CH2OCH3)3、CF3CH2CH2Si(OCH2CH2OCH3)3、CH2=CHSi(OCH2CH2OCH3)3、CH2=CHCH2Si(OCH2CH2OCH3)3、C6H5Si(OCH2CH2OCH3)3、Si(OCH3)4、Si(OC2H5)4、Si(OC3H7)4、CH3Si(OCOCH3)3、CH3CH2Si(OCOCH3)3、CH2=CHSi(OCOCH3)3、CH3Si[O−N=C(CH3)CH2CH3]3、Si[O−N=C(CH3)CH2CH3]4、CH2=CHSi[O−N=C(CH3)CH2CH3]3、CH3Si[NHC(=O)CH3]3、C6H5Si[NHC(=O)CH3]3、CH3Si[NH(s−C4H9)]3、CH3Si(NHC6H11)3、またはオルガノアミノオキシシランであり;
(C1)が、スズジラウラート、スズジオクトエート、テトラブチルスズ、またはチタニウムテトラブトキシドであり;
(A2)が、(Vi2MeSiO1/2)w(PhSiO3/2)y、(ViMe2SiO1/2)w(PhSiO3/2)y、(ViMe2SiO1/2)w(MeSiO3/2)y(PhSiO3/2)y、(ViMe2SiO1/2)w(PhSiO3/2)y(SiO4/2)z、または(Vi2MeSiO1/2)w(ViMe2SiO1/2)w(PhSiO3/2)y
(式中、Meはメチルであり、Viはビニルであり、Phはフェニルであり、wは0.05から0.3までの値を有し、yは0.5から0.8、までの値を有し、zは0から0.15までの値を有する)であり;
(B2)が、
(i)Vi4Si、PhSiVi3、MeSiVi3、PhMeSiVi2、Ph2SiVi2 、PhSi(CH2CH=CH2)3、PhSi(OSiMe2Vi)3、Si(OSiMe2Vi)4、MeSi(OSiMe2Vi)3、またはPh2Si(OSiMe2Vi)2
(式中、Meはメチルであり、Viはビニルであり、Phはフェニルである)、
(ii)1,4−ジビニルベンゼン、1,3−ヘキサジエニルベンゼン、または1,2−ジエテニルシクロブタン、および
(iii)(i)と(ii)とを含む混合物
から選択される、請求項7に記載の製造品。
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KR101762348B1 (ko) * | 2010-06-11 | 2017-07-27 | 가부시키가이샤 아데카 | 규소 함유 경화성 조성물, 그 규소 함유 경화성 조성물의 경화물 및 그 규소 함유 경화성 조성물로 형성되는 리드 프레임 기판 |
US8920931B2 (en) | 2010-08-23 | 2014-12-30 | Dow Corning Corporation | Phosphosiloxane resins, and curable silicone compositions, free-standing films, and laminates comprising the phosphosiloxane resins |
US11497681B2 (en) | 2012-02-28 | 2022-11-15 | Corning Incorporated | Glass articles with low-friction coatings |
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US10273048B2 (en) | 2012-06-07 | 2019-04-30 | Corning Incorporated | Delamination resistant glass containers with heat-tolerant coatings |
US9034442B2 (en) | 2012-11-30 | 2015-05-19 | Corning Incorporated | Strengthened borosilicate glass containers with improved damage tolerance |
US10117806B2 (en) | 2012-11-30 | 2018-11-06 | Corning Incorporated | Strengthened glass containers resistant to delamination and damage |
CN103130918B (zh) * | 2013-01-08 | 2014-09-03 | 武汉大学 | 一种水溶性聚硅烷-聚醚共聚物紫外光引发剂及制备方法和用途 |
KR101676523B1 (ko) * | 2013-12-10 | 2016-11-15 | 제일모직주식회사 | 복합시트 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 |
US9382449B2 (en) | 2014-09-19 | 2016-07-05 | Enki Technology, Inc. | Optical enhancing durable anti-reflective coating |
US9598586B2 (en) | 2014-07-14 | 2017-03-21 | Enki Technology, Inc. | Coating materials and methods for enhanced reliability |
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TWI705946B (zh) | 2014-09-05 | 2020-10-01 | 美商康寧公司 | 玻璃物品及改善玻璃物品可靠性的方法 |
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CN105058656A (zh) * | 2015-09-09 | 2015-11-18 | 李峰 | 玻璃覆膜制作方法 |
EP3150564B1 (en) | 2015-09-30 | 2018-12-05 | Corning Incorporated | Halogenated polyimide siloxane chemical compositions and glass articles with halogenated polylmide siloxane low-friction coatings |
CN105355692B (zh) * | 2015-11-20 | 2017-05-17 | 福州顺升科技有限公司 | 一种防老化高阻隔太阳能电池板背膜及其制备方法 |
CN105385343A (zh) * | 2015-11-30 | 2016-03-09 | 宁波瑞士达新材料有限公司 | 一种防眩光玻璃涂覆液配方 |
CN107303743B (zh) * | 2016-04-21 | 2023-04-07 | 广东生益科技股份有限公司 | 一种聚硅氧烷组合物层压板及其覆金属箔层压板 |
US10410883B2 (en) * | 2016-06-01 | 2019-09-10 | Corning Incorporated | Articles and methods of forming vias in substrates |
US10794679B2 (en) | 2016-06-29 | 2020-10-06 | Corning Incorporated | Method and system for measuring geometric parameters of through holes |
US11078112B2 (en) | 2017-05-25 | 2021-08-03 | Corning Incorporated | Silica-containing substrates with vias having an axially variable sidewall taper and methods for forming the same |
US10580725B2 (en) | 2017-05-25 | 2020-03-03 | Corning Incorporated | Articles having vias with geometry attributes and methods for fabricating the same |
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Family Cites Families (59)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL131800C (ja) * | 1965-05-17 | |||
US3615272A (en) * | 1968-11-04 | 1971-10-26 | Dow Corning | Condensed soluble hydrogensilsesquioxane resin |
LU60053A1 (ja) * | 1969-01-02 | 1970-02-18 | ||
US4087585A (en) * | 1977-05-23 | 1978-05-02 | Dow Corning Corporation | Self-adhering silicone compositions and preparations thereof |
FR2394394A1 (fr) | 1977-06-16 | 1979-01-12 | Cim | Panneau antifeu transparent |
US4260780A (en) * | 1979-11-27 | 1981-04-07 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Phenylmethylpolysilane polymers and process for their preparation |
US4276424A (en) * | 1979-12-03 | 1981-06-30 | Petrarch Systems | Methods for the production of organic polysilanes |
US4314956A (en) * | 1980-07-23 | 1982-02-09 | Dow Corning Corporation | High yield silicon carbide pre-ceramic polymers |
US4324901A (en) * | 1981-04-29 | 1982-04-13 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Soluble polysilastyrene and method for preparation |
US4530879A (en) * | 1983-03-04 | 1985-07-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Radiation activated addition reaction |
US4510094A (en) * | 1983-12-06 | 1985-04-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Platinum complex |
US4568566A (en) * | 1984-10-30 | 1986-02-04 | General Electric Company | Acrylic-functional silicone resin compositions |
US4766176A (en) * | 1987-07-20 | 1988-08-23 | Dow Corning Corporation | Storage stable heat curable organosiloxane compositions containing microencapsulated platinum-containing catalysts |
JPS6438473A (en) * | 1987-08-04 | 1989-02-08 | Toshiba Silicone | Release composition |
JPH0214244A (ja) | 1988-06-30 | 1990-01-18 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | 加熱硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
US4999397A (en) * | 1989-07-28 | 1991-03-12 | Dow Corning Corporation | Metastable silane hydrolyzates and process for their preparation |
US5010159A (en) * | 1989-09-01 | 1991-04-23 | Dow Corning Corporation | Process for the synthesis of soluble, condensed hydridosilicon resins containing low levels of silanol |
US5112779A (en) * | 1989-12-28 | 1992-05-12 | Dow Corning Corporation | High density silicon carbide sintered bodies from borosiloxanes |
US5063267A (en) * | 1990-11-28 | 1991-11-05 | Dow Corning Corporation | Hydrogen silsesquioxane resin fractions and their use as coating materials |
JP3029680B2 (ja) * | 1991-01-29 | 2000-04-04 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | オルガノペンタシロキサンおよびその製造方法 |
US6004679A (en) * | 1991-03-14 | 1999-12-21 | General Electric Company | Laminates containing addition-curable silicone adhesive compositions |
JP2511348B2 (ja) * | 1991-10-17 | 1996-06-26 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 |
JP3161786B2 (ja) * | 1991-11-20 | 2001-04-25 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 |
FR2688790B1 (fr) * | 1992-03-23 | 1994-05-13 | Rhone Poulenc Chimie | Compositions a base de polyorganosiloxanes a groupements fonctionnels reticulables et leur utilisation pour la realisation de revetements anti-adhesifs. |
JP3367964B2 (ja) * | 1992-04-21 | 2003-01-20 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | 硬化性樹脂組成物 |
DE4217432A1 (de) * | 1992-05-26 | 1993-12-02 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Glas mit verbesserter Langzeitstandfähigkeit bei erhöhten Temperaturen |
JP3786139B2 (ja) * | 1992-05-26 | 2006-06-14 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 硬化性シリコーン組成物 |
CA2120932C (en) * | 1992-08-11 | 2004-03-30 | Walter Egli | Transparent heat protection element |
US5861467A (en) * | 1993-05-18 | 1999-01-19 | Dow Corning Corporation | Radiation curable siloxane compositions containing vinyl ether functionality and methods for their preparation |
JP3406646B2 (ja) * | 1993-06-29 | 2003-05-12 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 |
US5468826A (en) * | 1994-05-10 | 1995-11-21 | Dow Corning Corporation | Adhesion promoting additives and curable organosiloxane compositions containing same |
DE4423195A1 (de) * | 1994-07-01 | 1996-01-04 | Wacker Chemie Gmbh | Triazenoxid-Übergangsmetall-Komplexe als Hydrosilylierungskatalysatoren |
US5738976A (en) * | 1995-03-16 | 1998-04-14 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Photo-curable organopolysiloxane composition and a method for producing a (meth) acryloyloxyl group-containing organopolysiloxane used therein |
US5824761A (en) * | 1995-05-18 | 1998-10-20 | Dow Corning Corporation | Radiation curable compositions containing vinyl ether functionality and methods for their preparation |
FR2739056B1 (fr) * | 1995-09-21 | 1997-10-24 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage feuillete,procede de fabrication de ce vitrage et ut ilisation de ce vitrage comme hublot d'une enceinte du type autocuiseur |
JP3730317B2 (ja) * | 1996-05-30 | 2006-01-05 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 人工大理石用熱硬化性樹脂組成物および人工大理石 |
DE19731416C1 (de) * | 1997-07-22 | 1998-09-17 | Vetrotech Saint Gobain Int Ag | Brandschutzverglasung |
US5880194A (en) * | 1997-09-09 | 1999-03-09 | Dow Corning Corporation | Firewall sealant |
DE10019355A1 (de) * | 2000-04-18 | 2001-10-31 | Schott Glas | Glaskörper mit erhöhter Festigkeit |
US6465550B1 (en) * | 2000-08-08 | 2002-10-15 | Dow Corning Corporation | Silicone composition and electrically conductive, cured silicone product |
US6592999B1 (en) * | 2001-07-31 | 2003-07-15 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Multi-layer composites formed from compositions having improved adhesion, coating compositions, and methods related thereto |
US6509423B1 (en) * | 2001-08-21 | 2003-01-21 | Dow Corning Corporation | Silicone composition and cured silicone product |
EP1339082A1 (en) | 2002-02-25 | 2003-08-27 | Asahi Glass Company Ltd. | Impact-resistant film for flat display panel, and flat display panel |
US6905904B2 (en) * | 2002-06-24 | 2005-06-14 | Dow Corning Corporation | Planar optical waveguide assembly and method of preparing same |
JP2006503121A (ja) * | 2002-08-01 | 2006-01-26 | セラム ポリメリック ピーティーワイ リミテッド | 耐火性シリコーンポリマー組成物 |
US6623864B1 (en) * | 2003-01-13 | 2003-09-23 | Dow Corning Corporation | Silicone composition useful in flame retardant applications |
DE10316521B3 (de) * | 2003-04-10 | 2004-08-05 | Wacker-Chemie Gmbh | Laminatglas mit Polysiloxan-Harnstoff-Copolymer und Verfahren zu seiner Herstellung |
JP4217881B2 (ja) * | 2003-04-28 | 2009-02-04 | 信越化学工業株式会社 | 機能性被膜の形成方法及び機能性被膜被覆物品 |
DE10329117A1 (de) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Siemens Ag | Kunststoffmasse, Erzeugnis mit der Kunststoffmasse und Verwendung der Kunststoffmasse |
US20070111014A1 (en) * | 2003-08-01 | 2007-05-17 | Dow Corning Corporation | Silicone based dielectric coatings and films for photovoltaic applications |
US7452956B2 (en) * | 2003-10-10 | 2008-11-18 | Dow Corning Corporation | Urethane compositions containing carbinol-functional silicone resins |
US20070122631A1 (en) * | 2003-11-13 | 2007-05-31 | Akiji Higuchi | Flexible substrate and coating liquid |
CN101044209B (zh) * | 2004-11-19 | 2011-01-19 | 陶氏康宁公司 | 聚硅氧烷组合物和固化的有机硅树脂 |
ATE528355T1 (de) | 2005-02-16 | 2011-10-15 | Dow Corning | Verstärkte silikonharzfolie und herstellungsverfahren dafür |
WO2006088645A1 (en) | 2005-02-16 | 2006-08-24 | Dow Corning Corporation | Reinforced silicone resin film and method of preparing same |
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JP5043317B2 (ja) | 2005-08-05 | 2012-10-10 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 環状ジハイドロジェンポリシロキサン、ハイドロジェンポリシロキサン、それらの製造方法、シリカ系ガラス成形体およびその製造方法、光学素子およびその製造方法 |
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