JP5060999B2 - ベーンポンプ - Google Patents
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Description
また、キャビティまたはその近傍に流体渦を生じさせ、その流体渦の負圧を利用してベーンに突出方向の付勢力を与えることができる。
Cv キャビティ
RD 回転方向
1 ベーンポンプ
2 ケーシング
3 リング(ケーシング)
3a 内周面(摺接面)
4,4A,4B,4C,4D 回転部
5,5A,5B,5C,5D 基体部
6 環状室
7 スリット
7a 側面
8,8A,8C,8D ベーン
8a (突出側の)端部
8b 先端凹部
8c 側面
8d 端部
8e 突起
9 ポンプ室
35 付勢機構
35A 連通路(貫通孔)
35B 連通路(凹溝)
35C 連通路(凹溝)
Claims (1)
- ケーシング内で回転する回転部の基体部に当該回転部の回転軸の径方向と交叉しつつ径外側に向けて直線状に伸びて径外側に開口する複数のスリットを形成し、各スリットにベーンを突没可能に収容し、ケーシング内で前記基体部の周囲に形成された環状室を前記複数のベーンで区画して複数のポンプ室を形成し、回転部を回転させることで前記ポンプ室の容積を周期的に増減させて当該ポンプ室に吸入した流体を吐出するように構成したベーンポンプにおいて、
流体の作用によって前記ベーンに突没方向突出側の付勢力を付加する付勢機構を設け、
前記ベーンの突没方向突出側端部の回転方向手前側の部分を回転方向先方側に向けて凹設して先端凹部を設け、当該先端凹部とベーンの突没方向突出側の端部が摺接する摺接面との間にキャビティを形成し、
前記キャビティは、前記ベーンが前記スリットに対して突出する状態から没入する状態にわたり形成され、
前記付勢機構を、ベーンの内周面に対する相対移動に伴って前記キャビティまたはその近傍に流体渦を生じさせ、当該流体渦の負圧によってベーンを突没方向突出側に付勢するものとして構成したことを特徴とするベーンポンプ。
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Applications Claiming Priority (1)
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- 2008-03-19 JP JP2008071634A patent/JP5060999B2/ja not_active Expired - Fee Related
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