JP2011241687A - ベーンポンプ - Google Patents

Abstract

【課題】空気溜まりができるのを抑制してポンプ効率を高めることの可能なベーンポンプを得る。
【解決手段】回転可能な回転部４をケーシング２内に設けるとともに、前記回転部４に、当該回転部４の天面５ｃに凹設され且つ当該回転部４の回転軸Ａｘに対して放射状に伸びて径外方向に開口する複数のスリット７を形成し、当該スリット７にベーン８をスライド可能に収容したベーンポンプ１において、ベーン８をスリット７への収容状態で当該スリット７から回転軸Ａｘの軸方向上側に突出させる。
【選択図】図５

Description

本発明は、ベーンポンプに関する。

従来のベーンポンプとして、ケーシング内に円柱状の回転部と、当該回転部の天面に凹設され、回転軸に対して放射状に伸びるスリットと、当該スリットに突没可能に収容されるベーンとを設けたものが知られている（例えば、特許文献１参照）。

この特許文献１では、回転部の天面とこの天面に対向するケーシングの対向面との隙間に空気溜まりができるのを抑制するため、ベーンの天面を回転部の天面と同面またはそれ以下となるように（即ち、ベーンがスリット内に収まるように）してベーンが対向面に当たらないようにしつつ、隙間を可能な限り小さくする構成となっている。

特開２０１０−２４９４３号公報

しかしながら、上記従来技術のように隙間を小さくしようとしても、製造時の製造誤差などによって製品にバラツキが生じるため、回転部の天面とこの天面に対向するケーシングの対向面との隙間が拡大したり変動したりしてしまう恐れがある。このように、回転部の天面とケーシングの対向面との隙間が拡大してしまうと空気溜まりが発生して、ポンプ効率が低下してしまう恐れがあった。

そこで、本発明は、空気溜まりができるのを抑制してポンプ効率を高めることの可能なベーンポンプを得ることを目的とする。

かかる課題を解決するために、本発明は、回転可能な回転部をケーシング内に設けるとともに、前記回転部に、当該回転部の天面に凹設され且つ当該回転部の回転軸に対して放射状に伸びて径外方向に開口する複数のスリットを形成し、当該スリットにベーンをスライド可能に収容したベーンポンプであって、前記ベーンを、前記スリットへの収容状態で当該スリットから前記回転軸の軸方向上側に突出させたことを特徴とする。

本発明によれば、ベーンをスリットへの収容状態で当該スリットから回転軸の軸方向上側に突出させるようにしたので、突出したベーンの回転運動と径外方向への往復運動とにより、回転部の天面と当該天面に対向するケーシングの対向面との隙間に滞留する空気を粉砕して空気溜まりができるのを抑制でき、ポンプ効率を高めることができる。

本発明の第１実施形態にかかるベーンポンプの回転軸と直交する断面での断面図である。 本発明の第１実施形態にかかるベーンポンプの回転軸を含む断面での断面図である。 本発明の第１実施形態にかかるベーンポンプの分解斜視図である。 図２の一部の拡大図である。 図１のＶ−Ｖ断面図である。 本発明の第２実施形態にかかる図１と同一位置のＶ−Ｖ断面図である。 本発明の第３実施形態にかかる図１と同一位置のＶ−Ｖ断面図である。 本発明の第４実施形態にかかる図１と同一位置のＶ−Ｖ断面図である。 本発明の第５実施形態にかかる図１と同一位置のＶ−Ｖ断面図である。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、以下の複数の実施形態には、同様の構成要素が含まれている。よって、以下では、それら同様の構成要素には共通の符号を付与するとともに、重複する説明を省略する。

［第１実施形態］
図１〜図５は、本発明の第１実施形態にかかるベーンポンプを示した図である。なお、以下では、便宜上、図２〜４の上側を回転軸Ａｘの軸方向一方側、下側を軸方向他方側とする。まずは、図１を参照して、ベーンポンプ１の作動流体の吸入および吐出に関わる構成について説明する。

本実施形態にかかるベーンポンプ１では、図１に示すように、ケーシング２内で、円環状のリング３の略円筒状の内周面３ａと回転軸Ａｘを中心に回転する回転部４の略円柱状の基体部５の外周面５ａとの間に、作動流体（液体）を収容する環状室６が形成されている。環状室６の幅ｗは、回転軸Ａｘの周方向に沿って変化している。本実施形態では、内周面３ａの中心Ｃと回転軸Ａｘとを平行にずらして、リング３の内周面３ａと回転部４の基体部５とを偏心させてある。このため、環状室６の幅ｗは、図１の右端の位置で最小となり、当該右端の位置から時計回り方向に徐々に拡がって左端の位置で最大となり、当該左端の位置から右端の位置に向けて時計回り方向に徐々に狭まって最小となっている。

基体部５には、回転部４の回転軸Ａｘに対して放射状に伸びて径外方向に開口する複数（本実施形態では４つ）のスリット７が形成されており、各スリット７には略角棒状または略帯板状のベーン８が突没可能（即ち、スライド可能）に収容されている。ベーン８は、回転部４の回転に伴って生じる遠心力とスリット７内の回転軸Ａｘ側に導入される作動流体の与圧によって、スリット７内で径外方向に付勢されている。このため、ベーン８は内周面３ａと摺接しながら回転部４とともに回転することになる。

環状室６は、周方向に一定のピッチで配置された複数のベーン８によって、同数（本実施形態では４つ）のポンプ室９に区画されている。回転部４およびベーン８の回転に伴い、ポンプ室９の容積は、環状室６の幅ｗの変化に従って変化することになる。すなわち、各ポンプ室９の容積は、図１の右端の位置で最小となっている。そして、回転部４の回転方向ＲＤ（図１の時計回り方向）への回転に伴って漸増し、左端の位置で最大となる。その位置からさらに回転部４が時計回り方向に回転すると、ポンプ室９の容積は漸減し、右端の位置で最小となる。つまり、本実施形態では、回転部４の１周回のうち図１の下半分の区間でポンプ室９の容積が拡大し、上半分の区間でポンプ室９の容積が縮小する。このため、リング３の内周面３ａおよびケーシング２（第１のケーシング１０）に、ポンプ室９の容積が拡大する区間に臨ませて吸入開口１１を設けるとともに、ポンプ室９の容積が縮小する区間に臨ませて吐出開口１２を設けてある。吸入開口１１は、第１のケーシング１０の側面上に突設された吸入パイプ１３内の吸入通路１４と連通し、吐出開口１２は、吸入パイプ１３と平行に突設された吐出パイプ１５内の吐出通路１６と連通している。

したがって、図１において、回転部４が回転方向ＲＤに回転すると、隣接する２枚のベーン８によって区画されるポンプ室９は、右端の位置から容積を拡大させながら左端の位置まで移動する。このため、吸入通路１４から吸入開口１１を介してポンプ室９内に作動流体が流入する。そして、ポンプ室９は、左端の位置から容積を縮小しながら右端の位置まで移動する。このため、当該ポンプ室９から吐出開口１２を介して吐出通路１６に作動流体が流出する。複数のポンプ室９についてこのような作動流体の流入および流出が順次行われ、以て、ベーンポンプ１による連続的な作動流体の吸入および吐出が実現されている。

次に、図１〜図５を参照して、本実施形態にかかるベーンポンプ１の各部の構成を詳細に説明する。

図２に示すように、回転部４の基体部５に形成されたスリット７は、軸方向他方側で、底壁部１７によって塞がれており、ベーン８は、この底壁部１７と摺接しながらスリット７内を往復動するようになっている。すなわち、本実施形態では、回転部４の天面としての基体部５の天面５ｃに略四角柱状のスリット７が凹設されている。

なお、底壁部１７には、スリット７の径内側に連通する連通孔１７ａが形成されており、この連通孔１７ａを介してスリット７内に、底壁部１７の裏側（軸方向他方側）から作動流体の与圧が導入されるようになっている。

底壁部１７は、回転軸Ａｘを中心とし当該回転軸Ａｘと直交する円板状に形成されており、基体部５の外周面５ａより外側までフランジ状に張り出している。そして、この底壁部１７の外周縁に、略円筒状のスカート部１８が突設されている。スカート部１８は、回転軸Ａｘと同心となっており、基体部５から離間する側（軸方向他方側）に向けて略一定の厚みで突出している。

このスカート部１８は、回転部４を駆動するモータ１９の回転子（ロータ）として機能するものであり、コイルの巻回されたステータコア２０のティース２０ａに対応して周方向に沿ってＮ極Ｓ極が交互に着磁された着磁部１８ａを含んでいる。スカート部１８のうち少なくとも着磁部１８ａとして機能する部分は、磁性材料によって構成される。この場合、スカート部１８のうちティース２０ａに対向する部分のみを磁性材料（例えばフェライト磁石やサマリウムコバルト磁石等の硬磁性材料）によって構成してもよいし、スカート部１８全体を磁性材料によって構成しても良いし、回転部４全体を磁性材料によって構成してもよい。この場合、樹脂材料に磁性材料からなる粉状や粒状の磁性フィラーを混合して、回転部４やスカート部１８を成形することも可能である。

また、図１，図３に示すように、基体部５の外周面５ａは一定のピッチで径内方向に凹設され、これにより羽根部５ｂが形成されている。この羽根部５ｂは、基体部５（回転部４）とともに回転し、吸入開口１１と対峙するときにはポンプ室９への作動流体の吸入性能を高めるとともに、吐出開口１２と対峙するときにはポンプ室９からの作動流体の排出性能を高めている。

また、図２に示すように、基体部５（回転部４）の中央部には、シャフト２１を回転自在に支持する軸受部２２が固定されている。この軸受部２２は、メタルブッシュ等の滑り軸受としてもよいし、ニードルベアリング等の転がり軸受としてもよい。

そして、回転部４は、ケーシング２によって形成される内部空間２ａ（図２参照）内で回転軸Ａｘ回りに回転するように構成されている。本実施形態では、ケーシング２は、軸方向一方側（図２および図３の上側）に位置する第１のケーシング１０と、軸方向他方側（図２および図３の下側）に位置する第２のケーシング２３と、環状室６の外周面（リング３の内周面３ａ）を形成するリング３とを備えている。

リング３は、図３にも示すように、環状室６の外周面を形成する筒状部３ｂと、筒状部３ｂの軸方向他方側から回転軸Ａｘの径外方向に張り出すフランジ部３ｃとを備え、さらに、吸入通路１４および吐出通路１６の側壁の一部を成すリブ３ｄを備えている。円板環状のフランジ部３ｃから回転軸Ａｘの軸方向に筒状部３ｂとリブ３ｄとが略同じ高さで立設された形状となっている。

このリング３は、図２に示すように、第１のケーシング１０に形成された凹部１０ｂ内に収容される。すなわち、この凹部１０ｂは、リング３の筒状部３ｂとリブ３ｄを嵌合する形状に凹設されている。また、リング３のフランジ部３ｃの外周部３ｅは、凹部１０の反対側で第２のケーシング２３の環状壁部２３ａと接触しており、この部分が第１のケーシング１０と第２のケーシング２３とによって挟持されることで、リング３が回転軸Ａｘの軸方向に固定されている。

第２のケーシング２３には、回転部４のスカート部１８を収容する略円環状の凹部２３ｂと、回転部４の軸受部２２のうち第２のケーシング２３側（軸方向他方側、図２および図３の下側）に突出する部分を収容する凹部２３ｃとが形成されている。

凹部２３ｂの外周にある環状壁部２３ａより径外側の領域は、第１のケーシング１０との当接面となる。この当接面には、Ｏリング３４用の溝部２３ｄを略円環状に形成し、この溝部２３ｄ内に装着したＯリング３４によって、第１のケーシング１０と第２のケーシング２３との境界部分でのシールを確保してある。なお、この境界部分以外の部材同士の境界部分（例えばリング３のフランジ部３ｃと第１のケーシング１０との間の境界面等）にも適宜にシール部材（例えばガスケットやＯリング等）を介在させ、各境界部分のシール性能を向上させるようにしてもよい。

凹部２３ｃの底壁部２３ｅと、第１のケーシング１０の突起部１０ｃとの間にはシャフト２１が架設され、このシャフト２１の中心が回転軸Ａｘとなっている。シャフト２１は、回転部４の中心に設けた軸受部２２を貫通し、当該軸受部２２に回転自在に支持されている。

また、図２に示すように、凹部２３ｂと凹部２３ｃとの間には、回転部４の反対側（軸方向他方側、図２の下側）から回転部４側に向けて突設された環状の突起部２３ｆが形成されており、この突起部２３ｆの裏側となる環状の凹部２３ｊ内にモータ１９をなすステータコア２０が収容されている。

ステータコア２０は、図２，図３に示すように、基板２４の表面２４ａの中央に取り付けられており、回転軸Ａｘと同心で中央に位置する円筒部２０ｂと、円筒部２０ｂから放射状に伸びてコイルが巻回された複数のティース２０ａとを備えている。

そして、基板２４のステータコア２０を設けた表面２４ａに対して反対側（軸方向他方側、図２の下側）となる裏面２４ｂには、各種電子部品（図示せず）が実装され、モータ１９の駆動回路やその他の回路が形成されている。本実施形態では、基板２４に形成された駆動回路によって各ティース２０ａに巻回されたコイルの通電状態を適宜に切り替えてティース２０ａの外周部分における極性を切り替え、これにより、ティース２０ａに対して径外方向に対向する着磁部１８ａ（スカート部１８）に周方向の推力を与え、以て、回転部４を回転させるようになっている。よって、第２のケーシング２３のうち、少なくとも、ステータコア２０（ティース２０ａ）の外周部とスカート部１８との間に介在する隔壁部２３ｇは、透磁性を有するものとする必要がある。このため、隔壁部２３ｇあるいは第２のケーシング２３の全体が、透磁性を有する材料（例えばステンレススチールや、樹脂材料等）で形成される。

基板２４は、凹部２３ｃを回転部４の反対側（軸方向他方側）から塞ぐようにして取り付けられており、さらに、基板２４を、基板カバー２５によって、回転部４の反対側（軸方向他方側）から覆ってある。基板カバー２５には、基板２４との間に電子部品を配置する間隔を確保するため、突条２５ａを設けてある。

第１のケーシング１０および第２のケーシング２３は、いずれも回転軸Ａｘに沿う軸方向視で略正方形状の外形状を呈している。そして、これらケーシング１０，２３の四隅に、これらを締結するねじ２６の貫通孔１０ａ，２３ｋを形成してある。これら貫通孔１０ａ，２３ｋおよび基板カバー２５の四隅に形成された貫通孔２５ｂにねじ２６を挿通して、ナット２７を螺結することで、ベーンポンプ１が組み立てられる。

なお、ベーンポンプ１をなす上記各構成部品の材料や製造方法は、上述した着磁性や透磁性の他、耐摩耗性、耐食性、耐膨潤性、成形性、部品精度等を考慮して適宜に選択される。

また、本実施形態では、回転部４に、その回転に伴って上記回転軸Ａｘの軸方向一方側（図２，図３では上側）への流体力を発生させる流体力発生部２８を設け、回転部４を、底壁部１７を設けた側と反対側に位置する第１のケーシング１０に押し付けるようにしている。流体力発生部２８は、スカート部１８の軸方向他方側の端面１８ｂに、回転部４の回転方向ＲＤに対して傾斜する傾斜面として設けてある。傾斜面は、回転方向ＲＤの手前側から先方側にかけて軸方向他方側から一方側（図３の下側から上側）に向けて傾斜して設定してある。このため、回転部４の回転に伴ってこの傾斜面に当たった作動流体は、回転部４に流体力を作用させ、軸方向一方側（図３の上側）に押し上げることになる。

そして、かかる軸方向一方側に向けて作用する流体力（推力）を受けながら回転する回転部４を摺動可能に支持するため、第１のケーシング１０には、図４に示すように、スラスト支持部２９を設けてある。具体的には、第１のケーシング１０においてシャフト２１を嵌挿して支持する部分を軸方向他方側へ突出させて突起部１０ｃを形成し、この突起部１０ｃの頂面１０ｄに、ワッシャ３０を介して、回転部４（基体部５）の中央部に形成した凹部４ａの底面４ｂを突き当てている。本実施形態では、スラスト支持部２９にワッシャ３０を介在させるとともに、このワッシャ３０に回転部４の中央部に設けた軸受部２２の軸方向端面２２ａ（凹部４ａの底面４ｂに一部露出させて設けてある）を突き当てることで、耐摩耗性を高め易くしている。すなわち、かかる構成により、この部分の耐摩耗性はワッシャ３０と軸受部２２との摺接部分のスペック（材質、寸法、硬化処理等）によって調整し、回転部４の本体部分（基体部５、底壁部１７等）のスペックは、軽量化や、他の摺動部分の摺動性、耐食性等の観点から選定することができる。

そして、図４に示すように、スラスト支持部２９における摺動部分の直径Ｄ２を、基体部５の直径Ｄ１より小さくしてある。流体力発生部２８を設けた場合に、特段スラスト支持する部分を設けないと、基体部５の端面５ｃが第１のケーシング１０と摺接することになって、摺動抵抗が増大してしまう虞がある。この点、本実施形態では、摺動部分の直径Ｄ２を基体部５の直径Ｄ１より小さくしたため、摺動抵抗をより低減して、フリクションをより低減することができる。

なお、図２に示すように、底壁部１７の軸方向一方側の端面１７ｂとリング３の軸方向他方側の端面３ｆとの間の隙間３１は狭く設定し、これら端面１７ｂ，３ｆ間の隙間からのリーク流量を可及的に減らしてある。また、軸受部２２の軸方向他方側にもワッシャ３０を介在させてある。

ここで、本実施形態では、図５に示すように、ベーン８をスリット７への収容状態で当該スリット７から回転軸Ａｘの軸方向一方側（上側）に突出させて配置するようにしている。

具体的には、本実施形態では、ベーン８の厚さをスリット７の深さよりも厚く形成することで、ベーン８をスリット７から突出させている。なお、ベーン８の厚さとスリット７の深さを同一に形成するとともに、ベーン８の底面８ｄに嵩上げ部材などを取り付けることで、ベーン８をスリット７から突出させるようにしてもよい。

このように、ベーン８をスリット７から突出させることで、突出したベーン８の回転運動と径外方向への往復運動とにより、回転部４（基体部５）の天面５ｃと当該天面５ｃに対向するケーシング２の対向面（即ち、第１のケーシング１０の軸方向他方側の端面１０ｅ）との隙間ｇに滞留する空気を粉砕することができる。

以上、説明してきたように、本実施形態のベーンポンプ１によれば、ベーン８をスリット７への収容状態で当該スリット７から回転軸Ａｘの軸方向上側に突出させるようにしたので、回転部４（基体部５）の天面５ｃと当該天面５ｃに対向するケーシング２の対向面（即ち、第１のケーシング１０の軸方向他方側の端面１０ｅ）との隙間ｇに空気溜まりができるのを抑制でき、ポンプ効率を高めることができる。

また、本実施形態では、流体力発生部２８によって回転部４を回転軸Ａｘの軸方向一方側に押し上げるようにした。かかる構成により、回転部４をケーシング２の軸方向一方側（すなわち第１のケーシング１０）に突き当てて、回転部４が回転中に軸方向に往復動するのを抑制することができ、当該往復動によって、振動や騒音が生じるのを抑制することができる。また、図４に示すように、基体部５の軸方向一方側の端面５ｃと、第１のケーシング１０の軸方向他方側の端面１０ｅとのギャップｇを、回転部４の寸法ｄ１と第１のケーシング１０の寸法ｄ２とで、より容易にかつより精度良く規定できるようになり、このギャップが拡大したり変動したりすることによるリーク流量の増大、ひいてはポンプ効率の低下を抑制できるとともに、ベーンポンプ１の吐出量のばらつき（個体差）を低減することができる。

さらに、上述したようにベーン８を摺動可能に軸方向他方側で支持する底壁部１７を設けたため、ベーン８の軸方向他方側への移動を抑制することができ、当該ベーン８が軸方向に往復動することによって振動や騒音が生じたり、リーク流量が増大して効率が低下したりするのを抑制することができる。かかる構成は、回転部４とともにベーン８を軸方向一方側へ移動させる構成と言うことができる。

［第２実施形態］
次に、本発明の第２実施形態について図面を参照して説明する。図６は、本実施形態にかかるベーンポンプの図１と同一位置のＶ−Ｖ断面図である。

本実施形態のベーンポンプ１は、上記第１実施形態と同様にして、ベーン８Ａをスリット７への収容状態で当該スリット７から回転軸Ａｘの軸方向一方側（上側）に突出させて配置するようにしている。

ここで、本実施形態が上記第１実施形態と主に異なる点は、ベーン８Ａのスリット７への収容状態における回転方向ＲＤ先方側の側面８ｓｆから当該ベーン８Ａの天面８ｕに向けて傾斜する第１の傾斜面３６ａを形成したことにある。すなわち、この傾斜面３６ａは、ベーン８Ａの側面８ｓｆと、軸方向一方側（上側）の天面８ｕとの間の角部を面取りした形状に形成されている。

このように、ベーン８Ａの回転方向ＲＤの先方側に軸方向他方側（下側）に向けて傾斜する第１の傾斜面３６ａを形成することで、軸方向他方側（下側）へ向けて流体力を作用させることができ、ベーン８は、底壁部１７（すなわちスリット７の底面７ｃ）上に押し付けられ、ベーン８の底面８ｄとスリット７の底面７ｃとが相互に摺動することになる。

以上の本実施形態によれば、スリット７内に導入した流体の圧力でベーン８Ａを軸方向他方側（下側）に配置した底壁部１７に押しつけることができるため、ベーン８Ａが軸方向に往復動するのを抑制することができるようになる。

［第３実施形態］
次に、本発明の第３実施形態について図面を参照して説明する。図７は、本実施形態にかかるベーンポンプの図１と同一位置のＶ−Ｖ断面図である。

本実施形態のベーンポンプ１は、上記第２実施形態と同様にして、ベーン８Ｂをスリット７への収容状態で当該スリット７から回転軸Ａｘの軸方向一方側（上側）に突出させるとともに、ベーン８Ｂに第１の傾斜面３６ｂを形成している。

ここで、本実施形態が上記第２実施形態と主に異なる点は、上記第１の傾斜面３６ｂにおけるベーン８Ｂの回転方向ＲＤ先方側の側面８ｓｆとの交点ｋが、回転部４の天面としての基体部５の天面５ｃよりも下側に位置するように当該第１の傾斜面３６ｂを形成したことにある。

このように、第１の傾斜面３６ｂの交点ｋを基体部５の天面５ｃよりも下側に位置させることで、ベーン８Ｂの傾斜面３６ｂとスリット７の側面７ｂとの間に略Ｖ字状の溝４０ｂが形成され、スリット７内に導入された流体の圧力により、ベーン８Ｂを底壁部１７（すなわちスリット７の底面７ｃ）上に押し付け易くすることができる。

以上の本実施形態によれば、スリット７内に導入した流体の圧力でベーン８Ｂを軸方向他方側（下側）に配置した底壁部１７に押しつけ易くすることができるため、ベーン８が軸方向に往復動するのをより抑制することができる。

［第４実施形態］
次に、本発明の第４実施形態について図面を参照して説明する。図８は、本実施形態にかかるベーンポンプの図１と同一位置のＶ−Ｖ断面図である。

本実施形態のベーンポンプ１は、上記第２実施形態と同様にして、ベーン８Ｃをスリット７への収容状態で当該スリット７から回転軸Ａｘの軸方向一方側（上側）に突出させるとともに、ベーン８Ｃに第１の傾斜面３６ａを形成している。

ここで、本実施形態が上記第２実施形態と主に異なる点は、ベーン８Ｃのスリット７への収容状態における回転方向ＲＤ手前側の側面８ｓｂから当該ベーン８Ｃの天面８ｕに向けて傾斜する第２の傾斜面３６ｃをさらに形成したことにある。すなわち、この傾斜面３６ｃは、ベーン８Ｃの側面８ｓｂと、軸方向一方側（上側）の天面８ｕとの間の角部を面取りした形状に形成されている。

このように、ベーン８Ｃの回転方向ＲＤの手前側に軸方向他方側（下側）に向けて傾斜する第２の傾斜面３６ｃをさらに形成することで、スリット７内でのベーン８Ｃのバランスを向上させて、ベーン８Ｃのがたつきを抑制することができる。

以上の本実施形態によっても、スリット７内に導入した流体の圧力でベーン８Ｃを軸方向他方側（下側）に配置した底壁部１７に押しつけることができるため、ベーン８Ｃが軸方向に往復動するのを抑制することができる。

さらに、流体の圧力をベーン８Ｃに作用させる傾斜面３６ａ、３６ｃを回転方向ＲＤの先方側と手前側の両側に形成したため、スリット７内でのベーン８Ｃのバランスを向上させて、ベーン８Ｃのがたつきを抑制することができる。

［第５実施形態］
次に、本発明の第５実施形態について図面を参照して説明する。図９は、本実施形態にかかるベーンポンプの図１と同一位置のＶ−Ｖ断面図である。

本実施形態のベーンポンプ１は、上記第４実施形態と同様にして、ベーン８Ｄをスリット７への収容状態で当該スリット７から回転軸Ａｘの軸方向一方側（上側）に突出させるとともに、ベーン８Ｄの回転方向ＲＤ両側に第１および第２の傾斜面３６ｂ、３６ｄを形成している。

ここで、本実施形態が上記第４実施形態と主に異なる点は、上記第１の傾斜面３６ｂにおけるベーン８Ｄの回転方向ＲＤ先方側の側面８ｓｆとの交点ｋおよび第２の傾斜面３６ｄにおけるベーン８Ｄの回転方向ＲＤの手前側の側面８ｓｂとの交点ｉが、それぞれ回転部４の天面としての基体部５の天面５ｃよりも下側に位置していることにある。

以上の本実施形態によっても、スリット７内に導入した流体の圧力でベーン８Ｄを軸方向他方側に配置した底壁部１７に押し付けることができるため、ベーン８Ｄが軸方向に往復動するのを抑制することができる。

また、交点ｋおよびｉを基体部５の天面５ｃよりも下側に位置させることで、第１の傾斜面３６ｂとスリット７の側面７ｂとの間および第２の傾斜面３６ｄとスリットの側面７ｆとの間に略Ｖ字状の溝４０ｂ、４０ｆがそれぞれ形成されるため、スリット７内に導入された流体の圧力により、ベーン８Ｄを底壁部１７（スリット７の底面７ｃ）上に押し付け易くすることができる。

さらにまた、流体の圧力をベーン８Ｄに作用させる傾斜面３６ｂ、３６ｄを回転方向ＲＤの先方側および手前側の双方に形成したため、スリット７内でのベーン８Ｄのバランスをより一層向上させて、ベーン８Ｄのがたつきを抑制することができる。

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態には限定されず、種々の変形が可能である。例えば、ベーンポンプの回転部やリング、ケーシングの詳細な構成は上記実施形態には限定されない。また、ベーンや第１および第２の傾斜面の大きさ形状等については、本発明の範囲内で適宜に変更することができる。

２ ケーシング
４ 回転部
５ 基体部
５ｃ 天面
７ スリット
８ ベーン
１０ 第１のケーシング
Ａｘ 回転軸

Claims (4)

1. 回転可能な回転部をケーシング内に設けるとともに、前記回転部に、当該回転部の天面に凹設され且つ当該回転部の回転軸に対して放射状に伸びて径外方向に開口する複数のスリットを形成し、当該スリットにベーンをスライド可能に収容したベーンポンプであって、
   前記ベーンを、前記スリットへの収容状態で当該スリットから前記回転軸の軸方向上側に突出させたことを特徴とするベーンポンプ。
2. 前記ベーンの前記スリットへの収容状態における回転方向先方側の側面から当該ベーンの天面に向けて傾斜する第１の傾斜面を形成したことを特徴とする請求項１に記載のベーンポンプ。
3. 前記第１の傾斜面における前記ベーンの回転方向先方側の側面との交点が、前記回転部の天面よりも下側に位置するように当該第１の傾斜面を形成したことを特徴とする請求項２に記載のベーンポンプ。
4. 前記ベーンの前記スリットへの収容状態における回転方向手前側の側面から当該ベーンの天面に向けて傾斜する第２の傾斜面を形成したことを特徴とする請求項１〜３のうち何れか１項に記載のベーンポンプ。

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