JP2010024948A - ベーンポンプ - Google Patents

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Masaaki Nishikata
政昭 西方
Takeshi Kusakabe
毅 日下部
Etsuo Matsuki
悦夫 松木
Tsukasa Hojo
司 法上
Ken Yamamoto
山本  憲
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Abstract

【課題】ベーンの端部と、この端部が摺接するケーシングの摺接面との潤滑性を高めることができるベーンポンプを得る。
【解決手段】ベーン8の突出側の端部8aを径内方向に向けて凹設して流体を貯留する凹部33を設け、凹部33に貯留される流体によって端部8aとケーシング2の摺接面としての内周面3aとの潤滑性を高めることができ、端部8aおよび内周面3aの摩耗を抑制できるとともに吐出効率の低下を抑制することができる。
【選択図】図1

Description

本発明は、ベーンポンプに関する。
従来のベーンポンプとして、回転部に径外側に開口する複数のスリットを形成し、各スリットにベーンを突没可能に収容するとともに、このベーンを径外方向に付勢する付勢機構を備えるベーンポンプが知られている。(例えば、特許文献1)
特開昭62−291488号公報
しかしながら、この種のベーンポンプでは、ベーンの突出側の端部がケーシングの摺接面に対して付勢機構によって押し付けられているため、端部と摺接面との間に摩擦による抵抗が生じてポンプの吐出効率の低下や、端部および摺接面の摩耗が促進される虞があった。
そこで、本発明は、ベーンの端部と、この端部が摺接するケーシングの摺接面との潤滑性を高めることができるベーンポンプを得ることを目的とする。
請求項1の発明にあっては、ケーシング内で回転する回転部の基体部に径外側へ向けて開口する複数のスリットを形成し、各スリットにベーンを突没可能に収容し、ケーシング内で前記基体部の周囲に形成された環状室を前記複数のベーンで区画して複数のポンプ室を形成し、回転部を回転させることで前記ポンプ室の容積を周期的に増減させて当該ポンプ室に吸入した流体を吐出するように構成したベーンポンプにおいて、前記ベーンの突出側の端部を径内方向に向けて凹設して前記流体を貯留する凹部を設けたことを特徴とする。
請求項2の発明にあっては、一端が前記ベーンの挿入されたスリットの径内側の領域に開口し、かつ他端が前記凹部に開口する連通路を設けたことを特徴とする。
請求項3の発明にあっては、一端が前記ベーンの回転方向先方側に位置する前記ポンプ室に開口し、かつ他端が当該ベーンの挿入されたスリットの径内側の領域に開口する第2の連通路を設けたことを特徴とする。
請求項4の発明にあっては、一端が吐出通路に開口し、かつ他端が前記ベーンの挿入されたスリットの径内側の領域に開口する第3の連通路を設けたことを特徴とする。
請求項1の発明によれば、ベーンの突出側の端部に凹部を設けたため、この凹部に貯留された流体によって当該端部と摺接面との潤滑性を高めることができる。
請求項2の発明によれば、連通路を設けたため、スリットの径内側の領域にある流体を凹部に導入することができ、端部と摺接面との潤滑性をより確実に高めることができる。
請求項3の発明によれば、第2の連通路を設けたため、ベーンの回転方向先方側に位置するポンプ室の流体をスリットの径内側の領域に導入することができる。したがって、この領域内から連通路を介して流体を凹部により確実に導入することができ、端部と摺接面との潤滑性をより確実に高めることができる。
請求項4の発明によれば、第3の連通路を設けたため、吐出通路の流体をスリットの径内側の領域に導入することができる。したがって、この領域内にある流体を連通路を介して凹部により確実に導入することができ、端部と摺接面との潤滑性をより確実に高めることができる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下の実施形態および変形例には、同様の構成要素が含まれている。よって、以下では、それら同様の構成要素については、重複する説明を省略し、共通の符号を付与することとする。
(第1実施形態)図1は、本発明の第1実施形態にかかるベーンポンプの回転軸と直交する断面での断面図、図2は、ベーンポンプの分解斜視図である。なお、以下では、便宜上、図2の上側を回転軸Axの軸方向一方側、下側を軸方向他方側とする。
まずは、図1を参照して、ベーンポンプ1の作動流体の吸入および吐出に関わる構成について説明する。
本実施形態にかかるベーンポンプ1では、図1に示すように、ケーシング2内で円環状のリング3の略円筒状の内周面3aと回転軸Axを中心に回転する回転部4の略円柱状の基体部5の外周面5aとの間に、作動流体(液体)を収容する環状室6が形成されている。環状室6の幅wは、回転軸Axの周方向に沿って変化している。本実施形態では、内周面3aの中心Cと回転軸Axとを平行にずらして、リング3の内周面3aと回転部4の基体部5とを偏心させてある。このため、環状室6の幅wは、図1の左端で最大となり、当該左端の位置から右端の位置に向けて時計回り方向に徐々に狭まって最小となっている。
基体部5には、回転部4の回転軸Axに対して放射状に伸びて径外方向に開口する複数(本実施形態では4つ)のスリット7が形成されており、各スリット7には略角棒状または略帯板状のベーン8が突没可能に収容されている。ベーン8は、回転部4の回転に伴って径外方向に遠心力が作用し、その分力によって、スリット7内で突没方向突出側に付勢される。このため、ベーン8は内周面3aと摺接しながら回転部4とともに回転することになる。
環状室6は、周方向に一定のピッチで配置された複数のベーン8によって、同数(本実施形態では4つ)のポンプ室9に区画されている。回転部4およびベーン8の回転に伴い、ポンプ室9の容積は、環状室6の幅wの変化に従って変化することになる。すなわち、各ポンプ室9の容積は、図1の右端の位置で最小となっている。そして、回転部4の回転方向RD(図1の時計回り方向)への回転に伴って漸増し、左端の位置で最大となる。その位置からさらに回転部4が時計回り方向に回転すると、ポンプ室9の容積は漸減し、右端の位置で最小となる。つまり、本実施形態では、回転部4の1周回のうち図1の下半分の区間でポンプ室9の容積が拡大し、上半分の区間でポンプ室9の容積が縮小する。このため、リング3の内周面3aおよびケーシング2(第1のケーシング10)に、ポンプ室9の容積が拡大する区間に臨ませて吸入開口11を設けるとともに、ポンプ室9の容積が縮小する区間に臨ませて吐出開口12を設けてある。吸入開口11は、第1のケーシング10の側面上に突設された吸入パイプ13内の吸入通路14と連通し、吐出開口12は、吸入パイプ13と平行に突設された吐出パイプ15内の吐出通路16と連通している。
したがって、図1において、回転部4が回転方向RDに回転すると、隣接する2枚のベーン8によって区画されるポンプ室9は、右端の位置から容積を拡大させながら左端の位置まで移動する。このため、吸入通路14から吸入開口11を介してポンプ室9内に作動液体が流入する。そして、ポンプ室9は、左端の位置から容積を縮小しながら右端の位置まで移動する。このため、当該ポンプ室9から吐出開口12を介して吐出通路16に作動流体が流出する。複数のポンプ室9についてこのような作動流体の流入および流出が順次行われ、以て、ベーンポンプ1による連続的な作動流体の吸入および吐出が実現されている。
次に、図1および図2を参照して、本実施形態にかかるベーンポンプ1の各部の構成を詳細に説明する。
底壁部17は、回転軸Axを中心とし当該回転軸Axと直交する円板状に形成されており、基体部5の外周面5aより外側までフランジ状に張り出している。そして、この底壁部17の外周縁に、略円筒状のスカート部18が突設されている。スカート部18は、回転軸Axと同心となっており、基体部5から離間する側(軸方向他方側)に向けて略一定の厚みで突出している。
このスカート部18は、回転部4を駆動するモータ19の回転子(ロータ)として機能するものであり、コイルの巻回されたステータコア20の周方向に沿ってN極S極が交互に着磁された着磁部18aを含んでいる。スカート部18のうち少なくとも着磁部18aとして機能する部分は、磁性材料によって構成される。この場合、スカート部18のうちティース20aに対向する部分のみを磁性材料(例えばフェライト磁石やサマリウムコバルト磁石等の硬磁性材料)によって構成してもよいし、スカート部18全体を磁性材料によって構成してもよいし、回転部4全体を磁性材料によって構成してもよい。この場合、樹脂材料に磁性材料からなる粉末や粒状の磁性フィラーを混合して、回転部4やスカート部18を成形することも可能である。
また、図1および図2に示すように、基体部5の外周面5aは一定のピッチで径内方向に凹設され、これにより羽根部5bが形成されている。この羽根部5bは、基体部5(回転部4)とともに回転し、吐出開口12と対峙するときにポンプ室9からの作動流体の排出性能を高めている。
また、基体部5(回転部4)の中央部には、シャフト21を回転自在に支持する軸受部(図示せず)が固定されている。そして、回転部4は、ケーシング2によって形成される内部空間内で回転軸Ax回りに回転するように構成されている。本実施形態では、ケーシング2は、軸方向一方側(図2の上側)に位置する第1のケーシング10と、軸方向他方側(図2の下側)に位置する第2のケーシング23と、環状室6の外周面(リング3の内周面3a)を形成するリング3と、を備えている。
リング3は、環状室6の外周面を形成する筒状部3bと、筒状部3bの軸方向他方側から回転軸Axの径外方向に張り出すフランジ部3cとを備え、さらに、吸入通路14および吐出通路16の側壁の一部を成すリブ3dを備えている。本実施形態では、円板環状のフランジ部3cから回転軸Axの軸方向に筒状部3bとリブ3dとが略同じ高さで立設された形状となっている。
このリング3は、図2に示すように、第1のケーシング10の下面側に形成された凹部(図示せず)内に収容される。すなわち、この凹部は、リング3の筒状部3bとリブ3dを嵌合する形状に凹設されている。また、リング3のフランジ部3cの外周部3eは、その凹部の反対側で第2のケーシング23の環状壁部23aと接触しており、この部分が第1のケーシング10と第2のケーシング23とによって挟持されることで、リング3が回転軸Axの軸方向に固定されている。
第2のケーシング23には、回転部4のスカート部18を収容する略円環状の凹部23bと、回転部4の軸受部(図示せず)のうち第2のケーシング23側(軸方向他方側、図2の下側)に突出する部分を収容する凹部23cとが形成されている。
凹部23bの外周にある環状壁部23aより径外側の領域は、第1のケーシング10との当接面となる。この当接面には、Oリング31用の溝部23dを略円環状に形成し、この溝部23d内に装着したOリング31によって、第1のケーシング10と第2のケーシング23との境界部分でのシールを確保してある。
凹部23cの底壁部と、第1のケーシング10との間にはシャフト21が架設され、このシャフト21の中心が回転軸Axとなっている。シャフト21は、回転部4の中心に設けた軸受部(図示せず)を貫通し、当該軸受部を回転自在に支持している。
また、図2に示すように、凹部23bと凹部23cとの間には、回転部4の反対側(軸方向他方側、図2の下側)から回転部4側に向けて突設された環状の突起部23fが形成されており、この突起部23fの裏側となる環状の凹部(図示せず)内にモータ19をなすステータコア20が収容されている。
ステータコア20は、図2に示すように、基板24の表面24aの中央に取り付けられており、回転軸Axと同心で中央に位置する円筒部20bと、円筒部20bから放射状に伸びてコイルが巻回された複数のティース20aとを備えている。
そして、基板24のステータコア20を設けた表面24aに、各種電子部品(図示せず)が実装され、モータ19の駆動回路やその他の回路が形成されている。本実施形態では、基板24に形成された駆動回路によって各ティース20aに巻回されたコイルの通電状態を適宜に切り替えてティース20aの外周部分における極性を切り替え、これにより、ティース20aに対して径外方向に対向する着磁部18a(スカート部18)に周方向の推力を与え、以て、回転部4を回転させるようになっている。よって、第2のケーシング23のうち、少なくとも、ステータコア20(ティース20a)の外周部とスカート部18との間に介在する隔壁部23gは、透磁性を有するものとする必要がある。このため、隔壁部23gあるいは第2のケーシング23の全体が、透磁性を有する材料(例えばステンレススチールや、樹脂材料等)で形成される。
基板24は、第2のケーシング23の下面側に形成された凹部(図示せず)を塞ぐようにして取り付けられており、さらに、基板24を、基板カバー25によって、回転部4の反対側(軸方向他方側)から覆ってある。基板カバー25には、、基板24との間に電子部品を配置する間隔を確保するため、突条25aを設けてある。
第1のケーシング10および第2のケーシング23は、いずれも回転軸Axに沿う軸方向視で略正方形状の外形状を呈している。そして、これらケーシング10,23の四隅に、これらを締結するねじ26の貫通孔10a,23kを形成してある。これら貫通孔10a,23kにねじ26を挿通してナット27を螺結し、基板カバー25を貼り付けることで、ベーンポンプ1が組み立てられる。
なお、ベーンポンプ1をなす上記各構成部品の材料や製造方法は、上述した着磁性や透磁性の他、耐摩耗性、耐食性、耐膨潤性、成形性、部品精度等を考慮して適宜に選択される。
また、回転部4に、その回転に伴って上記回転軸Axの軸方向一方側(図2では上側)への流体力を発生させる流体力発生部28としての傾斜面28Aを設け、回転部4を、底壁部17を設けた側と反対側に位置する第1のケーシング10に押し付けるようにしている。傾斜面28Aは、回転方向RDの手前側から先方側にかけて軸方向他方側(図2で下側)から一方側(同上側)に向けて傾斜して設定してある。このため、回転部4の回転に伴ってこの傾斜面28Aに当たった作動流体は、回転部4に上方向に向かう流体力を作用させ、軸方向一方側(図2の上側)に押し上げることになる。
そして、かかる軸方向一方側に向けて作用する流体力(推力)を受けながら回転する回転部4を摺動可能に支持するため、第1のケーシング10には、スラスト支持部(図示せず)を設けてある。また、軸受部の軸方向他方側にもワッシャ30を介在させてある。
図3は、本実施形態にかかるベーンポンプに含まれるベーンを示す断面図である。
本実施形態では、ベーン8の突出側の端部8aの周方向中央部を径内方向(図3では上側)に向けて凹設して、流体を貯留する凹部33を設けてある。凹部33は、略コ字状の断面(回転軸Axと垂直な断面)を有して軸方向一方側から他方側に至る溝として形成されている。
以上説明したように、本実施形態では、ベーン8の突出側の端部8aを径内方向に向けて凹設して流体を貯留する凹部33を設けた。よって、貯留される流体によって端部8aと摺接面としての内周面3aとの潤滑性を高めることができ、ベーン8に径外方向に作用する力(本実施形態では、回転部4の遠心力)によって端部8aが内周面3aに押し付けられて生じる摩擦による抵抗を低減してポンプの吐出効率の低下を抑制することができる。また、潤滑性を高めることによって端部8aおよび内周面3aの摩耗を抑制することができる。
(ベーンに設けた凹部の変形例)図4〜図7は、凹部の変形例を示すベーンの断面図である。図4に示すように、凹部33の変形例としての凹部33aは、略U字状の断面(回転軸Axと垂直な断面)を有して軸方向一方側から他方側に至る溝として形成されている。また、図5に示すように、凹部33の変形例としての凹部33bは、略V字状の断面を有して、軸方向一方側から他方側に至る溝として形成されている。また、図6に示すように、凹部33の変形例としての凹部33cは、略波状の断面を有して、軸方向一方側から他方側に至る溝として形成されている。また、図7に示すように、凹部33の変形例としての凹部33dは、端部8aを略半球状に径内方向に向けて凹設して凹穴33eを形成し、この凹穴33eを複数配置してディンプル状に形成してある。このように、凹部33の形状、大きさ、個数等は、適宜に変更することができる。
(第2実施形態)図8は、本発明の第2実施形態にかかるベーンポンプの回転軸と直交する断面での断面図である。
上記第1実施形態と同様に、各ベーン8の突出側の端部8aを径内方向に向けて凹設して流体を貯留する凹部33が設けられている。
ただし、本実施形態では、一端がベーン8の挿入されたスリット7の径内側の領域7bに開口し、かつ他端が凹部33に開口する連通路34を設けている。
連通路34は、各ベーン8に、当該ベーン8の挿入されたスリット7の径内側の領域7b側の端部8bと凹部33を連通する貫通孔として形成してある。
さらに、本実施形態では、一端がベーン8の回転方向先方側に位置するポンプ室9に開口し、かつ他端が当該ベーン8の挿入されたスリット7の径内側の領域7bに開口する第2の連通路35を設けている。
第2の連通路35は、スリット7毎に設定されており、基体部5に、ベーン8の回転方向先方側に隣接するポンプ室9とスリット7の径内側の領域7bとを連通する貫通孔として形成してある。かかる構成では、回転部4(基体部5)の回転に伴うポンプ室9の容積の減少に伴ってポンプ室9内の圧力が高まると、ポンプ室9内にある流体が第2の連通路35を介してスリット7の径内側の領域7bに導入される。さらに、ポンプ室9内にある流体の導入によってスリット7の径内側の領域7b内の圧力が高まると、この領域7bにある流体が連通路34を介して凹部33に導入される。
以上説明したように、本実施形態では、一端がベーン8の挿入されたスリット7の径内側の領域7bに開口し、かつ他端が凹部33に開口する連通路34を設けた。よって、この連通路34を経由してスリット7の径内側の領域7b内にある流体を凹部33に導入することができ、ベーン8の端部8aと摺接面としての内周面3aとの潤滑性をより確実に高めることができる。また、端部8aが内周面3aにベーン8に径外方向に作用する力(本実施形態では、回転部4の遠心力)によって押し付けられて生じる摩擦による抵抗を低減してポンプの吐出効率の低下を抑制することができる。また、潤滑性を高めることによって端部8aおよび内周面3aの摩耗の促進を抑制することができる。
また、本実施形態では、一端がベーン8の回転方向先方側に位置するポンプ室9に開口し、かつ他端が当該ベーン8の挿入されたスリット7の径内側の領域7bに開口する第2の連通路35を設けた。よって、ベーン8の回転方向先方側に位置するポンプ室9内にある流体を第2の連通路35を介してスリット7の径内側の領域7bに導入することができる。したがって、この領域7b内から流体を連通路34を介して凹部33により確実に導入することができ、ベーン8の端部8aと摺接面としての内周面3aとの潤滑性をより確実に高めることができる。また、端部8aが内周面3aにベーン8に径外方向に作用する力(本実施形態では、回転部4の遠心力)によって押し付けられて生じる摩擦による抵抗を低減してポンプの吐出効率の低下を抑制することができる。また、潤滑性を高めることによって端部8aおよび内周面3aの摩耗の促進を抑制することができる。
(第3実施形態)図9は、本発明の第3実施形態にかかるベーンポンプの一部の回転軸を含む断面での断面図である。
上記第1および第2実施形態と同様に、各ベーン8の突出側の端部8aを径内方向に向けて凹設して流体を貯留する凹部33が設けられている。また、各ベーン8には、一端がベーン8の挿入されたスリット7の径内側の領域7bに開口し、かつ他端が凹部33に開口する連通路34が設けられている。
さらに、本実施形態では、一端が吐出通路16に開口し、かつ他端が当該ベーン8の挿入されたスリット7の径内側の領域7bに開口する第3の連通路35Cを設けている。
具体的には、第3の連通路35Cは、ティース20aを跨いで第2のケーシング23の径外側と径内側との間で架設されるパイプ36内の通路と、第2のケーシング23およびリング3(ケーシング2)内でパイプ36内と吐出通路16とを連通する孔23m,3gとして形成される通路とを含む。さらに、第2のケーシング23内で、底壁部17および第2のケーシング23の突起部23f(図2参照)の間の隙間2aとパイプ36内とを連通する孔23nとして形成される通路と、隙間2aとスリット7の径内側の領域7bとを連通する底壁部17の連通孔17aと、を含む。すなわち、高圧の吐出通路16が、孔3g,23m、パイプ36内、孔23n、隙間2a、および連通孔17aを介してスリット7の径内側の領域7bに連通されるため、吐出通路16内にある流体が第3の連通路35Cを介してスリット7の径内側の領域7bに導入される。さらに、吐出通路16内にある流体の導入によってスリット7の径内側の領域7b内の圧力が高まると、この領域7bにある流体が連通路34を介して凹部33に導入される。なお、この場合、第3の連通路35Cの各部の断面積や長さ(すなわち管路抵抗)を適宜に調整することで、スリット7の径内側の領域7bに作用する圧力を適宜に調節することができる。
以上説明したように、本実施形態では、一端が吐出通路16に開口し、かつ他端が当該ベーン8の挿入されたスリット7の径内側の領域7bに開口する第3の連通路35Cを設けた。よって、吐出通路16内にある流体を第3の連通路35Cを介してスリット7の径内側の領域7bに導入することができる。したがって、この領域7b内から流体を連通路34を介して凹部33により確実に導入することができ、ベーン8の端部8aと摺接面としての内周面3aとの潤滑性をより確実に高めることができる。また、端部8aが内周面3aにベーン8に径外方向に作用する力(本実施形態では、回転部4の遠心力)によって押し付けられて生じる摩擦による抵抗を低減してポンプの吐出効率の低下を抑制することができる。また、潤滑性を高めることによって端部8aおよび内周面3aの摩耗の促進を抑制することができる。
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態には限定されず、種々の変形が可能である。例えば、第2の連通路35は、ベーンが収容されるスリットの径内側の領域と当該ベーンの回転方向先方側に配置されるポンプ室とを連通するものとして構成すればよく、当該ベーンに隣接したポンプ室であることは必須ではない。
本発明の第1実施形態にかかるベーンポンプの回転軸と直交する断面での断面図である。 本発明の第1実施形態にかかるベーンポンプの分解斜視図である。 本発明の第1実施形態にかかるベーンポンプに含まれるベーンを示す断面図である。 本発明のベーンに設けた凹部の変形例にかかる凹部を示すベーンの断面図である。 本発明のベーンに設けた凹部の変形例にかかる凹部を示すベーンの断面図である。 本発明のベーンに設けた凹部の変形例にかかる凹部を示すベーンの断面図である。 本発明のベーンに設けた凹部の変形例にかかる凹部を示すベーンの断面図である。 本発明の第2実施形態にかかるベーンポンプの回転軸と直交する断面での断面図である。 本発明の第3実施形態にかかるベーンポンプの一部の回転軸を含む断面での断面図である。
符号の説明
1 ベーンポンプ
2 ケーシング
4 回転部
5 基体部
6 環状室
7 スリット
7b スリットの径内側の領域
8 ベーン
9 ポンプ室
16 吐出通路
33,33a,33b,33c,33d 凹部
34 連通路
35 第2の連通路
35C 第3の連通路

Claims (4)

  1. ケーシング内で回転する回転部の基体部に径外側へ向けて開口する複数のスリットを形成し、各スリットにベーンを突没可能に収容し、ケーシング内で前記基体部の周囲に形成された環状室を前記複数のベーンで区画して複数のポンプ室を形成し、回転部を回転させることで前記ポンプ室の容積を周期的に増減させて当該ポンプ室に吸入した流体を吐出するように構成したベーンポンプにおいて、
    前記ベーンの突出側の端部を径内方向に向けて凹設して前記流体を貯留する凹部を設けたことを特徴とするベーンポンプ。
  2. 一端が前記ベーンの挿入されたスリットの径内側の領域に開口し、かつ他端が前記凹部に開口する連通路を設けたことを特徴とする請求項1に記載のベーンポンプ。
  3. 一端が前記ベーンの回転方向先方側に位置する前記ポンプ室に開口し、かつ他端が当該ベーンの挿入されたスリットの径内側の領域に開口する第2の連通路を設けたことを特徴とする請求項2に記載のベーンポンプ。
  4. 一端が吐出通路に開口し、かつ他端が前記ベーンの挿入されたスリットの径内側の領域に開口する第3の連通路を設けたことを特徴とする請求項2に記載のベーンポンプ。
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