JP5059351B2 - スピンバルブ構造体およびその製造方法、ならびに磁気再生ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
フリー層を構成する下部FeCo層および上部NiFe層としてそれぞれFe25Co75,Ni90Fe10を使用することにより、以下の積層構造を有するスピンバルブ構造体を備えたCPP−GMR磁気再生ヘッドを製造した。なお、かっこ内の数字は、各層の厚さを示している。「AlCu/RF−PIT/RF−IAO」とは、AlCuを成膜したのちにRF−PIT処理およびRF−IAO処理を順に施したことを表している。
シード層=Ta(5nm)/Ru(2nm)
AFM層=IrMn(7nm)
ピンド層=Fe25Co75(4.6nm)/Ru(0.75nm)/[Fe70Co30(1.2nm)/Cu(0.2nm)]2 Fe70Co30(1.2nm)
非磁性スペーサ層=Cu(0.52nm)/AlCu(0.85nm)/RF−PIT/RF−IAO/Cu(0.3nm)
フリー層=Fe25Co75(2nm)/Ni90Fe10(2.8nm)
保護層=Cu(3nm)/Ru(1nm)/Ta(6nm)/Ru(1nm)
フリー層を構成する下部FeCo層および上部NiFe層としてそれぞれFe25Co75(1nm),Ni82.5Fe17.5(3.5nm)を使用した点を除き、実施例と同様の積層構造を有するスピンバルブ構造体を備えたCPP−GMR磁気再生ヘッドを製造した。
Claims (40)
- 磁気再生ヘッドのセンサとして使用されるスピンバルブ構造体を製造する方法であって、
(a)基板上に、ピンド層と、下部Fev Co(100-v) 層(v=20原子%〜70原子%)および上部Niw Fe(100-w) 層(w=90原子%〜100原子%)を含むフリー層と、前記ピンド層および前記フリー層により挟まれた非磁性スペーサ層とを有するスピンバルブ積層体を形成し、
(b)前記スピンバルブ積層体をパターニングしてスピンバルブ構造体を形成する
ことを特徴とするスピンバルブ構造体の製造方法。 - 前記基板は、磁気再生ヘッドの第1磁気シールドであり、
前記スピンバルブ積層体を構成する全ての層は、スパッタ成膜装置を使用して形成される
ことを特徴とする請求項1記載のスピンバルブ構造体の製造方法。 - 前記ピンド層は、隣接する反強磁性層によりピン止めされると共に、第2反平行層/結合層/第1反平行層で表される積層構造を有し、
前記第2反平行層は、CoFe(Fe含有量=25原子%)を含み、
前記結合層は、Ruを含み、
前記第1反平行層は、[CoFe/Cu]n /CoFe(CoFeのFe含有量=70原子%,n=2または3)で表される積層構造を有する
ことを特徴とする請求項1記載のスピンバルブ構造体の製造方法。 - 前記下部Fev Co(100-v) 層は、0.5nm〜3nmの厚さを有し、
前記上部Niw Fe(100-w) 層は、1nm〜6nmの厚さを有する
ことを特徴とする請求項1記載のスピンバルブ構造体の製造方法。 - 前記下部Fev Co(100-v) 層は、v=20原子%であると共に2nmの厚さを有し、
前記上部Niw Fe(100-w) 層は、w=90原子%であると共に2.8nmの厚さを有する
ことを特徴とする請求項4記載のスピンバルブ構造体の製造方法。 - 前記非磁性スペーサ層は、下部Cu層と、上部Cu層と、前記下部Cu層および前記上部Cu層により挟まれ、部分酸化されたAlCuを含む電流路制限層とを有する
ことを特徴とする請求項1記載のスピンバルブ構造体の製造方法。 - 前記下部Cu層上にAlCu層を成膜し、
RFプラズマまたはRFイオン処理によって前記AlCu層を0.1nm〜0.3nm除去したのち、RFプラズマ酸化またはRFイオンアシスト酸化処理によって前記AlCu層を酸化し、孔がCuで埋め込まれた多孔質のAlOx 層を形成することにより、前記電流路制限層を形成する
ことを特徴とする請求項6記載のスピンバルブ構造体の製造方法。 - 前記基板上に、シード層と、反強磁性層と、前記ピンド層と、前記非磁性スペーサ層と、前記フリー層と、保護層とをこの順に成膜して前記スピンバルブ積層体を形成し、
ボトムスピンバルブ型の積層構造を有するように前記スピンバルブ構造体を形成する
ことを特徴とする請求項1記載のスピンバルブ構造体の製造方法。 - 前記非磁性スペーサ層は、Cuを含み、
前記スピンバルブ構造体は、巨大磁気抵抗効果、または前記非磁性スペーサ層がトンネルバリア層であってトンネル磁気抵抗効果を利用して動作する
ことを特徴とする請求項1記載のスピンバルブ構造体の製造方法。 - 前記スピンバルブ構造体は、トップスピンバルブ型、ボトムスピンバルブ型または多層スピンバルブ型の積層構造を有する
ことを特徴とする請求項1記載のスピンバルブ構造体の製造方法。 - (a)基板としての第1磁気シールド上に、ピンド層と、下部Fev Co(100-v) 層(v=20原子%〜70原子%)および上部Niw Fe(100-w) 層(w=90原子%〜100原子%)を含むフリー層と、前記ピンド層および前記フリー層により挟まれた非磁性スペーサ層とを有するスピンバルブ積層体を形成し、
(b)前記スピンバルブ積層体をパターニングして、側壁および上面を有するスピンバルブ構造体を形成し、
(c)前記スピンバルブ構造体の側壁に隣接するように絶縁層を形成し、
(d)前記スピンバルブ構造体の上面に第2磁気シールドを形成する
ことを特徴とする磁気再生ヘッドの製造方法。 - 前記スピンバルブ積層体を構成する全ての層は、スパッタ成膜装置を使用して形成される
ことを特徴とする請求項11記載の磁気再生ヘッドの製造方法。 - 前記ピンド層は、隣接する反強磁性層によりピン止めされると共に、第2反平行層/結合層/第1反平行層で表される積層構造を有し、
前記第2反平行層は、CoFe(Fe含有量=25原子%)を含み、
前記結合層は、Ruを含み、
前記第1反平行層は、[CoFe/Cu]n /CoFe(CoFeのFe含有量=70原子%,n=2または3)で表される積層構造を有する
ことを特徴とする請求項11記載の磁気再生ヘッドの製造方法。 - 前記下部Fev Co(100-v) 層は、0.5nm〜3nmの厚さを有し、
前記上部Niw Fe(100-w) 層は、1nm〜6nmの厚さを有する
ことを特徴とする請求項11記載の磁気再生ヘッドの製造方法。 - 前記下部Fev Co(100-v) 層は、v=20原子%であると共に2nmの厚さを有し、
前記上部Niw Fe(100-w) 層は、w=90原子%であると共に2.8nmの厚さを有する
ことを特徴とする請求項14記載の磁気再生ヘッドの製造方法。 - 前記非磁性スペーサ層は、下部Cu層と、上部Cu層と、前記下部Cu層および前記上部Cu層により挟まれ、部分酸化されたAlCuを含む電流路制限層とを有する
ことを特徴とする請求項11記載の磁気再生ヘッドの製造方法。 - さらに、(d)の前に、前記スピンバルブ構造体の各側壁に近い前記絶縁層内に、前記フリー層に縦方向バイアスを供給するバイアス層を形成する
ことを特徴とする請求項11記載の磁気再生ヘッドの製造方法。 - 前記基板上に、シード層と、反強磁性層と、前記ピンド層と、前記非磁性スペーサ層と、前記フリー層と、保護層とをこの順に成膜して前記スピンバルブ積層体を形成し、
ボトムスピンバルブ型の積層構造を有するように前記スピンバルブ構造体を形成する
ことを特徴とする請求項11記載の磁気再生ヘッドの製造方法。 - センス電流は、前記フリー層の磁気状態を読み出すために、膜面直交電流方式により前記第1磁気シールドと第2磁気シールドとの間に流される
ことを特徴とする請求項11記載の磁気再生ヘッドの製造方法。 - 前記スピンバルブ構造体は、トップスピンバルブ型、ボトムスピンバルブ型または多層スピンバルブ型の積層構造を有する
ことを特徴とする請求項11記載の磁気再生ヘッドの製造方法。 - 磁気再生ヘッドのセンサとして使用されるスピンバルブ構造体であって、
(a)ピンド層と、
(b)下部Fev Co(100-v) 層(v=20原子%〜70原子%)および上部Niw Fe(100-w) 層(w=90原子%〜100原子%)を含むフリー層と、
(c)前記ピンド層および前記フリー層により挟まれた非磁性スペーサ層と
を備えたことを特徴とするスピンバルブ構造体。 - 磁気再生ヘッドの第1磁気シールド上に形成されている
ことを特徴とする請求項21記載のスピンバルブ構造体。 - 前記ピンド層は、前記第1磁気シールド上に順に積層されたシード層および反強磁性層上に形成され、
前記フリー層上に保護層が形成され、
ボトムスピンバルブ型の積層構造を有する
ことを特徴とする請求項22記載のスピンバルブ構造体。 - 前記ピンド層は、隣接する反強磁性層によりピン止めされていると共に、第2反平行層/結合層/第1反平行層で表される積層構造を有し、
前記第2反平行層は、CoFe(Fe含有量=25原子%)を含み、
前記結合層は、Ruを含み、
前記第1反平行層は、[CoFe/Cu]n /CoFe(CoFeのFe含有量=70原子%,n=2または3)で表される積層構造を有する
ことを特徴とする請求項21記載のスピンバルブ構造体。 - 前記下部Fev Co(100-v) 層は、0.5nm〜3nmの厚さを有し、
前記上部Niw Fe(100-w) 層は、1nm〜6nmの厚さを有する
ことを特徴とする請求項21記載のスピンバルブ構造体。 - 前記下部Fev Co(100-v) 層は、v=20原子%であると共に2nmの厚さを有し、
前記上部Niw Fe(100-w) 層は、w=90原子%であると共に2.8nmの厚さを有する
ことを特徴とする請求項25記載のスピンバルブ構造体。 - 前記非磁性スペーサ層は、下部Cu層と、上部Cu層と、前記下部Cu層および前記上部Cu層により挟まれ、孔がCuで埋め込まれた多孔質のAlOx を含む電流路制限層とを有する
ことを特徴とする請求項21記載のスピンバルブ構造体。 - 前記非磁性スペーサ層は非磁性導電層であり、
巨大磁気抵抗効果を利用して動作する
ことを特徴とする請求項21記載のスピンバルブ構造体。 - 前記非磁性スペーサ層は絶縁層であり、
トンネル磁気抵抗効果を利用して動作する
ことを特徴とする請求項21記載のスピンバルブ構造体。 - 前記ピンド層、前記フリー層および前記非磁性スペーサ層は、ボトムスピンバルブ型、トップスピンバルブ型または多層スピンバルブ型の積層構造の一部である
ことを特徴とする請求項21記載のスピンバルブ構造体。 - (a)第1磁気シールドと、
(b)前記第1磁気シールド上に形成され、ピンド層と、下部Fev Co(100-v) 層(v=20原子%〜70原子%)および上部Niw Fe(100-w) 層(w=90原子%〜100原子%)を含むフリー層と、前記ピンド層および前記フリー層により挟まれた非磁性スペーサ層とを有すると共に、側壁および上面を有するスピンバルブ構造体と、
(c)前記スピンバルブ構造体の上面に形成された第2磁気シールドと
を備えたことを特徴とする磁気再生ヘッド。 - 前記ピンド層は、前記第1磁気シールド上に順に形成されたシード層および反強磁性層上に形成され、
前記スピンバルブ構造体は、最上層として保護層を有する
ことを特徴とする請求項31記載の磁気再生ヘッド。 - 前記シード層は、Ta/Ruで表される積層構造を有し、
前記反強磁性層は、IrMnを含み、
前記保護層は、Cu/Ru/Ta/Ruで表される積層構造を有する
ことを特徴とする請求項32記載の磁気再生ヘッド。 - 前記ピンド層は、第2反平行層/結合層/第1反平行層で表される積層構造を有し、
前記第2反平行層は、CoFe(Fe含有量=25原子%)を含み、
前記結合層は、Ru、RhまたはIrを含み、
前記第1反平行層は、[CoFe/Cu]n /CoFe(n=2または3)で表される積層構造を有する
ことを特徴とする請求項31記載の磁気再生ヘッド。 - 前記下部Fev Co(100-v) 層は、0.5nm〜3nmの厚さを有し、
前記上部Niw Fe(100-w) 層は、1nm〜6nmの厚さを有する
ことを特徴とする請求項31記載の磁気再生ヘッド。 - 前記下部Fev Co(100-v) 層は、v=20原子%であると共に2nmの厚さを有し、
前記上部Niw Fe(100-w) 層は、w=90原子%であると共に2.8nmの厚さを有する
ことを特徴とする請求項35記載の磁気再生ヘッド。 - 前記非磁性スペーサ層は、下部Cu層と、上部Cu層と、前記下部Cu層および前記上部Cu層により挟まれ、孔がCuで埋め込まれた多孔質のAlOx を含む電流路制限層とを有する
ことを特徴とする請求項31記載の磁気再生ヘッド。 - さらに、
前記スピンバルブ構造体の側壁に隣接するように形成された絶縁層と、
前記スピンバルブ構造体の各側壁に近い前記絶縁層内に形成され、前記フリー層に縦方向バイアスを供給するバイアス層と
を備えたことを特徴とする請求項31記載の磁気再生ヘッド。 - 前記スピンバルブ構造体は、ボトムスピンバルブ型、トップスピンバルブ型または多層スピンバルブ型の積層構造を有する
ことを特徴とする請求項31記載の磁気再生ヘッド。 - 前記vは、前記スピンバルブ構造体の磁気抵抗効果を最適化するための制御因子であり、
前記wは、前記スピンバルブ構造体の保持力および磁歪を低くするために調整される
ことを特徴とする請求項31記載の磁気再生ヘッド。
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