JP5058647B2 - 基板乾燥装置及び方法 - Google Patents
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Description
乾燥処理空間をその内部に有する乾燥チャンバと、
上記乾燥処理空間内の中央部において上記複数の基板を支持する基板支持部と、
上記乾燥チャンバの上部に固定され、上記基板支持部に向けて乾燥用空気を吹き出す上部吹き出し部と、
上記乾燥チャンバの互いに対向するそれぞれの内側壁と上記基板支持部との間に配置され、上記基板支持部に向けて乾燥用空気を吹き出す第1及び第2の側部吹き出し部と、
上記乾燥チャンバの底部中央部に設けられ、上記それぞれの吹き出し部より吹き出された乾燥用空気を上記乾燥処理空間外で排気する排気口と、
上記乾燥チャンバ内において、上記それぞれの吹き出し部より吹き出された乾燥用空気の一部を、上記乾燥チャンバの底部側から上記互いに対向するそれぞれの内壁部に沿って上昇させて、再び上記基板支持部に向かわせる第1及び第2の乾燥用空気循環通路と、
上記第1及び第2の乾燥用空気循環通路上にそれぞれ配置され、循環される乾燥用空気を加熱する第1及び第2の循環用加熱ヒータとを備えることを特徴とする基板乾燥装置を提供する。
上記第1の循環用加熱ヒータは、上記第1の側部吹き出し部と上記上部吹き出し部との間に配置されて、上記第2の循環用加熱ヒータは、上記第2の側部吹き出し部と上記上部吹き出し部との間に配置される、第1態様に記載の基板乾燥装置を提供する。
上記制御装置は、上記上部吹き出し部、上記第1の側部吹き出し部、及び上記第2の側部吹き出し部を、予め設定された順序で設定された時間にて、個別に吹き出し動作を実施させた後、上記それぞれの吹き出し部による吹き出し動作を同時に実施させる、第1態様から第5態様のいずれか1つに記載の基板乾燥装置を提供する。
その中央部に上記基板が配置される乾燥用空間をその内部に有する乾燥チャンバの上部に固定され、上記乾燥処理空間の中央部に向けて乾燥用空気を吹き出す上部吹き出し部と、上記乾燥チャンバの互いに対向するそれぞれの内側壁と上記乾燥処理空間の中央部との間に配置され、上記中央部の上記基板に向けて乾燥用空気を吹き出す第1及び第2の側部吹き出し部との上記それぞれの吹き出し部を、予め設定された順序で設定された吹き出し時間にて、個別に吹き出し動作を実施する工程と、
その後、上記それぞれの吹き出し部による吹き出し動作を同時に実施して、上記基板に付着した液体を取り除いて乾燥させる工程とを有し、
上記それぞれの工程において、上記吹き出し部により吹き出された上記乾燥用空気の一部を、上記乾燥チャンバの底部中央部の排気口より排気しながら、残りの上記乾燥用空気の一部を、上記乾燥チャンバ内において上記乾燥チャンバの底部側から上記互いに対向するそれぞれの内壁部に沿って上昇させて、再び上記中央部の上記基板に向かわせるように循環させることを特徴とする基板乾燥方法を提供する。
2 乾燥チャンバ
3 蓋部
4 排気口
5 キャリア
6 キャリア受け部
9 制御装置
10 上部吹き出し部
11 ノズル
12 吹き出し用ヒータ
19 水滴混入防止板
20 左側部吹き出し部
21〜23 ノズル
29 シリンダ機構
30 右側部吹き出し部
31〜33 ノズル
39 シリンダ機構
40、50循環用ヒータ
101、201 ウェハ乾燥装置
R1、R2 循環通路
S 乾燥処理空間
Claims (10)
- 洗浄液などの液体が付着した基板を乾燥させる基板乾燥装置において、
乾燥処理空間をその内部に有する乾燥チャンバと、
上記乾燥処理空間内の中央部において上記複数の基板を支持する基板支持部と、
上記乾燥チャンバの上部に固定され、上記基板支持部に向けて乾燥用空気を吹き出す上部吹き出し部と、
上記乾燥チャンバの互いに対向するそれぞれの内側壁と上記基板支持部との間に配置され、上記基板支持部に向けて乾燥用空気を吹き出す第1及び第2の側部吹き出し部と、
上記乾燥チャンバの底部中央部に設けられ、上記それぞれの吹き出し部より吹き出された乾燥用空気を上記乾燥処理空間外で排気する排気口と、
上記乾燥チャンバ内において、上記それぞれの吹き出し部より吹き出された乾燥用空気の一部を、上記乾燥チャンバの底部側から上記互いに対向するそれぞれの内壁部に沿って上昇させて、再び上記基板支持部に向かわせる第1及び第2の乾燥用空気循環通路と、
上記第1及び第2の乾燥用空気循環通路上にそれぞれ配置され、循環される乾燥用空気を加熱する第1及び第2の循環用加熱ヒータとを備えることを特徴とする基板乾燥装置。 - 上記第1の乾燥用空気循環通路は、一方の上記内側壁と上記第1の側部吹き出し部との間に配置されて、上記第2の乾燥用空気循環通路は、他方の上記内側壁と上記第2の側部吹き出し部との間に配置され、
上記第1の循環用加熱ヒータは、上記第1の側部吹き出し部と上記上部吹き出し部との間に配置されて、上記第2の循環用加熱ヒータは、上記第2の側部吹き出し部と上記上部吹き出し部との間に配置される、請求項1に記載の基板乾燥装置。 - 上記上部吹き出し部に吹き出される上記乾燥用空気を加熱する吹き出し用加熱ヒータがさらに備えられる、請求項1又は2に記載の基板乾燥装置。
- 上記それぞれの加熱ヒータは、電気的絶縁性を有する耐熱材料により形成され、上記循環された乾燥用空気を通過させるハニカム構造の通気孔部と、上記それぞれの通気孔部を通過する上記乾燥用空気を加熱する電熱線とを有するハニカム構造のヒータである、請求項1から3のいずれか1つに記載の基板乾燥装置。
- 上記第1及び第2の側部吹き出し部のそれぞれは、複数の吹き出しノズルと、少なくとも1つの上記吹き出しノズルを移動させて、その吹き出し方向を可変させる吹き出し方向可変装置とを備える、請求項1から4のいずれか1つに記載の基板乾燥装置。
- 上記それぞれの吹き出し部による上記乾燥用空気の吹き出しのタイミングを制御する制御装置をさらに備え、
上記制御装置は、上記上部吹き出し部、上記第1の側部吹き出し部、及び上記第2の側部吹き出し部を、予め設定された順序で設定された時間にて、個別に吹き出し動作を実施させた後、上記それぞれの吹き出し部による吹き出し動作を同時に実施させる、請求項1から5のいずれか1つに記載の基板乾燥装置。 - 上記第1及び第2の乾燥用空気循環通路と上記上部吹き出し部との間に、隔壁が設けられている、請求項1から6のいずれか1つに記載の基板乾燥装置。
- 上記乾燥チャンバの上記排気口と、上記第1及び第2の乾燥用空気循環通路との間に、上記基板より取り除かれた液滴が上記循環される乾燥用空気に混入することを抑制する液滴混入抑制部材が配置されている、請求項1から7のいずれか1つに記載の基板乾燥装置。
- 洗浄液などの液体が付着した基板を乾燥させる基板乾燥方法において、
その中央部に上記基板が配置される乾燥用空間をその内部に有する乾燥チャンバの上部に固定され、上記乾燥処理空間の中央部に向けて乾燥用空気を吹き出す上部吹き出し部と、上記乾燥チャンバの互いに対向するそれぞれの内側壁と上記乾燥処理空間の中央部との間に配置され、上記中央部の上記基板に向けて乾燥用空気を吹き出す第1及び第2の側部吹き出し部との上記それぞれの吹き出し部を、予め設定された順序で設定された吹き出し時間にて、個別に吹き出し動作を実施する工程と、
その後、上記それぞれの吹き出し部による吹き出し動作を同時に実施して、上記基板に付着した液体を取り除いて乾燥させる工程とを有し、
上記それぞれの工程において、上記吹き出し部により吹き出された上記乾燥用空気の一部を、上記乾燥チャンバの底部中央部の排気口より排気しながら、残りの上記乾燥用空気の一部を、上記乾燥チャンバ内において上記乾燥チャンバの底部側から上記互いに対向するそれぞれの内壁部に沿って上昇させて、再び上記中央部の上記基板に向かわせるように循環させることを特徴とする基板乾燥方法。 - 上記循環される乾燥用空気をその循環の経路にて加熱して、上記加熱された乾燥用空気を上記基板に向かわせる、請求項9に記載の基板乾燥方法。
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