CN110207470A - 干燥装置 - Google Patents
干燥装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN110207470A CN110207470A CN201910445497.0A CN201910445497A CN110207470A CN 110207470 A CN110207470 A CN 110207470A CN 201910445497 A CN201910445497 A CN 201910445497A CN 110207470 A CN110207470 A CN 110207470A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- cavity
- drying device
- tray unit
- shield
- flexible base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B23/00—Heating arrangements
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B25/00—Details of general application not covered by group F26B21/00 or F26B23/00
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B5/00—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat
- F26B5/04—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by evaporation or sublimation of moisture under reduced pressure, e.g. in a vacuum
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B9/00—Machines or apparatus for drying solid materials or objects at rest or with only local agitation; Domestic airing cupboards
- F26B9/06—Machines or apparatus for drying solid materials or objects at rest or with only local agitation; Domestic airing cupboards in stationary drums or chambers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Abstract
本申请提供一种干燥装置，其包括腔体、托盘单元、遮挡体和出气口；托盘单元设置在所述腔体内，托盘单元用于放置柔性基板；遮挡体设置在所述托盘单元和所述腔体之间；出气口开设在所述腔体上，用于排出所述柔性基板在烘烤中产生的挥发物，所述出气口设置在所述托盘单元背向所述柔性基板的一侧；所述遮挡体围设在所述托盘单元的外周并与所述腔体背向所述柔性基板的一侧界定形成一遮挡空间，所述遮挡空间连通所述出气口。本申请的干燥装置通过遮挡体的设置，避免了挥发物沉积在干燥装置的腔体上。
Description
技术领域
本申请涉及一种干燥技术，特别涉及一种用于干燥柔性基板的干燥装置。
背景技术
目前在柔性基板基材(聚酰亚胺)层的生产中，聚酰亚胺颗粒对柔性基板生产的影响很大，特别是烤箱设备中的聚酰亚胺颗粒。行业内采用的烤箱设备的最大问题在于：基材层在长时间的高温环境中，烤箱腔内会沉积大量的颗粒，一旦颗粒掉落到基材层上，在制成后颗粒就会嵌入膜上，造成基材层损伤。
而烤箱内主要的颗粒来源是：基材层在烘烤中产生挥发物并沉积在烤箱腔内壁形成沉积物，沉积物经过升降温循环后，就会从腔内壁脱落下来，从而产生颗粒。
发明内容
本申请实施例提供一种干燥装置，以解决现有的烤箱会产生颗粒造成基材层损伤的技术问题。
本申请实施例提供一种干燥装置，其包括：
腔体；
托盘单元，设置在所述腔体内，所述托盘单元用于放置柔性基板；
遮挡体，设置在所述托盘单元和所述腔体之间；
出气口，开设在所述腔体上，用于排出所述柔性基板在烘烤中产生的挥发物，所述出气口设置在所述托盘单元背向所述柔性基板的一侧；
其中，所述遮挡体围设在所述托盘单元的外周并与所述腔体背向所述柔性基板的一侧界定形成一遮挡空间，所述遮挡空间连通所述出气口。
在本申请的所述的干燥装置中，所述遮挡体包括多个侧板和一顶板，所述多个侧板围设在所述托盘单元的外周侧，所述顶板设置在所述多个侧板上并位于所述托盘单元放置所述柔性基板的一侧。
在本申请的所述的干燥装置中，所述侧板与所述托盘单元的外周间隔设置形成一气流通道。
在本申请的所述的干燥装置中，所述侧板和所述顶板的连接处开设有至少两个通孔，以使所述遮挡空间与所述遮挡空间的外部连通。
在本申请的所述的干燥装置中，所述通孔一一对应且相对设置。
在本申请的所述的干燥装置中，所述遮挡体为弧形结构状的罩体。
在本申请的所述的干燥装置中，所述罩体上设置有至少两个通孔，所述至少两个通孔位于所述罩体的周侧。
在本申请的所述的干燥装置中，所述通孔朝向所述腔体的周侧。
在本申请的所述的干燥装置中，所述遮挡体可拆卸设置在所述托盘单元的周侧。
在本申请的所述的干燥装置中，所述干燥装置还包括连通于所述腔体的进气单元，所述进气单元用于给所述腔体提供干燥的氮气或惰性气体；所述进气单元包括设置在所述腔体两侧的第一进气管道和设置在所述腔体顶部的第二进气管道；
其中，所述第一进气管道的进气口和所述通孔的开口相对设置。
在本申请的所述的干燥装置中，所述托盘单元包括托盘、加热板和支撑件，所述支撑件设置在所述腔体上且用于支撑所述托盘，所述托盘设置在所述支撑件上，所述加热板设置在所述托盘上且用于加热所述柔性基板。
相较于现有技术的烤箱，本申请的干燥装置通过遮挡体的设置，避免了挥发物沉积在干燥装置的腔体上，解决了现有的烤箱会产生颗粒造成基材层损伤的技术问题。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面对实施例中所需要使用的附图作简单的介绍。下面描述中的附图仅为本申请的部分实施例，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。
图1为本申请的第一实施例的干燥装置的结构示意图；
图2为本申请的第二实施例的干燥装置的结构示意图。
具体实施方式
请参照附图中的图式，其中相同的组件符号代表相同的组件。以下的说明是基于所例示的本申请具体实施例，其不应被视为限制本申请未在此详述的其它具体实施例。
请参照图1，图1为本申请的第一实施例的干燥装置的结构示意图。本第一实施例的干燥装置100包括腔体11、托盘单元12、遮挡体13、出气口14和进气单元15。
托盘单元12设置在腔体11内。托盘单元12用于放置柔性基板。遮挡体13设置在托盘单元12和腔体11之间；出气口14开设在腔体11上且用于排出柔性基板在烘烤中产生的挥发物。出气口14设置在托盘单元12背向柔性基板的一侧。
其中，遮挡体13围设在托盘单元12的外周并与腔体11背向所述柔性基板的一侧界定形成一遮挡空间a。遮挡空间a连通出气口14。
本第一的干燥装置100通过遮挡体12的设置，以避免挥发物沉积在干燥装置的腔体上。其中在进行柔性基板的烘烤中，挥发物从遮挡空间a经出气口14排出，而不会挥发至腔体11的顶部造成挥发物沉积在腔体11内壁，继而形成颗粒。
在本第一实施例的干燥装置100中，遮挡体13包括多个侧板131和一顶板132。多个侧板131围设在托盘单元12的外周侧。顶板132设置在多个侧板131上并位于托盘单元12放置所述柔性基板的一侧。具体的，侧板131设置有四个。四个侧板131和一个顶板132构成一个方形罩体，该方形罩体罩设在托盘单元12的外周。
其中，侧板131与托盘单元12的外周间隔设置形成一气流通道161。气流通道161使得遮挡空间a中托盘121上方的部分和遮挡空间a中托盘121下方的部分连通。进而可以使得遮挡空间a中的体态物体可以流向出气口14。
另外，侧板131和顶板132的连接处开设有至少两个通孔133，以使遮挡空间a与遮挡空间a的外部连通。具体的，通孔133将遮挡空间a和腔体11的内部进行了连通。因此当需要进行排气时，腔体11内部的气体可以通过通孔133进入遮挡空间a，进而从出气口14排出。
可选的，通孔133一一对应且相对设置。这样的设置，使得腔体11内的体态物体均匀的进入遮挡空间a。
进一步的，通孔133的朝向面向腔体11的周侧。这样的设置，可以将遮挡空间a的外部气态物体进行导流，即在腔体11内且位于遮挡空间a外的气体物体向遮挡空间a的两侧导流，降低了气态物体导向腔体11顶部的风险。
在本第一实施例中，遮挡体13可拆卸设置在托盘单元12的周侧。由于遮挡体13罩设在托盘单元12的外周，所以在进行烘烤时，挥发物向上移动，就在遮挡体13的顶板132上沉积，因此当烘烤了一定数量的柔性基板后，需将遮挡体13拆卸下来，并清理遮挡体13上的沉积物，后再安装在腔体11内。
在本第一实施例中，干燥装置100还包括连通于腔体11的进气单元15。进气单元15用于给腔体11提供干燥的氮气或惰性气体。进气单元包15括设置在腔体11两侧的第一进气管道151和设置在腔体11顶部的第二进气管道152。其中，第一进气管道151的进气口和通孔133的开口相对设置。
由于在进行柔性基板的干燥中，加热板122烘干柔性基板的同时，进气单元15还会不断的提供气体，且出气口14在进行排气，以形成一个循环。该循环为第二进气管道152输入的气体向遮挡体13的周侧流动，并与第一进气管道151输入的气体一起通过通孔133进入遮挡空间a内，后进入遮挡空间a内的气体与遮挡空间a内的挥发物等气态物质从出气口14排出。该循环避免了挥发物沉积于腔体11。
在本第一实施例中，托盘单元12包括托盘121、加热板122和支撑件123。支撑件123设置在腔体11上且用于支撑托盘121。托盘121设置在支撑件123上。加热板122设置在托盘121上且用于加热柔性基板。
本第一实施例的干燥装置100的操作过程是：
首先，将柔性基板放置在托盘单元12的托盘121上，随后将遮挡体13罩设在托盘单元12的外周，接着关闭腔体11。
随后，对腔体11抽真空处理。抽真空完毕后，通过进气单元15的进气管151向腔体11内输送氮气或惰性气体，且在输送的过程中保持腔体11处于真空状态。
接着，开启托盘单元12的加热板122对柔性基板进行加热，柔性基板产生挥发物；一部分挥发物上升沉积在遮挡体13的顶板132上，另一部分被出气口持续排出。
最后，当对柔性基板烘烤完毕后，进行最后排气处理。
这样便完成本第一实施例的操作过程。
请参考图2，图2为本申请的第二实施例的干燥装置的结构示意图。本第二实施例与第一实施例的不同之处在于：遮挡体为弧形结构状的罩体22。
罩体22上设置有至少两个通孔221。至少两个通孔221位于罩体22的周侧。
相较于现有技术的烤箱，本申请的干燥装置通过遮挡体的设置，避了免挥发物沉积在干燥装置的腔体上，解决了现有的烤箱会产生颗粒造成基材层损伤的技术问题。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本申请的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本申请后附的权利要求的保护范围。
Claims (10)
1.一种干燥装置，其特征在于，包括：
腔体；
托盘单元，设置在所述腔体内，所述托盘单元用于放置柔性基板；
遮挡体，设置在所述托盘单元和所述腔体之间；
出气口，开设在所述腔体上，用于排出所述柔性基板在烘烤中产生的挥发物，所述出气口设置在所述托盘单元背向所述柔性基板的一侧；
其中，所述遮挡体围设在所述托盘单元的外周并与所述腔体背向所述柔性基板的一侧界定形成一遮挡空间，所述遮挡空间连通所述出气口。
2.根据权利要求1所述的干燥装置，其特征在于，所述遮挡体包括多个侧板和一顶板，所述多个侧板围设在所述托盘单元的外周侧，所述顶板设置在所述多个侧板上并位于所述托盘单元放置所述柔性基板的一侧。
3.根据权利要求2所述的干燥装置，其特征在于，所述侧板与所述托盘单元的外周间隔设置形成一气流通道。
4.根据权利要求2所述的干燥装置，其特征在于，所述侧板和所述顶板的连接处开设有至少两个通孔，以使所述遮挡空间与所述遮挡空间的外部连通。
5.根据权利要求4所述的干燥装置，其特征在于，所述通孔一一对应且相对设置。
6.根据权利要求4所述的干燥装置，其特征在于，所述干燥装置还包括连通于所述腔体的进气单元，所述进气单元用于给所述腔体提供干燥的氮气或惰性气体；所述进气单元包括设置在所述腔体两侧的第一进气管道和设置在所述腔体顶部的第二进气管道；
其中，所述第一进气管道的进气口和所述通孔的开口相对设置。
7.根据权利要求1所述的干燥装置，其特征在于，所述遮挡体为弧形结构状的罩体。
8.根据权利要求7所述的干燥装置，其特征在于，所述罩体上设置有至少两个通孔，所述至少两个通孔位于所述罩体的周侧。
9.根据权利要求4或8所述的干燥装置，其特征在于，所述通孔朝向所述腔体的周侧。
10.根据权利要求1所述的干燥装置，其特征在于，所述遮挡体可拆卸设置在所述托盘单元的周侧。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910445497.0A CN110207470A (zh) | 2019-05-27 | 2019-05-27 | 干燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910445497.0A CN110207470A (zh) | 2019-05-27 | 2019-05-27 | 干燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN110207470A true CN110207470A (zh) | 2019-09-06 |
Family
ID=67788767
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201910445497.0A Pending CN110207470A (zh) | 2019-05-27 | 2019-05-27 | 干燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN110207470A (zh) |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003188077A (ja) * | 2001-12-19 | 2003-07-04 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板乾燥装置 |
| JP2006185939A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-07-13 | Seiko Epson Corp | 溶媒除去装置および溶媒除去方法 |
| CN101013272A (zh) * | 2007-02-08 | 2007-08-08 | 友达光电股份有限公司 | 烘烤设备 |
| JP5058647B2 (ja) * | 2007-03-28 | 2012-10-24 | 東邦化成株式会社 | 基板乾燥装置及び方法 |
| CN106773560A (zh) * | 2016-12-07 | 2017-05-31 | 武汉华星光电技术有限公司 | 基板烘烤装置 |
| CN107615456A (zh) * | 2015-06-12 | 2018-01-19 | 株式会社Jet | 基板处理装置以及基板处理方法 |
| CN109581709A (zh) * | 2019-01-04 | 2019-04-05 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 烘烤装置 |
-
2019
- 2019-05-27 CN CN201910445497.0A patent/CN110207470A/zh active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003188077A (ja) * | 2001-12-19 | 2003-07-04 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板乾燥装置 |
| JP2006185939A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-07-13 | Seiko Epson Corp | 溶媒除去装置および溶媒除去方法 |
| CN101013272A (zh) * | 2007-02-08 | 2007-08-08 | 友达光电股份有限公司 | 烘烤设备 |
| JP5058647B2 (ja) * | 2007-03-28 | 2012-10-24 | 東邦化成株式会社 | 基板乾燥装置及び方法 |
| CN107615456A (zh) * | 2015-06-12 | 2018-01-19 | 株式会社Jet | 基板处理装置以及基板处理方法 |
| CN106773560A (zh) * | 2016-12-07 | 2017-05-31 | 武汉华星光电技术有限公司 | 基板烘烤装置 |
| CN109581709A (zh) * | 2019-01-04 | 2019-04-05 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 烘烤装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI751965B (zh) | 具有排氣空間之氣相反應器與系統以及其組件 | |
| TWI722725B (zh) | 具有更均勻的邊緣清洗的基板支撐件 | |
| KR102386812B1 (ko) | 샤워헤드 설계 | |
| JP2014070249A5 (zh) | ||
| JP6218921B2 (ja) | Ａｌｄコーティングによるターゲットポンプ内部の保護 | |
| KR101090350B1 (ko) | 퓸 제거장치 및 이를 이용한 반도체 제조장치 | |
| TWM446412U (zh) | 易清潔的排氣環 | |
| TW201525168A (zh) | 製程腔室以及半導體加工裝置 | |
| JP2007266610A5 (zh) | ||
| TWI713472B (zh) | 用於塗佈有含溶劑之塗層的晶圓之烘烤裝置 | |
| TWI585225B (zh) | 真空鍍膜用氣管及應用該氣管的真空鍍膜裝置 | |
| JP2018501405A5 (zh) | ||
| JP2022518134A (ja) | 基板処理チャンバ用のポンピング装置及び方法 | |
| US20080128402A1 (en) | Heat treatment apparatus | |
| KR102217790B1 (ko) | 기체 화합물들을 퍼징하기 위한 장치 및 방법 | |
| TWI627669B (zh) | Gas injection device for inductively coupled plasma chamber | |
| TW201802990A (zh) | 用於晶圓釋氣的電漿增強式退火腔室 | |
| CN110207470A (zh) | 干燥装置 | |
| CA2475841A1 (en) | Convection oven with laminar airflow and method | |
| TWI281004B (en) | Vacuum treatment installation with a variable pump arrangement | |
| CN105803424A (zh) | 薄膜生长腔室和薄膜生长设备 | |
| KR101696196B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
| CN204944142U (zh) | 一种涂层烘干装置 | |
| KR102477770B1 (ko) | 막 형성 장치, 막 형성 방법 및 막 형성 장치를 이용한 반도체 장치의 제조 방법 | |
| JP2012167865A (ja) | 熱処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20190906 |
|
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |