KR101541867B1 - 솔라 웨이퍼의 건조장치 - Google Patents

솔라 웨이퍼의 건조장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101541867B1
KR101541867B1 KR1020150018760A KR20150018760A KR101541867B1 KR 101541867 B1 KR101541867 B1 KR 101541867B1 KR 1020150018760 A KR1020150018760 A KR 1020150018760A KR 20150018760 A KR20150018760 A KR 20150018760A KR 101541867 B1 KR101541867 B1 KR 101541867B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
bath
space
air
solar
solar wafer
Prior art date
Application number
KR1020150018760A
Other languages
English (en)
Inventor
정찬수
한윤호
Original Assignee
창성 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 창성 주식회사 filed Critical 창성 주식회사
Priority to KR1020150018760A priority Critical patent/KR101541867B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101541867B1 publication Critical patent/KR101541867B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H—ELECTRICITY
    • H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02S—GENERATION OF ELECTRIC POWER BY CONVERSION OF INFRARED RADIATION, VISIBLE LIGHT OR ULTRAVIOLET LIGHT, e.g. USING PHOTOVOLTAIC [PV] MODULES
    • H02S40/00—Components or accessories in combination with PV modules, not provided for in groups H02S10/00 - H02S30/00
    • H02S40/10—Cleaning arrangements
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)

Abstract

본 발명은 태양전지를 제조하기 위한 크리닝 공정에서 솔라 웨이퍼에 묻은 세정액이나 수분을 제거하는 건조장치에 관한 기술로서, 솔라 웨이퍼의 건조시간을 단축하는 한편 건조효율을 높이며, 가열된 내부공기를 대류시켜 건조과정을 수행하므로 표면의 손상과 변형을 방지할 뿐만 아니라 에너지를 절감하고, 공정수율과 생산성을 높이는 솔라 웨이퍼의 건조장치에 관한 기술이다.
이러한 본 발명의 주요 구성은 크린롬의 내부에 설치되고, 바닥면 위로 베이스가 설치되어 내부공간이 상부공간과 하부공간으로 구획되는 한편 상부에 도어가 설치된 배스; 상기 배스의 상부공간에서 베이스의 양측부에 수직상으로 설치되고, 다수개의 송풍공이 형성된 송풍패널; 상기 송풍패널의 안쪽에 카세트의 길이 방향으로 설치되고, 카세트에 수납된 솔라 웨이퍼를 지지하는 이탈방지구; 상기 배스의 하부공간에 설치되고, 상부공간의 공기를 흡입하여 순환시키는 송풍팬; 및 상기 배스의 하부공간에 설치되고, 내부공기를 가열하는 히터;를 포함하여 구현된다.

Description

솔라 웨이퍼의 건조장치 {Solar wafer drying system}
본 발명은 태양전지를 제조하기 위한 크리닝 공정에서 솔라 웨이퍼에 묻은 세정액이나 수분을 제거하는 건조장치에 관한 기술로서, 보다 상세하게 설명하면 배스의 내부공간에 다수의 솔라 웨이퍼가 수납된 카세트가 놓여 안착되고, 가열히터가 배스의 내부공기를 일정 온도로 가열하는 한편 송풍팬이 가열된 내부공기를 솔라 웨이퍼로 순환시켜 표면에 묻은 세정액이나 수분을 건조함으로써, 솔라 웨이퍼의 건조시간을 단축하는 한편 건조효율을 높이며, 가열된 내부공기를 대류시켜 건조과정을 수행하므로 표면의 손상과 변형을 방지할 뿐만 아니라 에너지를 절감하고, 공정수율과 생산성을 높이는 솔라 웨이퍼의 건조장치에 관한 기술이다.
일반적으로 석유나 석탄과 같은 화석 에너지 자원의 고갈이 예측되고, 환경오염이 대두되면서 이를 대체할 수 있는 대체 에너지에 대한 관심이 높아지고 있으며, 그 중에서도 태양 에너지 자원은 무한히 이용할 수 있고, 환경오염에 대한 문제가 없으므로, 많은 연구가 진행되고 있다.
이러한 태양 에너지를 이용하여 발전하는 방법에는 태양빛을 열로 받아들여 발전하는 태양열 발전과, 반도체의 성질을 이용하여 태양광(photons) 에너지를 전기로 변환하는 태양광 발전으로 구분할 수 있으며, 보통 태양전지(solar cells)라고 하면 태양광 전지를 의미한다.
태양전지의 종류는 실리콘 반도체를 재료로 사용하는 것과, 화합물 반도체를 재료로 사용하는 것으로 크게 구분되고, 실리콘 반도체의 경우, 결정계와 비결정계로 분류되며, 물론 이같은 분류 외에 더욱 다양하다 할 수 있다. 태양전지의 기술 개발에 관해서는 변환효율의 향상이나 가격조정 등이 중요한 과제이며, 실리콘 및 화합물 반도체 태양전지 또한 변환효율을 높이고, 가격을 낮출 수 있는 박막 태양전지의 개발에 집중하고 있다.
최근 실리콘 반도체를 재료로 사용하는 태양전지는 솔라 웨이퍼(solar wafer)를 세정 - 증착 - 식각 등의 다양한 공정을 거쳐 제조되며, 이에 따라 솔라 웨이퍼를 다양한 공정으로 이동시켜 옮겨야 하는데, 이러한 경우 다수의 솔라 웨이퍼를 카세트에 수납하여 이송하고 있다.
또한 태양전지의 제조공정에서 솔라 웨이퍼는 미세 잔극이나 결함이 존재하므로 이를 없애고, 솔라 웨이퍼의 반사율을 감소시키기 위해 텍스쳐링(texturing) 공정을 거치며, 텍스쳐링 공정을 거친 솔라 웨이퍼는 표면의 산화막과 각종 이물질을 제거하는 크리닝 공정을 거친다.
크리닝 공정은 솔라 웨이퍼가 수납된 카세트를 세정액이 수용된 다수의 배스(bath)에 순차적으로 담가 표면의 산화막과 각종 이물질을 제거하는 세정공정과, 솔라 웨이퍼에 묻은 세정액이나 물기를 제거하는 탈수공정과, 솔라 웨이퍼의 수분을 건조하는 건조공정으로 실시된다.
종래 크리닝 공정에서 솔라 웨이퍼에 묻은 세정액이나 수분을 건조하는 건조공정은 히터와 블로워(blower)를 통해 다수의 분사노즐로 가열된 공기가 송풍되고, 분사노즐에서 가열된 공기를 솔라 웨이퍼에 분사하여 건조과정이 수행됨에 따라 건조 시간이 지연되고, 건조효율이 떨어지는 한편 각종 이물질이 솔라 웨이퍼의 표면을 손상시킬 뿐만 아니라 공정수율과 생산성이 저하되는 문제점이 있었다.
대한민국 등록특허 제10-1058835호. 대한민국 등록특허 제10-1134525호. 대한민국 등록특허 제10-1134526호. 대한민국 등록특허 제10-1209772호.
본 발명은 종래 태양전지를 제조하기 위한 크리닝 공정에서 솔라 웨이퍼에 묻은 세정액이나 수분을 건조하는 건조공정에 따른 문제점들을 개선하고자 안출된 기술로서, 솔라 웨이퍼의 건조시간을 단축하는 한편 건조효율을 높이며, 배스의 내부공간에서 가열된 공기를 대류시켜 건조과정을 수행하므로 솔라 웨이퍼의 손상과 변형을 방지할 뿐만 아니라 에너지를 절감하고, 공정수율과 생산성을 높이는 솔라 웨이퍼의 건조장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한 본 발명은 배스의 내부공간에 다수의 솔라 웨이퍼가 수납된 카세트가 놓여 안착되고, 배스의 내부공기를 가열히터가 일정 온도로 가열하는 한편 송풍팬이 가열된 내부공기를 솔라 웨이퍼로 순환시켜 건조과정을 수행함에 따라 표면에 묻은 세정액이나 수분을 건조하는 솔라 웨이퍼의 건조장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 상기와 같은 소기의 목적을 실현하고자,
크린롬의 내부에 설치되고, 바닥면 위로 베이스가 설치되어 내부공간이 상부공간과 하부공간으로 구획되는 한편 상부에 도어가 설치된 배스; 상기 배스의 상부공간에서 베이스의 양측부에 수직상으로 설치되고, 다수개의 송풍공이 형성된 송풍패널; 상기 송풍패널의 안쪽에 카세트의 길이 방향으로 설치되고, 카세트에 수납된 솔라 웨이퍼를 지지하는 이탈방지구; 상기 배스의 하부공간에 설치되고, 상부공간의 공기를 흡입하여 순환시키는 송풍팬; 및 상기 배스의 하부공간에 설치되고, 내부공기를 가열하는 히터;를 포함하여 구현된다.
또한 본 발명의 실시예로서, 송풍패널은 배스의 양쪽 내측면과 소정의 공간으로 이격되고, 베이스 위로 플레이트가 놓여 설치되는 한편 플레이트는 내부공기가 순환될 수 있도록 다수개의 통풍공이 형성되며, 상부 양측에 거치대가 설치된 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명의 실시예로서, 송풍패널의 안쪽에 솔라 웨이퍼의 이탈을 방지하는 이탈방지구가 설치되며, 상기 이탈방지구는 복수개의 포스트가 수직상으로 설치되고, 상기 포스트의 상단부에 카세트의 길이 방향으로 가이드바가 설치된 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시예는 크리닝 공정에서 배스의 내부공간에 다수의 솔라 웨이퍼가 수납된 카세트가 놓여 안착되고, 배스의 내부공기를 가열히터가 일정 온도로 가열하는 한편 송풍팬이 가열된 내부공기를 솔라 웨이퍼로 순환시켜 건조과정을 수행함에 따라 솔라 웨이퍼의 건조시간을 단축하고, 건조효율을 높이는 한편 솔라 웨이퍼의 손상과 변형을 방지하는 효과가 있다.
아울러, 본 발명의 실시예는 배스의 내부공간에서 히터로 가열된 내부공기를 대류시켜 솔라 웨이퍼의 건조과정을 수행하므로 솔라 웨이퍼의 손상과 변형을 방지할 뿐만 아니라 에너지를 절감하고, 건조시간을 단축하므로 공정수율과 생산성을 높이는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에서 솔라 웨이퍼의 크리닝 공정을 나타낸 구성도.
도 2는 본 발명에서 건조장치의 설치상태를 나타낸 요부 정단면도.
도 3은 본 발명에서 건조장치의 설치상태를 나타낸 요부 측단면도.
도 4는 본 발명에서 카세트의 안착상태를 나타낸 요부 정단면도.
도 5는 본 발명에서 카세트의 안착상태를 나타낸 요부 측단면도.
도 6은 본 발명에서 건조장치의 설치상태를 나타낸 요부 평단면도.
도 7은 본 발명에서 건조장치의 작동상태를 나타낸 요부 정단면도.
도 8은 본 발명에서 플레이트를 나타낸 평면도.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 주요 구성을 살펴보면, 크린롬(100)의 내부에 설치되고, 바닥면 위로 베이스(12)가 설치되어 내부공간이 상부공간(15)과 하부공간(16)으로 구획되는 한편 상부에 도어(11)가 설치된 배스(10); 상기 배스(10)의 상부공간(15)에서 베이스(12)의 양측부에 수직상으로 설치되고, 다수개의 송풍공(21)이 형성된 송풍패널(20); 상기 송풍패널(20)의 안쪽에 카세트(60)의 길이 방향으로 설치되고, 카세트(60)에 수납된 솔라 웨이퍼(61)를 지지하는 이탈방지구(30); 상기 배스(10)의 하부공간(16)에 설치되고, 상부공간(15)의 공기를 흡입하여 순환시키는 송풍팬(40); 및 상기 배스(10)의 하부공간(16)에 설치되고, 내부공기를 가열하는 히터(50);를 포함하여 이루어진다.
솔라 웨이퍼의 크리닝 공정은 도면에서 도 1과 같이, 크린롬(100)의 한쪽에 카세트(60)가 투입 이송되는 로딩장치(200)가 배치되는 한편 이와 반대쪽에 언로딩장치(500)가 배치되고, 상기 크린롬(100)의 내부에 세정과정이 수행되는 다수의 배스(10)가 설치되는 한편 탈수장치(300)와 건조장치가 차례로 배치되며, 크린롬(100)의 내부로 로딩된 카세트(60)는 로봇(400)을 통해 순차적으로 이송되어 세정과 탈수 및 건조과정 등의 크리닝 공정이 수행된다.
상기 실시예의 주요 구성에서 배스(10)는 내부공간에 카세트(60)가 투입되어 솔라 웨이퍼(61)의 건조과정이 수행되는 기능으로서, 상기 배스(10)는 도면에서 도 2 내지 도 4와 같이, 크린롬(100)의 내부에 일정한 간격으로 배치되고, 상부에 개폐가능케 도어(11)가 설치되어 밀폐된 공간으로 구성된다.
상기에서 배스(10)는 하부가 밀폐되고, 상부에 개폐가능케 도어(11)가 설치되며, 바닥면 위에 칸막이 형태로 베이스(12)가 설치되어 내부공간이 상부공간(15)과 하부공간(16)으로 구획되는 한편 베이스(12)의 중앙부에 흡기홀(13)이 관통되고, 상기 흡기홀(13)의 양측부에 길이 방향으로 송풍홀(14)이 형성된다.
배스(10)는 크린롬(100)의 내부공간에서 프레임에 일정한 간격과 높이로 고정 설치되고, 밀폐된 내부공간은 2개의 카세트(60)가 수용될 수 있는 크기로 구성됨이 바람직하다.
또한 상기 실시예의 주요 구성에서 송풍패널(20)은 가열된 내부공기를 카세트(60)에 고르게 순환시켜 솔라 웨이퍼(61)를 건조하는 기능으로서, 상기 송풍패널(20)은 도면에서 도 2 내지 도 4와 같이, 배스(10)의 상부공간(15)에서 양쪽 내측면과 이격되도록 베이스(12)의 양측부에 수직상으로 설치되고, 다수개의 송풍공(21)이 조밀한 간격으로 형성된다.
상기에서 송풍패널(20)은 칸막이 형태로 설치되며, 배스(10)의 양쪽 내측면과 소정의 공간으로 이격되고, 이격된 공간의 하부에 길이 방향으로 송풍홀(14)이 위치한다.
한편 송풍패널(20)의 안쪽에서 베이스(12) 위로 플레이트(22)가 놓여 설치되고, 상기 플레이트(22)는 내부공기가 순환될 수 있도록 다수개의 통풍공(23)이 조밀하게 형성된다.
상기에서 플레이트(22)는 상부에 카세트(60)가 놓여 안착될 수 있도록 양측부에 거치대(24)가 설치되며, 상기 거치대(24)는 2개의 카세트(60)가 하나의 세트로 안착되게 한쌍으로 구성됨이 바람직하다.
또한 상기 실시예의 주요 구성에서 이탈방지구(30)는 카세트(60)에 수납된 솔라 웨이퍼(61)를 지지하여 이탈을 방지하는 기능으로서, 상기 이탈방지구(30)는 도면에서 도 2 내지 도 6과 같이, 카세트(60)가 안착되는 플레이트(22)의 상부에 하나 이상으로 구성되고, 송풍패널(20)의 안쪽에 카세트(60)의 길이 방향으로 설치된다.
상기에서 이탈방지구(30)는 플레이트(22)의 상부에 복수개의 포스트(32)가 수직상으로 설치되고, 상기 포스트(32)의 상단부에 카세트(60)의 길이 방향으로 가이드바(31)가 설치되며, 상기 가이드바(31)의 일측 단부가 카세트(60)에 수납된 솔라 웨이퍼(61)에 인접하여 지지하므로 이탈을 방지하고, 카세트(60)의 수납 방향에 배치된다.
또한 상기 실시예의 주요 구성에서 송풍팬(40)은 배스(10)의 내부공기를 강제 순환시키는 기능으로서, 상기 송풍팬(40)은 도면에서 도 2 내지 도 5와 같이, 배스(10)의 밀폐된 하부공간(16)에 설치되고, 송풍팬(40)과 베이스(12) 사이에 흡기덕트(41)가 연결 설치된다.
상기에서 흡기덕트(41)는 일측이 베이스(12)에 형성된 흡기홀(13)의 직경보다 넓게 구성되고, 이와 대향측은 점점 좁아져 송풍팬(40)에 근접하게 위치하며, 상기 송풍팬(40)은 베이스(12)의 흡기홀(13)과 흡기덕트(41)를 통해 상부공간(15)의 공기를 중앙으로 흡입하여 하부공간(16)에 방사상으로 송풍함이 바람직하다.
또한 상기 실시예의 주요 구성에서 히터(50)는 배스(10)의 내부공기를 가열하여 솔라 웨이퍼(61)를 건조하는 기능으로서, 상기 히터(50)는 도면에서 도 2 내지 도 5와 같이, 배스(10)의 하부공간(16) 양측부에 길이 방향으로 설치되고, 내부공기를 일정 온도로 가열하게 된다.
상기에서 히터(50)는 전기를 사용하는 히터봉을 적용함이 바람직하고, 하부공간(16)의 양측부에 길이 방향으로 배치되며, 송풍팬(40)의 양측부에 위치하여 내부공기를 가열하고, 하부공간(16)의 일측에 온도센서(51)가 설치된다.
상기에서 온도센서(51)는 하부공간(16)의 온도를 감지하여 컨트롤러에 신호하고, 컨트롤러에서 온도센서(51)의 신호에 따라 히터(50)를 작동시켜 내부공기를 일정한 온도(50°~60°)로 가열하게 된다.
이러한 구성으로 이루어진 본 발명의 실시예에 따른 작동과정을 살펴보면, 우선 도어(11)가 열린 상태에서 로봇(400)을 통해 2개의 카세트(60)가 하나의 세트로 투입되어 거치대(24) 위에 놓여 안착되고, 도어(11)가 닫혀 밀폐된 다음, 이상태에서 송풍팬(40)과 히터(50)가 작동하여 배스(10)의 내부공기를 가열하는 한편 내부공기를 상부공간(15)과 하부공간(16)으로 강제 순환시킨다.
내부공기의 순환과정은 도면에서 도 7과 같이, 송풍팬(40)의 작동으로 상부공간(15)의 공기가 플레이트(22)의 통풍공(23)과 베이스(12)의 흡기홀(13) 및 흡기덕트(41)를 통해 송풍팬(40)으로 흡입되고, 상기 송풍팬(40)으로 흡입된 공기는 하부공간(16)에 방사상으로 송풍되면서 히터(50)에 접촉하여 가열되며, 가열된 내부공기는 베이스(12)의 양측부에 위치한 송풍홀(14)을 통해 배스(10)의 내측면과 송풍패널(20) 사이의 공간으로 송풍된 다음, 송풍패널(20)에 형성된 다수개의 송풍공(21)을 통하여 솔라 웨이퍼(61)가 수납된 카세트(60)로 고르게 순환되면서 건조과정이 수행된다.
이와 같은 본 발명의 실시예는 배스의 내부공간에 다수의 솔라 웨이퍼가 수납된 카세트가 놓여 안착되고, 배스의 내부공기를 히터가 일정 온도로 가열하는 한편 송풍팬이 가열된 내부공기를 솔라 웨이퍼로 순환시켜 건조과정을 수행함에 따라 솔라 웨이퍼의 건조시간을 단축하고, 건조효율을 높이는 한편 솔라 웨이퍼의 손상과 변형을 방지하게 된다.
또한 본 발명의 실시예는 히터로 가열된 내부공기를 송풍팬이 작동하여 배스의 상부공간과 하부공간으로 대류시켜 솔라 웨이퍼의 건조과정을 수행함으로써, 솔라 웨이퍼의 건조시간을 단축하여 공정수율과 생산성을 높이고, 소요되는 에너지를 절감하게 된다.
상기에서 본 발명의 바람직한 실시예를 참고로 설명 하였으며, 상기의 실시예에 한정되지 아니하고, 상기의 실시예를 통해 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변경으로 실시할 수 있는 것이다.
10: 배스(bath) 11: 도어
12: 베이스 13: 흡기홀
14: 송풍홀 20: 송풍패널
21: 송풍공 22: 플레이트
23: 통풍공 24: 거치대
30: 이탈방지구 31: 가이드바
32: 포스트 40: 송풍팬
41: 흡기덕트 50: 히터
51: 온도센서 60: 카세트
61: 솔라 웨이퍼

Claims (5)

  1. 크린롬(100)의 내부에 설치되고, 바닥면 위로 베이스(12)가 설치되어 내부공간이 상부공간(15)과 하부공간(16)으로 구획되는 한편 상부에 도어(11)가 설치된 배스(10); 상기 배스(10)의 상부공간(15)에서 베이스(12)의 양측부에 수직상으로 설치되고, 다수개의 송풍공(21)이 형성되는 한편 안쪽에 카세트(60)가 안착되는 송풍패널(20); 상기 배스(10)의 하부공간(16)에 설치되고, 상부공간(15)의 공기를 흡입하여 카세트(60)로 순환시키는 송풍팬(40); 및 상기 배스(10)의 하부공간(16)에 설치되고, 내부공기를 가열하는 히터(50);를 포함하고,
    상기 배스(10)는 베이스(12)의 중앙부에 흡기홀(13)이 관통되고, 상기 흡기홀(13)의 양측부에 길이 방향으로 송풍홀(14)이 형성된 것을 특징으로 하는 솔라 웨이퍼의 건조장치.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    송풍패널(20)은,
    배스(10)의 양쪽 내측면과 소정의 공간으로 이격되고, 베이스(12) 위로 플레이트(22)가 놓여 설치되는 한편 플레이트(22)는 내부공기가 순환될 수 있도록 다수개의 통풍공(23)이 형성되며, 상부 양측에 거치대(24)가 설치된 것을 특징으로 하는 솔라 웨이퍼의 건조장치.
  4. 제1항에 있어서,
    송풍팬(40)은,
    배스(10)의 밀폐된 하부공간(16)에 설치되고, 송풍팬(40)과 베이스(12) 사이에 흡기덕트(41)가 연결 설치된 것을 특징으로 하는 솔라 웨이퍼의 건조장치.
  5. 제1항에 있어서,
    송풍패널(20)의 안쪽에 솔라 웨이퍼(61)의 이탈을 방지하는 이탈방지구(30)가 설치되며, 상기 이탈방지구(30)는 복수개의 포스트(32)가 수직상으로 설치되고, 상기 포스트(32)의 상단부에 카세트(60)의 길이 방향으로 가이드바(31)가 설치된 것을 특징으로 하는 솔라 웨이퍼의 건조장치.
KR1020150018760A 2015-02-06 2015-02-06 솔라 웨이퍼의 건조장치 KR101541867B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150018760A KR101541867B1 (ko) 2015-02-06 2015-02-06 솔라 웨이퍼의 건조장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150018760A KR101541867B1 (ko) 2015-02-06 2015-02-06 솔라 웨이퍼의 건조장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101541867B1 true KR101541867B1 (ko) 2015-08-06

Family

ID=53885524

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150018760A KR101541867B1 (ko) 2015-02-06 2015-02-06 솔라 웨이퍼의 건조장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101541867B1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109654824A (zh) * 2019-01-26 2019-04-19 常州捷佳创精密机械有限公司 一种槽式烘干结构
CN113659928A (zh) * 2021-10-20 2021-11-16 南通睿博电器有限公司 一种光伏发电设备

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5058647B2 (ja) * 2007-03-28 2012-10-24 東邦化成株式会社 基板乾燥装置及び方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5058647B2 (ja) * 2007-03-28 2012-10-24 東邦化成株式会社 基板乾燥装置及び方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109654824A (zh) * 2019-01-26 2019-04-19 常州捷佳创精密机械有限公司 一种槽式烘干结构
CN113659928A (zh) * 2021-10-20 2021-11-16 南通睿博电器有限公司 一种光伏发电设备

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105575855B (zh) 基板处理设备
US5331987A (en) Apparatus and method for rinsing and drying substrate
US6401732B2 (en) Thermocapillary dryer
US10748795B2 (en) Substrate processing method and substrate processing apparatus
CN101840844B (zh) 衬底处理装置
CN1837731A (zh) 加热装置、涂布显影装置及加热方法
KR101023095B1 (ko) 태양광전지모듈 라미네이팅 장치
TWI762273B (zh) 物料傳送盒的清潔方法及其設備
KR101541867B1 (ko) 솔라 웨이퍼의 건조장치
JP7128099B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
KR102152904B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
JP3984004B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理方法
KR100935475B1 (ko) 열처리장치
CN212512091U (zh) 一种便于太阳能板加工固化烘干设备
JP5523502B2 (ja) 基板処理方法および基板処理装置
US6179930B1 (en) Pull-up drying method and apparatus
KR20130020459A (ko) Ｃｉｇｓ층 형성장치
KR102229786B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
CN211320059U (zh) 一种用于硅晶片清洗后干燥、去污的装置
CN111192843A (zh) 一种用于硅晶片清洗后干燥、去污的装置及方法
KR101541865B1 (ko) 솔라 웨이퍼의 리프트 탈수장치
CN211476494U (zh) 一种硅片烘干装置
US20180269079A1 (en) Substrate treatment method and substrate treatment device
TW201332041A (zh) 基板冷卻單元及基板處理設備
KR100488250B1 (ko) 반도체 제품을 제조하기 위한 장치

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180814

Year of fee payment: 4