JP5057745B2 - 光電変換装置の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明における導電性基板1は、アルミニウム基板、アルミニウムの融点以上の融点を有する金属基板、表面に導電層が形成されたセラミック基板等から成ればよく、例えば、アルミニウム,アルミニウム合金,鉄,ステンレススチール,ニッケル合金,アルミナセラミックス等から成る基板が用いられる。導電性基板1の材料がアルミニウム以外のものを用いた場合、アルミニウム以外の材料からなる基板上にアルミニウムから成る導電層を形成してもよい。
(結晶半導体粒子)
本発明における結晶半導体粒子2の形状は球状である。結晶半導体粒子2が球状であることで、この結晶半導体粒子2が凸曲面を有することにより、入射光の光線角度の依存性を小さくできる。球状としては特に真球状が好ましく、その場合、入射光の光線角度の依存性をより小さくでき、また導電性基板1に対する結晶半導体粒子2の接合性を向上させるとともに各結晶半導体粒子2の接合力を均一化することができるという効果が得られる。
結晶半導体粒子2は、その多数個(数1000個〜数100000個程度)が互いに間隔をあけて導電性基板1上に接合されている。結晶半導体粒子2同士の間の間隔は、結晶半導体粒子2の使用量を少なくするために広い方がよく、結晶半導体粒子2の平均粒子径の0.5倍以上の間隔とすることが好ましく、そうすることで、結晶半導体粒子2を最密充填した場合と比較して、結晶半導体粒子2の個数を1/2以下とすることができる。また、上記間隔は、結晶半導体粒子2の平均粒子径の2倍以下の間隔とすることが好ましい。2倍を超えると、光利用率が減少してくる傾向がある。
結晶半導体粒子2間の導電性基板1上に形成された絶縁層4は、正極と負極の分離を行うための絶縁材料から成る。即ち、絶縁層4は、その上面側に配設される透光性導電層5と下面側の導電性基板1とが接触しないように設けられるものである。絶縁層4を成す絶縁材料としては、SiO2,B2O3,Al2O3,CaO,MgO,P2O5,Li2O,SnO,ZnO,BaO,TiO2等を任意成分とする材料からなる低温焼成用ガラス(ガラスフリット)材料、上記材料の1種または複数種から成るフィラーを含有したガラス組成物、ポリイミド或いはシリコーン樹脂等の有機系の材料等が挙げられる。絶縁材料の分量にはとくに限定はなく、絶縁層4上に設けられる透光性導電層5が均一に設けられればよい。
光反射部材7は、結晶半導体粒子2に集光させる凹面状の光反射面11を有するものである。集光性を向上させる点で、光反射面11は球面や回転楕円体面等の曲面の部分曲面から成る凹面鏡構造であることが好ましい。
透光性導電層5は、結晶半導体粒子2上および光反射部材7上に連続して被覆される。ここで、透光性導電層5は、導電性基板1を一方の電極とすると、他方の電極としての機能をはたす。
本発明の光電変換装置は、半導体層3または透光性導電層5上に保護層(不図示)を形成してもよい。このような保護層としては、透明誘電体の特性を有するものがよく、例えば、酸化珪素,酸化セシウム,酸化アルミニウム,窒化珪素,酸化チタン,酸化タンタル,酸化イットリウム等を単一組成または複数組成で単層または組み合わせて、半導体層3または透光性導電層5上に形成されたものが挙げられる。
本発明の光電変換装置は、透光性導電層5により集電が可能であるが、とくにフィンガー電極を設けることにより、十分な集電が可能となる。さらに、結晶半導体粒子2上を避けて、フィンガー電極を設けることによって、フィンガー電極によって直接、陰となる領域ができるのをなくすことができる。更に光反射部材7によって、フィンガー電極を覆うことができ、外観上の向上を図ることができる。集められた電気はフィンガー電極からバスバー電極を通って外部へ伝送される。
本発明の光電変換装置の製造方法は、導電性基板1上に、表層に第2導電型の半導体部3が形成された球状の第1導電型の結晶半導体粒子2の多数個を互いに間隔をあけて接合する工程(以下、工程1とする)と、結晶半導体粒子2の下部において露出した半導体部3を除去して導電性基板1と半導体部3とを電気的に切り離す工程(以下、工程2とする)と、結晶半導体粒子2間の導電性基板1上に絶縁層4を形成する工程(以下、工程3とする)と、絶縁層4上に光反射部材7を形成する工程(以下、工程4)と、反射部材7上および半導体部3上に、透光性導電層5を形成する工程(以下、工程5とする)と、を具えている構成である。
工程1は、導電性基板1上に、表層に第2導電型の半導体部3が形成された球状の第1導電型の結晶半導体粒子2の多数個を互いに間隔をあけて接合する工程である。
工程2は、結晶半導体粒子2の下部において露出した半導体部3を除去して導電性基板1とこの半導体部3とを電気的に切り離す工程である(図2(a)参照)。
工程3は、結晶半導体粒子2間の導電性基板1上に絶縁層4を形成する工程である(図2(b)参照)。
工程4は、絶縁層4上に光反射部材7を設ける工程である(図2(c)参照)。
工程5は、光反射部材7上および半導体部3上に、透光性導電層5を形成する工程である(図2(d)参照)。
以下のようにして光電変換装置を作製した。まず、結晶半導体粒子として多数の直径約0.3mmのp型の結晶シリコン粒子を用い、それらにリン熱拡散処理を施すことによって外郭部をn+の半導体部として、pn接合部を形成した。
以下のようにして比較例1の光電変換装置を作製した。実施例と同様にして、結晶半導体粒子として多数の直径約0.3mmのp型の結晶シリコン粒子を用い、それらにリン熱拡散処理を施すことにより、結晶シリコン粒子の外郭部をn+の半導体部として、pn接合部を形成した。
2・・・結晶半導体粒子
3・・・半導体部
4・・・絶縁層
5・・・透光性導電層
6・・・アルミニウムとシリコンとの共晶層
7・・・光反射部材
8・・・金属層
9・・・絶縁体粒子
10・・開口部
11・・光反射部材7の光反射面
12・・光反射部材7の頂上部
13・・光反射部材7の底面
14・・光反射面11の下端部
Claims (2)
- (1)導電性基板上に、表層に第2導電型の半導体部が形成された球状の第1導電型の結晶半導体粒子の多数個を互いに間隔をあけて接合する工程と、
(2)前記結晶半導体粒子の下部において露出した半導体部を除去して前記導電性基板とこの半導体部とを電気的に切り離す工程と、
(3)前記導電性基板上の前記結晶半導体粒子間に絶縁層を形成する工程と、
(4)前記絶縁層上に光反射部材を設ける工程と、
(5)前記光反射部材上および前記半導体部上に、透光性導電層を形成する工程と、
を含む光電変換装置の製造方法。 - 前記工程(4)は、前記絶縁層上に前記光反射部材を載置したのち、前記光反射部材の底面を前記絶縁層に埋め込む工程を含む請求項1記載の光電変換装置の製造方法。
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