JP5054490B2 - 振動子、および振動子の製造方法 - Google Patents
振動子、および振動子の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5054490B2 JP5054490B2 JP2007300616A JP2007300616A JP5054490B2 JP 5054490 B2 JP5054490 B2 JP 5054490B2 JP 2007300616 A JP2007300616 A JP 2007300616A JP 2007300616 A JP2007300616 A JP 2007300616A JP 5054490 B2 JP5054490 B2 JP 5054490B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal film
- frequency
- film
- vibrator
- leg
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 210
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 210
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 claims description 51
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 15
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 12
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 9
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 8
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 7
- 238000009966 trimming Methods 0.000 claims description 7
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 6
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 4
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 8
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 6
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 4
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 4
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-pyrazole-3-carboxylic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=NN1 WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Gyroscopes (AREA)
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Description
本発明の振動子の態様において、固定部と、所定間隔を開けて配置された振動部とを有する振動子である。振動部は、その表面に振動部の振動周波数を調整するための周波数調整用金属膜を有する。一方、固定部は、固定部に設けられた電極の電気特性を安定化させる電気特性安定用金属膜を有する。この電気特性安定用金属膜は、その表面上であって振動部に設けた周波数調整用金属膜と所定間隔を挟んで並列する位置に設ける。
10,10A,10B…振動脚
11…周波数粗調整用金属膜
12…周波数微調整用金属膜
13…電極用膜
14A,14B…余剰付着部
15…枠体
20…固定脚
21…電気特性安定用金属膜
22…側面電極
23…端部電極
24…裏面電極
25…支持部
30…基部
31…電極
40…付着用マスク
110A,110B…振動脚
111A,111B…周波数調整用金属膜
114…余剰付着部
120…固定脚
122…側面電極
141A,141B…開口部
Claims (15)
- 固定部と、所定間隔を開けて配置された振動部とを有する振動子において、
前記固定部および前記振動部は電極用膜を有し、
前記振動部は、当該振動部の面上に、前記振動部の振動周波数を調整するための周波数調整用金属膜を有し、
前記周波数調整用金属膜は、前記振動部の面上に付着用マスクを用いて形成される金属膜であり、
前記固定部は、当該固定部の前記電極用膜を有しない面上に、前記周波数調整用金属膜の付着による電気容量変化を抑制する電気特性安定用金属膜を有し、
前記電気特性安定用金属膜は、前記固定部の面上において、前記周波数調整用金属膜と前記所定間隔を挟んで並列する位置であって、少なくとも前記付着用マスクの位置ずれ範囲を含む領域に形成される金属膜であり、固定部の側面に形成される側面電極に接続されることを特徴とする振動子。 - 前記周波数調整用金属膜と電気特性安定用金属膜の互いに対向する辺部の長さにおいて、前記電気特性安定用金属膜側の辺部の長さは、前記周波数調整用金属膜の辺部の長さよりも等しいか又は長いことを特徴とする、請求項1に記載の振動子。
- 前記電気特性安定用金属膜は、前記固定部に設けた電極と電気的に接続することを特徴とする請求項1又は2に記載の振動子。
- 前記固定部は固定脚であり、前記振動部は振動脚であり、振動脚と固定脚は基部を介して振動部材によって一体に形成されることを特徴とする、請求項1から3の何れか一つに記載の振動子。
- 前記振動部材は、水晶、セラミックス、シリコンの何れかであることを特徴とする、請求項4に記載の振動子。
- 前記振動脚は、この振動脚の脚材を挟んで対向する2面の内、
一方の面に周波数を粗調整するための周波数粗調整用金属膜を有し、他方の面に周波数を微調整するための周波数微調整用金属膜を有し、
前記周波数粗調整用金属膜は前記周波数調整用金属膜により形成し、
前記周波数微調整用金属膜は振動脚に設ける電極用膜により形成することを特徴とする請求項4又は5に記載の振動子。 - 前記付着用マスクは、その材質を金属とするメタルマスク、その材質をセラミックスとするセラミックスマスク、その材質を水晶とする水晶マスク、その材質をシリコンとするシリコンマスクのいずれかであることを特徴とする請求項1から6の何れか一つに記載の振動子。
- 前記周波数調整用金属膜は、真空蒸着またはスパッタリングを用いて形成されていることを特徴とする請求項1から7のいずれか一つに記載の振動子。
- 前記周波数微調整用金属膜は、パターンニングを用いたエッチングによって形成されていることを特徴とする請求項1から8の何れか一つに記載の振動子。
- 固定脚と、所定間隔を開けて配置された振動脚とを有する振動子の製造方法において、
振動脚および固定脚にパターンニングを用いたエッチングによって電極用膜を形成する電極用膜形成工程と、
前記振動脚に付着用マスクによるマスクパターンを用いた付着により周波数調整用の周波数調整用金属膜を形成する膜付着工程とを備え、
前記膜付着工程は、前記振動脚の面上に付着用マスクによるマスクパターンを用いて前記周波数調整用金属膜を成膜し、
前記電極用膜形成工程は、前記膜付着工程の前段階において、前記電極用膜を形成すると共に、前記周波数調整用金属膜の付着による電気容量変化を抑制する電気特性安定用金属膜を、固定部の前記電極用膜を有しない面上において、前記周波数調整用金属膜と前記所定間隔を挟んで並列する位置であって、少なくとも前記付着用マスクの位置ずれ範囲を含む領域に、固定部の側面に形成される側面電極に接続して形成することを特徴とする、振動子の製造方法。 - 前記膜付着工程において、前記電極用膜形成工程で前記振動脚に形成された前記電極用膜の上に、付着用マスクによるマスクパターンを用いた付着により周波数調整用の周波数調整用金属膜を形成することを特徴とする、請求項10に記載の振動子の製造方法。
- 前記膜付着工程において、前記周波数調整用金属膜を堆積し、周波数調整用金属膜の堆積量によって前記振動脚の振動周波数を調整する周波数調整工程を有することを特徴とする、請求項10又は11に記載の振動子の製造方法。
- 前記膜付着工程の後に、レーザービームまたはイオンビームにより前記周波数調整用金属膜をトリミングして振動周波数を調整する周波数調整工程を有することを特徴とする、請求項10又は11に記載の振動子の製造方法。
- 前記付着用マスクは、その材質を金属とするメタルマスク、その材質をセラミックスとするセラミックスマスク、その材質を水晶とする水晶マスク、その材質をシリコンとするシリコンマスクのいずれかであることを特徴とする請求項10から13の何れか一つに記載の振動子の製造方法。
- 前記膜付着工程は、真空蒸着またはスパッタリングで行うことを特徴とする請求項10から14の何れか一つに記載の振動子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007300616A JP5054490B2 (ja) | 2007-11-20 | 2007-11-20 | 振動子、および振動子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007300616A JP5054490B2 (ja) | 2007-11-20 | 2007-11-20 | 振動子、および振動子の製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012167254A Division JP2012227961A (ja) | 2012-07-27 | 2012-07-27 | 振動子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009130445A JP2009130445A (ja) | 2009-06-11 |
JP5054490B2 true JP5054490B2 (ja) | 2012-10-24 |
Family
ID=40820973
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007300616A Active JP5054490B2 (ja) | 2007-11-20 | 2007-11-20 | 振動子、および振動子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5054490B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5454134B2 (ja) * | 2008-12-27 | 2014-03-26 | セイコーエプソン株式会社 | 振動片、振動子、センサー及び電子部品 |
JP5703576B2 (ja) * | 2010-03-24 | 2015-04-22 | セイコーエプソン株式会社 | 振動デバイス |
JP2012147329A (ja) * | 2011-01-13 | 2012-08-02 | Citizen Finetech Miyota Co Ltd | 音叉型水晶振動片 |
JP5785470B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2015-09-30 | シチズンファインデバイス株式会社 | 圧電振動子の製造方法 |
JP6286842B2 (ja) * | 2013-03-19 | 2018-03-07 | セイコーエプソン株式会社 | 屈曲振動片、振動デバイス、電子機器、及び移動体 |
JP6070343B2 (ja) * | 2013-03-27 | 2017-02-01 | セイコーエプソン株式会社 | 屈曲振動片、振動デバイス、電子機器、及び移動体 |
US10822225B2 (en) | 2016-12-27 | 2020-11-03 | Honeywell International Inc. | MEMS sensors with selectively adjusted damping of suspension |
GB2558392B (en) * | 2016-12-27 | 2021-08-04 | Honeywell Int Inc | MEMS Sensors with selectively adjusted damping of suspension |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000223993A (ja) * | 1999-01-29 | 2000-08-11 | Seiko Instruments Inc | 圧電振動子 |
JP2007243435A (ja) * | 2006-03-07 | 2007-09-20 | Daishinku Corp | 圧電振動片、圧電振動片の周波数調整方法 |
JP2007258918A (ja) * | 2006-03-22 | 2007-10-04 | Epson Toyocom Corp | 圧電デバイス |
-
2007
- 2007-11-20 JP JP2007300616A patent/JP5054490B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009130445A (ja) | 2009-06-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5054490B2 (ja) | 振動子、および振動子の製造方法 | |
JP5912557B2 (ja) | 音叉型圧電振動片及び圧電デバイス | |
JP4356366B2 (ja) | 圧電振動片、圧電振動片の製造方法および圧電振動子、圧電振動子を搭載した電子機器 | |
US8191216B2 (en) | Vibrating piece manufacturing method and vibrator manufacturing method | |
WO2006036022A1 (ja) | 振動型ジャイロスコープ、及び振動型ジャイロスコープの製造方法 | |
EP1498693B1 (en) | Method and devices for measuring physical quantities | |
JP2012065305A (ja) | 圧電デバイスの製造方法及び圧電デバイス | |
JP2009239860A (ja) | 圧電振動片及びその製造方法 | |
JP6322400B2 (ja) | 圧電振動片、圧電振動片の製造方法及び圧電振動子 | |
JP3941736B2 (ja) | 水晶振動片とその製造方法及び水晶振動片を利用した水晶デバイス、ならびに水晶デバイスを利用した携帯電話装置および水晶デバイスを利用した電子機器 | |
JP2012227961A (ja) | 振動子 | |
JP6676403B2 (ja) | 圧電振動片、及び圧電振動子 | |
JP5154977B2 (ja) | 圧電振動片、圧電デバイス及び音叉型圧電振動子の周波数調整方法 | |
JP2004226181A (ja) | 振動ジャイロ | |
JP5031526B2 (ja) | 圧電振動子及びその製造方法 | |
JP2002185282A (ja) | 圧電デバイス | |
JP2017207283A (ja) | 振動素子の製造方法 | |
JP2007306471A (ja) | 水晶振動子及びその製造方法ならびに物理量センサー | |
JP2008141307A (ja) | 圧電振動子及びその製造方法ならびに物理量センサー | |
JP5494994B2 (ja) | 振動子の製造方法 | |
JP6100582B2 (ja) | 捩り振動子 | |
JP2009232376A (ja) | 圧電振動子の製造方法 | |
JP7454964B2 (ja) | 圧電振動片、及び圧電振動子 | |
JP7319787B2 (ja) | 圧電振動片、及び圧電振動子 | |
JP7164952B2 (ja) | 圧電振動片、圧電振動子、圧電振動片の製造方法、及び、圧電振動子の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100519 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120419 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120612 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120703 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120727 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5054490 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150803 Year of fee payment: 3 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |