JP5028420B2 - 低級アルコールの直接酸化による低級アルコールの部分酸化生成物を調製する方法、およびこの方法において使用する触媒 - Google Patents
低級アルコールの直接酸化による低級アルコールの部分酸化生成物を調製する方法、およびこの方法において使用する触媒 Download PDFInfo
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Description
3CH3OH+1/2 O2→CH3OCH2OCH3+2H2O
メチラールは、この非常に優れた特性(非常に優れた溶解力;その両親媒的性質:メチラールは親水性および親油性の両方である;低粘度;低表面張力;特に高蒸発速度)により、種々の領域において多くの用途を見出すことができる。
Mo12VaX1 bX2 cX3 dX4 eOx (I)
を有する複合酸化物の、気相中での低級アルコールの直接酸化による低級アルコールの部分酸化生成物の調製における触媒としての使用に関する
[式中、
Moはモリブデンであり、
Vはバナジウムであり、
Oは酸素であり、
X1は、タングステン、チタン、タンタルおよびニオブから選択される少なくとも1種の元素であり、
X2は、銅、アンチモン、テルルおよびビスマスから選択される少なくとも1種の元素であり、
X3は、アルカリ土類金属から選択される少なくとも1種の元素であり、
X4は、アルカリ金属から選択される少なくとも1種の元素であり、
0<a≦10、好ましくは3≦a≦4であり、
0≦b≦4、好ましくは0.5≦b≦2であり、
0<c≦5、好ましくは0<c≦4であり、
0≦d≦2であり、
0≦e≦2であり、
xは、他の元素の酸化の程度によって決定される数値である。]。
Mo12V3W1.2Cu1.2Sb0.5Ox
(xは、他の元素の酸化の程度によって決定される数値である。)
を有する。
バナジウムの場合、メタバナジン酸アンモニウム;
ビスマスの場合、ビスマス硝酸塩などの硝酸塩、炭酸塩および水酸化物;
アンチモンの場合、酢酸アンチモン;
チタンの場合、塩化チタン;および
銅の場合、硫酸銅;
ならびに一般に焼成によって酸化物を形成することができるいずれかの化合物、すなわち有機酸塩、鉱酸塩、錯体金属化合物、有機金属化合物など。
前記スラリの乾燥、あるいは続いて、式(I)の固体を得るためのこの乾燥生成物の予備焼成、
この固体の粉砕、および
焼成。
メタノール転化率は、(反応したメタノールのモル)/(供給されたメタノールのモル)×100として計算した。
触媒
Mo12V3W1.2Cu1.2Sb0.5Ox
(xは、他の元素に結合されている酸素の量である。)
を以下の通り調製する。
触媒評価を固定床流通反応器中で実施した。ヘリウムおよび酸素のガス流を質量流量調整器を使用して調整した。ガス流は、メタノールにより充填された蒸発器/飽和槽を通過する。蒸発器は室温であり、凝縮器を調整し、−14℃(ほとんどの実験において、温度を11℃に調整する)に低下させてメタノール蒸気圧を制御することができる。ガスの温度を飽和槽の頂上で熱電対により測定する。
実施例1において調製された通りの触媒303mgを反応器に装填した。
触媒は、高い収率に到達するには現場での活性化を必要とする。
触媒効率に関するガス毎時空間速度(GHSV)の影響を、触媒の重量を調整することによって検討した。
伝統的ホルムアルデヒドプロセスにおいて使用されているような、通常の鉄モリブデン酸塩の触媒をこの試験のために使用した。
Claims (18)
- 次式の組成:
Mo 12 V 3 W 1.2 Cu 1.2 Sb 0.5 O x
を有する複合酸化物の、気相中での低級アルコールの直接酸化による低級アルコールの部分酸化生成物の調製における触媒としての使用
[式中、
Moはモリブデンであり、
Vはバナジウムであり、
Oは酸素であり、ならびに
xは、他の元素の酸化の程度によって決定される数値である。]。 - 触媒が、多成分構造を有することを特徴とする、請求項1に記載の使用。
- 触媒が、バルク触媒として成形されていることを特徴とする、請求項1又は2に記載の使用。
- 触媒が、支持触媒であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の使用。
- 次式の組成:
Mo 12 V 3 W 1.2 Cu 1.2 Sb 0.5 O x
を有する触媒が使用されることを特徴とする、触媒の存在下で、低級アルコールを分子状酸素含有ガスにより気相接触酸化させる、低級アルコールの部分酸化生成物を製造する方法
[式中、
Moはモリブデンであり、
Vはバナジウムであり、
Oは酸素であり、
xは、他の元素の酸化の程度によって決定される数値である。]。 - 触媒が、多成分構造を有することを特徴とする、請求項5に記載の方法。
- 触媒が、バルク触媒として成形されていることを特徴とする、請求項5又は6に記載の方法。
- 触媒が、支持触媒であることを特徴とする、請求項5又は6に記載の方法。
- 気相接触酸化が、100から400℃の温度において実施されることを特徴とする、請求項5に記載の方法。
- 気相接触酸化が、50から1000kPaの圧力において実施されることを特徴とする、請求項9に記載の方法。
- 空間速度が、活性材料だけに基づいて、2000から100000hr −1 であることを特徴とする、請求項5から10のいずれか一項に記載の方法。
- 流れにおける低級アルコール濃度が、1から60%であることを特徴とする、請求項5から11のいずれか一項に記載の方法。
- 低級アルコールに対する酸素(O2として計算)のモル比が、0.5:6から3:1であることを特徴とする、請求項5から12のいずれか一項に記載の方法。
- 分子状酸素含有ガスが、純粋な酸素ガスまたは空気であることを特徴とする、請求項5から13のいずれか一項に記載の方法。
- 希釈ガスが反応物に添加され、前記希釈ガスがガス流の特に40から90体積%を構成することを特徴とする、請求項5から14のいずれか一項に記載の方法。
- 希釈剤が、窒素、二酸化炭素、ヘリウムおよびアルゴンなどの希ガス、および水蒸気などの不活性ガス、ならびにこれらのガスの混合物の中から選択されることを特徴とする、請求項15に記載の方法。
- 分子状酸素含有ガスおよび場合により希釈ガスが低級アルコールに添加されている混合ガスから構成されている原料ガスが、触媒を含む固定床反応器に導入されることを特徴とする、請求項5から16のいずれか一項に記載の方法。
- 低級アルコールがメタノールであり、および前記低級アルコールの部分酸化生成物がメチラールであることを特徴とする、請求項5から17のいずれか一項に記載の方法。
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