JP5009275B2 - マルチビーム露光走査方法及び装置並びに印刷版の製造方法 - Google Patents

Description

本発明はマルチビーム露光走査方法及び装置に係り、特にフレキソ版などの印刷版の製造に好適なマルチビーム露光技術及びこれを適用した印刷版の製造技術に関する。

従来、複数のレーザビームを同時に照射し得るマルチビームヘッドを用いて版材の表面に凹形状を彫刻する技術が開示されている（特許文献１）。このようなマルチビーム露光によって版を彫刻する場合、隣接ビームの熱の影響により、小点や細線などの微細形状を安定に形成することは大変困難である。

かかる課題に対して、特許文献１では、版材の表面に形成されるビームスポット列における隣接ビームスポット間での相互の熱的影響を軽減するために、いわゆるインターレース露光を行う構成を提案している。即ち、特許文献１では、彫刻密度に対応する彫刻ピッチの２倍以上の間隔で版材表面に複数のレーザスポットを形成し、１回の露光走査で形成する走査線の間隔をあけ、各走査線間の走査線を２回目以降の走査で露光する方法を採用している。
特開平０９−８５９２７号公報

しかしながら、特許文献１に記載の方法では、隣接ビームの影響を完全に低減するには、版材の面上でビーム位置の間隔をビーム径よりも十分に離す必要があり、実際には数画素（数ライン）分の走査線間隔をあける必要がある。そのため、結像光学系に用いるレンズの収差が問題となり、正確な走査線間隔のビーム列を形成することが困難であり、光学系が複雑化するなど、実用上制限が多い。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、マルチビーム露光に伴う隣接ビームの熱の影響を効果的に低減し、微細形状など所望の形状を高精度に形成し得るマルチビーム露光走査方法及び装置並びにこれを適用した印刷版の製造方法を提供することを目的とする。

前記目的を達成するために、本発明に係るマルチビーム露光走査方法は、複数の光ビームを同時に照射し、同一走査線を複数回露光走査することにより記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法であって、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状とその周囲の傾斜部との概略形状をなす第１形状を第１ビーム群で形成する第１露光走査工程と、前記第１露光走査工程と同一の走査線上を第２ビーム群によって露光走査し、前記目的の平面形状とその周囲の傾斜部の最終形状をなす第２形状を形成する第２露光走査工程と、を含むことを特徴とする。

ここで、最終形状近傍では第２ビーム群から記録媒体へ照射されるエネルギーは第１ビーム群から記録媒体へ照射されるエネルギーよりも低い方が好ましい。そのために、第２ビーム群の出力パワーは第１ビーム群よりも低くなるように制御する。

また、他の発明に係るマルチビーム露光走査方法は、複数の光ビームを同時に照射し、同一走査線を複数回露光走査することにより記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法であって、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状のエッジ部のうち、第１方向又はこれと異なる第２方向のどちらか一方の方向に沿う第１エッジ部を第１ビーム群で形成する第１露光走査工程と、前記第１露光走査工程の後に、前記第１方向及び前記第２方向のうち前記一方と異なる他方の方向に沿う第２エッジ部を第２ビーム群で形成する第２露光走査工程と、を含むことを特徴とする。

更に他の発明に係るマルチビーム露光走査方法は、複数の光ビームを同時に照射しながら同一走査線を複数回露光走査することにより記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法であって、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状のエッジ部のみが形成されるように第１ビーム群によって前記エッジ部の線画を描画彫刻する第１露光走査工程と、前記第１露光走査工程の後に、第２ビーム群によって前記線画の外側領域を露光走査して前記目的の平面形状の周囲の傾斜部を形成する第２露光走査工程と、を含むことを特徴とする。

また、他の発明に係るマルチビーム露光走査方法は、複数の光ビームを同時に照射し、同一走査線を複数回露光走査することにより記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法であって、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状の領域及びその周囲領域を第１領域とし、前記第１領域の外側を第２領域とし、前記第１領域は、隣接ビームの間隔を走査線間隔のＮ倍（Ｎは２以上の整数）とするビーム群を用い、複数回の走査により、露光する走査線を異ならせて露光済み走査線の間の未露光走査線を順次露光することで前記目的の平面形状とその周囲の傾斜部の形状を彫刻するインターレース露光を行い、前記第２領域は、隣接ビームの間隔が走査線間隔と等しいビーム群を用いて彫刻するノンインターレース露光を行うことを特徴とする。

本発明によれば、複数回行われる走査露光の各回で彫刻の役割を分担し、各露光走査工程においてビームのパワー制御、露光位置の制御などを行うことにより、残すべき表面形状の近傍における熱の影響を低減することができる。これにより、所望の表面形状と傾斜部（スロープ）を高精度に形成することができる。

以下、添付図面に従って本発明の実施形態について詳細に説明する。

＜マルチビーム露光走査装置の構成例＞
図１は、本発明の実施形態に係るマルチビーム露光走査装置を適用した製版装置の構成図である。図示の製版装置１１は、円筒形を有するドラム５０の外周面にシート状の版材（「記録媒体」に相当）を固定し、該ドラム５０を図１中の矢印Ｒ方向（主走査方向）に回転させると共に、版材Ｆに向けてレーザ記録装置１０の露光ヘッド３０から、該版材Ｆに彫刻（記録）すべき画像の画像データに応じた複数のレーザビームを射出し、露光ヘッド３０を主走査方向と直交する副走査方向（図１矢印Ｓ方向）に所定ピッチで走査させることで、版材Ｆの表面に２次元画像を高速で彫刻（記録）するものである。ここでは、フレキソ印刷用のゴム版又は樹脂版を彫刻する場合を例に説明する。

本例の製版装置１１に用いられるレーザ記録装置１０は、複数のレーザビームを生成する光源ユニット２０と、光源ユニット２０で生成された複数のレーザビームを版材Ｆに照射する露光ヘッド３０と、露光ヘッド３０を副走査方向に沿って移動させる露光ヘッド移動部４０と、を含んで構成されている。

光源ユニット２０は、複数の半導体レーザ２１Ａ、２１Ｂ（ここでは合計６４個）を備えており、各半導体レーザ２１Ａ、２１Ｂの光は、それぞれ個別に光ファイバー２２Ａ、２２Ｂ、７０Ａ、７０Ｂを介して露光ヘッド３０の光ファイバーアレイ部３００へと伝送される。

本例では、半導体レーザ２１Ａ、２１Ｂとしてブロードエリア半導体レーザ（波長：９１５ｎｍ）が用いられ、これら半導体レーザ２１Ａ、２１Ｂは光源基板２４Ａ、２４Ｂ上に並んで配置されている。

各半導体レーザ２１Ａ、２１Ｂは、それぞれ個別に光ファイバー２２Ａ、２２Ｂの一端部にカップリングされ、光ファイバー２２Ａ、２２Ｂの他端はそれぞれＳＣ型光コネクタ２５Ａ、２５Ｂのアダプタに接続されている。

ＳＣ型光コネクタ２５Ａ、２５Ｂを支持するアダプタ基板２３Ａ、２３Ｂは、光源基板２４Ａ、２４Ｂの一方の端部に垂直に取り付けられている。また、光源基板２４Ａ、２４Ｂの他方の端部には、半導体レーザ２１Ａ、２１Ｂを駆動するＬＤドライバー回路（図１中不図示、図７の符号２６）を搭載したＬＤドライバー基板２７Ａ、２７Ｂが取り付けられている。各半導体レーザ２１Ａ、２１Ｂは、それぞれ個別の配線部材２９Ａ、２９Ｂを介して、対応するＬＤドライバー回路に接続されており、各々の半導体レーザ２１Ａ、２１Ｂは個別に駆動制御される。

なお、本実施の形態では、レーザビームを高出力とするために、コア径の比較的大きな、多モード光ファイバーを光ファイバー７０Ａ、７０Ｂに適用している。具体的には、本実施形態においては、コア径が１０５μｍの光ファイバーが用いられている。また、半導体レーザ２１Ａ、２１Ｂには、最大出力が１０Ｗ程度のものを使用している。具体的には、例えば、ＪＤＳユニフェーズ社から販売されているコア径１０５μｍで出力10Ｗ(6398-L4)のものなどを採用することができる。

一方、露光ヘッド３０には、複数の半導体レーザ２１Ａ、２１Ｂから射出された各レーザビームを取り纏めて射出する光ファイバーアレイ部３００が備えられている。光ファイバーアレイ部３００の光出射部（図１中不図示、図２の符号２８０）は、各半導体レーザ２１Ａ、２１Ｂから導かれた６４本の光ファイバー７０Ａ、７０Ｂの出射端が３２個ずつ２列に並んで配置された構造となっている（図３参照）。

また、露光ヘッド３０内には、光ファイバーアレイ部３００の光出射部側より、コリメータレンズ３２、開口部材３３、及び結像レンズ３４が、順番に並んで配設されている。コリメータレンズ３２と結像レンズ３４の組合せによって結像光学系が構成されている。開口部材３３は、光ファイバーアレイ部３００側から見て、その開口がファーフィールド（Far Field）の位置となるように配置されている。これによって、光ファイバーアレイ部３００から射出された全てのレーザビームに対して同等の光量制限効果を与えることができる。

露光ヘッド移動部４０には、長手方向が副走査方向に沿うように配置されたボールネジ４１及び２本のレール４２が備えられており、ボールネジ４１を回転駆動する副走査モータ（図１中不図示、図７の符号４３）を作動させることによってボールネジ４１上に配置された露光ヘッド３０をレール４２に案内された状態で副走査方向に移動させることができる。また、ドラム５０は主走査モータ（図１中不図示、図７の符号５１）を作動させることによって、図１の矢印Ｒ方向に回転駆動させることができ、これによって主走査がなされる。

図２は光ファイバーアレイ部３００の構成図であり、図３はその光出射部２８０の拡大図（図２のＡ矢視図）である。図３に示すように、光ファイバーアレイ部３００の光出射部２８０は、上下２段に組み合わされた光ファイバーアレイユニット３００Ａ、３００Ｂで構成され、上段と下段とにそれぞれ同じコア径１０５μｍの光ファイバー７０Ａ、７０Ｂが３２本ずつ２列に並んで配置されている。

光ファイバーアレイ部３００は、２枚の基台（Ｖ溝基板）３０２Ａ、３０２Ｂを有している。基台３０２Ａ、３０２Ｂには各々片面に半導体レーザ２１Ａ、２１Ｂと同数、すなわち夫々３２個のＶ字溝２８２Ａ、２８２Ｂが所定の間隔で隣接するように形成されている。そして、基台３０２Ａ、３０２Ｂは、Ｖ字溝２８２Ａ、２８２Ｂが対向するように配置されている。

基台３０２Ａの各Ｖ字溝２８２Ａには、光ファイバー７０Ａの他端部の光ファイバー端部７１Ａが１本ずつ嵌め込まれている。同様に基台３０２Ｂの各Ｖ字溝２８２Ｂに各光ファイバー７０Ｂの他端部の光ファイバー端部７１Ｂが１本ずつ嵌め込まれている。すなわち、本実施の形態の光ファイバーアレイ部３００は、複数（本実施形態では３２本×２＝合計６４個）の光ファイバー端部７１Ａ、７１Ｂが所定方向に沿った直線状に配置されて構成された光ファイバー端部群３０１Ａ、３０１Ｂが、上記所定方向と直交する方向に平行に２列設けられて構成されている。

したがって、光ファイバーアレイ部３００の光出射部２８０からこれら複数本（３２本×２）のレーザビームが同時に射出される。

図４は、光ファイバーアレイ部３００の結像系の概要図である。図４に示すように、コリメータレンズ３２及び結像レンズ３４で構成される結像手段によって、光ファイバーアレイ部３００の光出射部２８０を所定の結像倍率で版材Ｆの露光面（表面）ＦＡの近傍に結像させる。本実施形態では、結像倍率は１／３倍とされており、これにより、コア径１０５μｍの光ファイバー端部７１Ａ、７１Ｂから出射されたレーザビームＬＡのスポット径は、φ３５μｍとなる。

このような結像系を有する露光ヘッド３０において、図３で説明した光ファイバーアレイユニット３００Ａ、３００Ｂの上段と下段の間隔（図３中のＬ１）と列方向の相対的位置（図３中のＬ２）、列内の隣接ファイバー間隔（図３中のＬ３）及び光ファイバーアレイ部３００を固定するときの光ファイバー端部群３０１Ａ、３０１Ｂの配列方向（アレイ方向）の傾斜角度（図５中の角度θ）を適宜設計することにより、図５に示すように、アレイ上段（光ファイバー端部群３０１Ａ）及びアレイ下段（光ファイバー端部群３０１Ｂ）の各列内で隣り合う位置に配置される光ファイバー端部７１Ａ、７１Ｂから射出されるレーザビームで露光する走査線（記録ライン）Ｋの間隔Ｐ１と、アレイ上段の右端の光ファイバー端部７１ＡＴとアレイ下段の左端の光ファイバー端部７１ＢＴで露光する走査線Ｋの間隔Ｐ２をそれぞれ等しく１０．５８μｍ（副走査方向の解像度２４００ｄｐｉ相当）に設定することができる。なお、図５では、図示の便宜上、光ファイバーの数を減じて示した。つまり、光ファイバーアレイ部３００の設計により、６４チャンネルで副走査方向解像度２４００ｄｐｉの走査線間隔（Ｐ１＝Ｐ２≒１０．６μｍ）を実現できる。

上記構成の露光ヘッド３０を用いることにより、光ファイバーアレイ部３００の光ファイバー端部群３０１Ａ、３０１Ｂの２列で６４ラインの範囲（１スワス分）を同時に走査して露光することができる。

図６は、図１に示した製版装置１１における走査露光系の概要を示す平面図である。露光ヘッド３０は、ピント位置変更機構６０と、副走査方向への間欠送り機構９０を備えている。

ピント位置変更機構６０は、露光ヘッド３０をドラム５０面に対して前後移動させるモータ６１とボールネジ６２を有し、モータ６１の制御により、ピント位置を約０．１秒で約３００μｍ移動させることができる。間欠送り機構９０は、図１で説明した露光ヘッド移動部４０を構成するものであり、図６に示すように、ボールネジ４１とこれを回転させる副走査モータ４３を有する。露光ヘッド３０は、ボールネジ４１上のステージ４４に固定されており、副走査モータ４３の制御により、露光ヘッド３０をドラム５０の軸線５２方向に、約０．１秒で１スワス分（６４０μｍ）と隣り合うスワス分まで間欠送りできる。

なお、図６において、符号４６、４７は、ボールネジ４１を回動自在に支持するベアリングである。符号５５はドラム５０上で版材Ｆをチャックするチャック部材である。このチャック部材５５の位置は、露光ヘッド３０による露光（記録）を行わない非記録領域である。トラム５０を回転させながら、この回転するドラム５０上の版材Ｆに対し、露光ヘッド３０から６４チャンネルのレーザビームを照射することで、６４チャンネル分（１スワス分）の露光範囲９２を隙間なく露光し、版材Ｆの表面に１スワス幅の彫刻（画像記録）を行う。そして、ドラム５０の回転により、露光ヘッド３０の前をチャック部材５５が通過するときに（版材Ｆの非記録領域のところで）、副走査方向に間欠送りを行い、次の１スワス分を露光する。このような副走査方向の間欠送りによる露光走査を繰り返すことにより、版材Ｆの全面に所望の画像を形成する。

本例では、シート状の版材Ｆ（記録媒体）を用いているが、円筒状記録媒体（スリーブタイプ）を用いることも可能である。

＜制御系の構成＞
図７は、製版装置１１の制御系の構成を示すブロック図である。図７に示すように、製版装置１１は、彫刻すべき２次元の画像データに応じて各半導体レーザ２１Ａ、２１Ｂを駆動するＬＤドライバー回路２６と、ドラム５０を回転させる主走査モータ５１と、主走査モータ５１を駆動する主走査モータ駆動回路８１と、副走査モータ４３を駆動する副走査モータ駆動回路８２と、制御回路８０と、を備えている。制御回路８０は、ＬＤドライバー回路２６、及び各モータ駆動回路（８１、８２）を制御する。

制御回路８０には、版材Ｆに彫刻（記録）する画像を示す画像データが供給される。制御回路８０は、この画像データに基づき、主走査モータ５１及び副走査モータ４３の駆動を制御するとともに、各半導体レーザ２１Ａ、２１Ｂについて個別にその出力（レーザビームのパワー制御）を制御する。なお、レーザビームの出力を制御する手段としては、半導体レーザ２１Ａ、２１Ｂの発光量を制御する態様に限らず、これに代えて、又はこれと組み合わせて、音響光変調器（ＡＯＭ：Acoustic Optical Modulator）ユニットなどの光変調手段を用いてもよい。

次に、マルチビーム露光系によって印刷版を製造する際の露光走査工程について説明する。

＜第１実施例＞
第１の方法は、同一走査線を複数回走査露光するマルチビーム露光系において、記録媒体の露光表面に残すべき平面形状およびその傾斜部の大枠を第１ビーム群で形成し（粗彫刻工程）、この粗彫刻工程で上昇した版材Ｆの温度が所定温度まで下がった後に、第２ビーム群で同一走査線上を露光走査し、最終形状（目的とする表面形状および傾斜部）を精密に微細彫刻する（微細彫刻工程）。ここで、最終形状近傍では第２ビーム群から記録媒体へ照射されるエネルギーは第１ビーム群から記録媒体へ照射されるエネルギーよりも低い方が好ましい。そのために、第２ビーム群の出力パワーは第１ビーム群よりも低くなるように制御する。このように、同一走査線を複数回走査露光する際の各々のビーム群に彫刻の役割（粗彫刻、微細彫刻）を分担させた複数回露光走査方式を採用する。

図８を基にこの露光の走査順序を説明する。

まず、ドラム５０を一定速度で回転させながら、露光ヘッド３０から出射する第１ビーム群（６４チャンネル）で版材Ｆ上を露光走査して、第１形状を彫刻する（図８（ａ））。この第１ビーム群による１回目の走査露光工程は、最終的に凸平面部として残す表面形状及びその傾斜部の形状まで到達しない粗彫刻を行う工程である。ドラム５０が１回転すると６４チャンネル幅で粗彫刻が行われる。その後、同じ副走査位置で（露光ヘッド３０を移動させずに）、ドラム５０の２回転目で同じ場所の同じライン上を、より低パワーの第２ビーム群（第１ビーム群と同チャンネル）で走査露光を行い、最終形状(第２形状)を形成する（図８（ｂ））。

こうして、ドラム５０の２回転で１スワス分の彫刻を完成させた後、非記録領域たるチャック部材５５が露光ヘッド３０の前を横切るときに、露光ヘッド３０を副走査方向（図８において左方向）に間欠送りし、隣接する次の１スワス分の彫刻を行う位置に移動させる。そして、当該位置において、図８（ａ）と同様に、第１ビーム群による粗彫刻の露光走査を行う（図８（ｃ））。その後、再度、この同じ場所の同じライン上を走査する第２ビーム群（第１ビーム群と同チャンネル）で微細彫刻の走査露光を行い、最終形状を形成する（図８（ｄ））。以後、上記の工程を繰り返し、版材Ｆ上の全面を露光する。

図９は、版材Ｆの表面に微細な矩形形状を彫刻する場合の説明図であり、(ａ)は第１ビーム群による粗彫刻で得られる形状（第１形状）１１０を示し、（ｂ）は第２ビーム群による微細彫刻で得られる最終形状（第２形状）１２０を示すものである。目的とする最終形状１２０は図９（ｂ）に示すように、表面に微小な矩形平面部１２１（ここでは、一辺が４画素程度の正方形）を残し、その周囲に傾斜部１２２と更にその外側に平坦なボトム部１２４を彫刻するものとする。

図９(ａ)に示すように、まず、第１ビーム群による露光走査によって、ややラフな概略矩形の表面部１１１を残すように、露光ヘッド３０の対応するチャンネルのレーザパワーを制御する。同図の横方向は、副走査方向の位置を示しており、表面部１１１の位置に対応するチャンネルのレーザ出力はオフとし、傾斜部１１２及びボトム部１１４に対応するチャンネルのレーザ出力は彫刻する深さに応じたパワーに設定される。

次に、この第１形状１１０の表面に対し、更に、第２ビーム群によって露光走査を行う。この２回目の露光では、図９（ｂ）に示すように、第１形状１１０の表面部１１１と傾斜部１１２を僅かに除去するように、対応するチャンネルのレーザ出力を１回目の露光時よりも低パワーとする。

１回目の第１ビーム群による彫刻時に上昇した温度は、２回目の走査露光までの間に所定の温度まで下がり、その後、第２ビーム群によって低パワーで微細に彫刻するため、残したい表面部の温度上昇を抑制することができる。これにより、熱の影響が低減され、精密な矩形形状（矩形平面部１２１）を得ることができるとともに、シャープな（急峻な）傾斜部１２２を形成することができる。

また、傾斜部１２２よりも外側のボトム部１２４については、１回目の彫刻時と同等のパワーで彫刻することにより、１回目のボトム部１１４の深さの約２倍の深さに深堀りすることができる。

一般に高精細のフレキソ版では、５００μｍ程度の深掘り（凹部の深さ）が望ましいとされている。本実施形態によれば、同一走査線上を複数回露光走査する構成により、この深掘りが可能である。

図１０は、図９中のＢ−Ｂ線（主走査方向の位置ｙ＝ｙＢ）における１回目の露光時と２回目の露光時のレーザ出力を例示したグラフである。図１０の横軸は光ファイバーアレイ部３００における光ファイバーのチャンネル位置（副走査方向の位置）、縦軸はレーザ出力（Ｗ）を示す。細線（符号［１］）は第１ビーム群、太線（符号［２］）は第２ビーム群のレーザ出力を示す。ここでは、説明を簡単にするために、チャンネルｃｈ１〜２４の範囲を示し、最高出力を１０Ｗとするが、彫刻すべき画像データに応じて使用するチャンネルは異なり、装置構成等によって出力も異なる。

図１０において、第１ビーム群のチャンネルｃｈ１〜５、ｃｈ１８〜２４の出力は１０Ｗに設定され、これらチャンネルによって図９（ａ）のボトム部１１４の彫刻が行われる。また、第１ビーム群のチャンネルｃｈ９〜１４は、出力０Ｗ（オフ）に設定され、図９（ａ）の表面部１１１の位置に対応している。傾斜部１１２に対応するチャンネルｃｈ６〜８、ｃｈ１５〜１７の出力は、１Ｗ以上１０Ｗ未満の範囲でチャンネル位置に応じて次第に出力を減少又は増加させる。このようなチャンネル毎の出力制御（符号［１］）により、図９（ａ）で説明した第１形状１１０が得られる。

２回目の露光時における第２ビーム群では、図１０の符号［２］で示したように、チャンネルｃｈ５〜９、ｃｈ１４〜１８について出力を１Ｗとし、チャンネルｃｈ１０〜１３の出力を０Ｗ（オフ）としている。これにより、図９（ｂ）で説明した矩形平面部１２１の形状を高精度に形成することができるとともに、急峻な傾斜部１２２を形成することができる。

第１ビーム群による１回目の走査露光時のレーザ出力（ビーム光量）を各チャンネル（ｃｈ）の番号ｉと露光ヘッド３０の副走査方向位置ｘとの関数としてＰＷ１（ｉ,ｘ）と表し、第１ビーム群と同じ場所の同じライン上を露光する第２ビーム群による２回目の走査露光時のレーザ出力をＰＷ２（ｉ,ｘ）と表すものとすると、最終的に表面形状として残す領域（図９（ｂ）における矩形平面部１２１）の境界を彫刻するチャンネル（図１０の場合、ｃｈ９、ｃｈ１４）よりも外側の近傍のチャンネル（図１０においてｃｈ５〜８、ｃｈ１５〜１８について、第２ビーム群のレーザ出力ＰＷ２（ｉ,ｘ）は、第１ビーム群のレーザ出力ＰＷ１（ｉ,ｘ）より低パワーとする（ＰＷ２（ｉ,ｘ）≦ＰＷ１（ｉ、ｘ））。ただし、図１で説明した実施形態においては、ｉ＝１〜６４、ｘはスワスピッチsｐに対応した副走査送り量を単位として間欠送りの送り数（ｘ＝０、１、２…）で表すことができる。

また、最終表面形状として残す領域（図９（ｂ）における矩形平面部１２１）の境界を彫刻するチャンネル（図１０の場合、ｃｈ９、ｃｈ１４）については、複数回の走査露光工程を通じて、最小の出力（図１０において１Ｗ）とする。

このようなパワー制御により、最終形状の表面部の温度上昇を抑えることができ、表面平面部を高精度に形成することができるとともに、エッジの急峻化を図ることができる。

なお、使用する版材（フレキソ感材）の感度（光への反応性）によって、パワー制御の具体的な制御態様は異なる。版材の種類等に応じて適切な出力条件が実験的に定められる。

＜第２実施例＞
第２の方法は、同一走査線を複数回走査露光するマルチビーム露光系において、記録媒体の露光表面に残すべき最終形状のエッジ部のうち、主走査方向あるいは副走査方向に沿う方向のどちらか一方のエッジ部を第１ビーム群で形成し（第１方向エッジ形成工程）、この第１方向エッジ形成工程で上昇した温度が所定温度まで下がった後に、第２ビーム群でこれと直交する方向のエッジ部を形成し（第２方向エッジ形成工程）、所望の最終形状（表面形状および傾斜部）を得る。このように、複数回の走査露光における各々のビーム群に彫刻の役割（第１方向に沿ったエッジ部の形成、第２方向に沿ったエッジ部の形成）を分担させた複数回露光走査方式を採用する。

主走査方向及び副走査方向の両方向のエッジを同時に、高精度に形成することは困難であるため、複数回の露光工程に分けて各方向のエッジを形成する。すなわち、角部の直交する二つのエッジを一回の露光で形成しようとすると、隣接ビームの熱の影響により、良好に再現することが難しいが、上記第２の方法のように、各方向のエッジの形成を第１ビーム群による露光工程と、第２ビーム群による露光工程とに分けて、分担させることにより、残したい表面部の温度上昇を抑えることができる。これにより、所望形状の表面平面部を残し、かつエッジの急峻化が両立できる。

図１１は、第２の方法により版材Ｆの表面に微細な矩形形状を彫刻する場合の説明図であり、(ａ)は第１ビーム群で得られる形状（第１形状）２１０を示し、（ｂ）は第２ビーム群で得られる最終形状（第２形状）２２０を示すものである。

ここでは、１回目の走査露光時の第１ビーム群によって主走査方向に沿う直線のエッジ（図１１（ａ）における表面部２１１の左右のエッジ）２１５、２１６を出すように、対応するチャンネルのレーザ出力を制御し、副走査方向に沿う上辺と下辺については、最終目的とする表面形状（図１１（ｂ）の符号２２１）のエッジ２２７、２２８位置よりも十分に外側の主走査方向位置でレーザ出力をオフとする。こうして、図１１（ａ）に示す第１形状２１０が得られる。

次に、この第１形状２１０の表面に対し、更に、第２ビーム群によって露光走査を行う。この２回目の露光では、図１１（ｂ）に示すように、副走査方向に沿う直線のエッジ（図１１（ｂ）における矩形平面部２２１の上下のエッジ）２２７、２２８を出すように、対応するチャンネルのレーザ出力を制御する。

なお、主走査方向に沿う直線のエッジ２１５、２１６は、１回目の走査露光時に第１ビーム群によって形成されているため、第２ビーム群では、エッジ２１５、２１６位置よりも外側の副走査方向位置のチャンネルからレーザ出力をオフとする。

このように、複数回の走査露光工程に分けて、一方向ずつエッジのラインを形成することにより、最終的に残す表面形状を高精度に形成することができ、エッジの急峻化も実現できる。また、図９で説明した第１の方法と同様に、第２の方法においても凹部の深掘りが可能である。

図１２は、図１１中のＣ−Ｃ線における１回目の露光時のレーザ出力を例示したグラフである。図１２の横軸は光ファイバーアレイ部３００における光ファイバーのチャンネル位置（副走査方向の位置）、縦軸はレーザ出力（Ｗ）を示す。比較のために、図１０で説明した「実施例１」における第１ビーム群のレーザ出力（符号［１］）を図１２中に破線で示した。図１２中の実線（符号［３］）で示したように、「実施例２」の場合は、１回目の露光で主走査方向に沿うラインの最終形状のエッジを完成させるため、その形状の境界を彫刻するチャンネルｃｈ９、ｃｈ１４の出力を１Ｗに設定している。

なお、第１ビーム群によって副走査方向に沿うラインのエッジを形成し、第２ビーム群によって主走査方向に沿うラインのエッジを形成する態様も可能である。

＜第３実施例＞
第３の方法は、同一走査線を複数回走査露光するマルチビーム露光系において、記録媒体の露光表面に残すべき最終形状のエッジ部のみが形成されるように低パワーの第１ビーム群で細線を露光して最終表面形状を形成し（輪郭線彫刻工程）、この輪郭線彫刻工程で上昇した温度が所定温度まで下がった後に、第２ビーム群で細線（輪郭線）の外側を露光走査して傾斜部を形成する（傾斜部彫刻工程）。

このように、複数回の走査露光における各々のビーム群に彫刻の役割（輪郭線の形成、傾斜部の形成）を分担させた複数回露光走査方式を採用する。

これにより、残したい表面部への熱の影響を抑えることができ、表面平面部の形状精度の向上と傾斜部の急峻化を両立できる。

図１３は、第３の方法により版材Ｆの表面に微細な矩形形状を彫刻する場合の説明図であり、(ａ)は第１ビーム群で彫刻される形状（第１形状）３１０を示し、（ｂ）は第２ビーム群で彫刻される形状（第２形状）３２０を示すものである。図１３（ａ）に示すように、１回目の走査露光時には低いレーザ出力（例えば、１Ｗ）の第１ビーム群で最終的な矩形平面部３２１の形状の輪郭を規定する細線（溝３１３）のみを作る。例えば、溝３１３の幅Ｗsは、概ね数１０μm〜３０μm程度である。

その後、２回目の走査露光時には、第２ビーム群により、溝３１３の外側の領域を当該溝３１３の部分まで彫刻し、図１３（ｂ）に示すように、傾斜部３２２とボトム部３２４を形成する。

これを最終形状とすることも可能であるし、３回目以降の走査露光によって傾斜部３２２を更に急峻に彫刻したり、ボトム部３２４を更に深掘りしたりすることも可能である。

＜第４実施例：スパイラル露光方式の装置形態について＞
本発明の実施に際しては、図１〜図８で説明した副走査方向の間欠送りによる走査露光方式に限らず、ドラム回転中に副走査方向に一定速度で露光ヘッド３０を移動させて版材Ｆの表面をスパイラル（らせん）状に走査するスパイラル露光方式を採用してもよい。

スパイラル露光方式によるマルチビーム露光走査装置の構成は図１で説明したものと概ね共通している。共通する要素については同一符号を用いて説明する。

間欠送り方式の装置と比較した場合のスパイラル露光方式の装置の主な相違点は、ドラム５０が１回転する間に露光ヘッド３０を副走査方向に一定速度で移動させる走査駆動の方法と、光ファイバーアレイ部３００における光ファイバーの配置形態である。

図１４は、スパイラル露光を行う場合に好適な光ファイバーの配置形態と走査線の関係を示す模式図である。ここでは、説明を簡単にするために、チャンネル数を減らして、４本×２列の合計８チャンネルで説明する。

図１４において、斜め方向に並ぶチャンネルｃｈ１〜４群からなる第１列を第１ビーム群のチャンネルとして用い、残りのチャンネルｃｈ５〜８群からなる第２列を第２ビーム群のチャンネルとして用いる。ドラム５０の一定速度の回転と露光ヘッド３０の副走査方向への一定速度の移動によって、先行する第１ビーム群（ｃｈ１〜４）が露光した走査線と同じ走査線上を後続の第２ビーム群（ｃｈ５〜８）が露光する複数回走査露光が行われる。

このようなスパイラル露光方式の場合、第１ビーム群（ｃｈ１〜４）と、第２ビーム群（ｃｈ５〜８）との間を少なくとも１画素以上空けるようにビーム配列を設定することが望ましい。図１４では、ｃｈ４とｃｈ５の間を副走査方向について４画素分空けた例を示した。かかるビーム配列は、図３で説明した上下２段の光ファイバーアレイユニット３００Ａ、３００Ｂの列間距離（Ｌ１）を適宜設計することにより実現できる。

こうして、第１ビーム群と第２ビーム群の間を空けることにより、各ビーム群による露光の熱の影響（熱干渉）を低減することができる。

なお、図１で説明した６４チャンネルの光ファイバーアレイ部３００を備えた露光ヘッド３０の場合、ドラム１回転中に露光ヘッド３０を副走査方向に３２チャンネル分移動させ、先行する１列目（例えば、図３における上段の光ファイバーアレイユニット３００Ａに属するチャンネル群）のビーム群で第１走査露光を行い、後続の２列目（例えば、図３における下段の光ファイバーアレイユニット３００Ｂに属するチャンネル群）のビーム群で第２走査露光を行う形態とする。

スパイラル露光方式の製版装置を用いた場合も既述した第１実施例〜第３実施例の露光走査方式を採用することができる。

＜第５実施例：インターレース露光（２回走査）の例＞
図１５は、第５実施例に係る複数回走査露光方式の概要を示す模式図である。図１５（ａ）の符号５１０で示した矩形領域が最終的に版材Ｆの表面に残したい領域であるとする。この領域５１０を含む周囲近傍の領域（符号５１２）は、走査線を間引くインターレース走査露光によって彫刻を行う領域（以下「インターレース領域」という。）である。このインターレース領域５１２の更に外側の領域（符号５１４）は、非インターレース走査露光（走査線を間引かない通常の走査露光）によって彫刻を行う領域（以下「ノンインターレース領域」という。）である。

図１５（ｂ）の拡大図において、「１」は１回目の走査で照射するビーム群のチャンネルの位置（走査線の位置）を表しており、「２」は２回目の走査で照射するビーム群のチャンネル位置（走査線の位置）を表している。

このように、インターレース領域５１２については、１画素間隔で露光する走査線を間引き、２回の走査で彫刻を行い、残したい領域５１０を形成する。

図１６は、残したい領域５１０と走査線及びビーム位置（チャンネル）の関係を示した模式図である。なお、同図では図示の便宜上、全６４チャンネルのうち５チャンネル分のビーム位置のみをｃｈ_ｋ+1〜ｃｈ_ｋ+5として示した。図１７は１回目の走査によって露光される領域を示しており、図１８は２回目の走査によって露光される領域を示している。

図１７に示すように、１回目の走査において、ノンインターレース領域５１４については全チャンネルで露光し、粗彫刻を行う。そして、インターレース領域５１２は、奇数チャンネル（例えば、ｃｈ_ｋ+1、ｃｈ_ｋ+3、ｃｈ_ｋ+5を含むビーム群）で露光する。

その後、２回目の走査において、図１８に示すように、ノンインターレース領域５１４は全チャンネルで露光して深掘りを行う。そして、インターレース領域５１２は、偶数チャンネル（例えば、ｃｈ_ｋ+2、ｃｈ_ｋ+4を含むビーム群）で露光する。

図１９は、図１８中のＤ−Ｄ線で示した位置（主走査方向位置）における断面形状を示すものである。図１９において、横軸は副走査方向の位置（単位ｍｍ）を示し、縦軸は高さ（単位μｍ）を示している。なお、縦軸の高さは、彫刻されず最終的に残る版材表面の位置ｄ_０を基準にすると、彫刻によって掘られた深さを示すものに相当する。

図１９に示すように、１回目の走査によって、ノンインターレース領域５１４は高さｄ_１（深さｄ_０−ｄ_１）まで彫刻され、インターレース領域５１２は図１９の符号５３１で示す傾斜部を持つ略台形形状に彫刻される。

その後、２回目の走査によって、ノンインターレース領域５１４は高さｄ_２（深さｄ_０−ｄ_２）まで彫刻され、インターレース領域５１２は図１９の符号５３２で示すように表面形状と傾斜部が更に彫刻され、目的の最終形状が得られる。

かかる態様によれば、隣接ビームによる熱の影響を受け難くなるため、良好な目的形状を形成することができる。

＜第６実施例：インターレース露光（３回走査）の例＞
図１５〜図１９では、奇数チャンネルと偶数チャンネルに分けて２回の走査でインターレース領域を露光する例を説明したが、２回走査に限らず、使用するチャンネル数を１／３に間引いて３回の走査を行う態様も可能である。

図２０は、インターレース領域５１２を３回の走査で彫刻する場合の模式図である。図２０において、「１」は１回目の走査で照射するビーム群のチャンネルの位置（走査線の位置）を表しており、「２」は２回目の走査で照射するビーム群のチャンネル位置（走査線の位置）、「３」は３回目の走査で照射するビーム群のチャンネル位置（走査線の位置）を表している。

図２１は１回目の走査によって露光される領域を示しており、図２２は２回目の走査、図２３は３回目の走査の各走査によってそれぞれ露光される領域を示している。図２１〜図２３について図１５〜図１９と同一又は類似する要素については同一の符号を付し、その説明は省略する。

図２１に示すように、１回目の走査において、インターレース領域５１２はチャンネル番号１、４、７…のチャンネルで露光する。

その後、２回目の走査において、図２２のように、インターレース領域５１２はチャンネル番号２，５，８…のチャンネルで露光する。

また、３回目の走査において、図２３のように、インターレース領域５１２はチャンネル番号３，６，９…のチャンネルで露光する。

図２４は、図２３中のＥ−Ｅ線で示した位置（主走査方向位置）における断面形状を示すものである。図２４において、横軸は副走査方向の位置（単位ｍｍ）を示し、縦軸は高さ（単位μｍ）を示している。

図２４に示すように、１回目の走査によって、ノンインターレース領域５１４は高さｄ_１（深さｄ_０−ｄ_１）まで彫刻され、インターレース領域５１２は図２４の符号５４１で示す傾斜部を持つ略台形形状に彫刻される。

その後、２回目の走査によって、ノンインターレース領域５１４は高さｄ_２（深さｄ_０−ｄ_２）まで彫刻され、ノンインターレース領域５１４は図２４の符号５４２で示すように表面形状と傾斜部が更に彫刻される。

その後、更に３回目の走査によって、ノンインターレース領域５１４は高さｄ_３（深さｄ_０−ｄ_３）まで彫刻され、インターレース領域５１２は図２４の符号５４３で示すように表面形状と傾斜部が更に彫刻され、目的の最終形状が得られる。

かかる態様によれば、隣接ビームによる熱の影響を一層受け難くなるため、更に良好な目的形状を形成することができる。

上述した２回走査（図１５〜図１９）、３回走査（図２０〜図２４）と同様の方法により、１／４間引きによる４回走査、１／５間引きによる５回走査なども可能である。

すなわち、全チャンネルを副走査方向について均等に１／Ｎに間引いてチャンネル群をグループ分けし（Ｎは２以上の整数）、Ｎ回の走査でそれぞれ使用するチャンネル群（グループ）を変えて、複数回走査露光を行う態様が可能である。なお、副走査方向に沿って並ぶチャンネル群について端からチャンネル番号ｊ（ｊ＝１，２，３…）を付与し、そのチャンネル番号ｊをＮで割った剰余数によってチャンネル群をグループ分けすることができる。隣接ビーム間隔を広げるほど、隣接ビームの影響の低減効果は大きくなる。

＜第７実施例：インターレース露光の他の形態＞
上述の第５及び第６実施例では、光ファイバーアレイ光源によってノンインターレースのビーム配置を構成し、記録媒体（版材Ｆ）におけるノンインターレース領域５１４（「第２領域」に相当）をノンインターレース露光し、インターレース領域５１２（「第１領域」に相当）を間引きビーム群による擬似インターレース露光としたが、ビーム配置自体をインターレース配置（例えば１走査線置き）にして、このインターレース配置で更にビーム間隔を空けた擬似インターレースで第１領域（インターレース領域５１２）を露光する実施形態も可能である。

すなわち、走査線の副走査方向の間隔をＰＫ_０、記録媒体の表面に最終的に残す平面形状の領域とその周囲領域に相当する「第１領域」を露光するビーム群の隣接ビーム間隔（副走査方向の間隔）をＢＰ_１、当該第１領域の外側の「第２領域」を露光するビーム群の隣接ビーム間隔（副走査方向の間隔）をＢＰ_２とするとき、ＰＫ_０≦ＢＰ_２＜ＢＰ_１となるように、ビーム配置の設計と、各領域の露光時における使用チャンネルの制御を行う。

例えば、ビーム配置としてＮ走査線置きのインターレース配置を採用し（Ｎは２以上の整数）、このインターレース配置（ＢＰ_２＝Ｎ×ＰＫ_０）によって第２領域をインターレース露光走査する。また、当該インターレース配置から更に均等に１／Ｍに間引いたビーム群（ただし、Ｍは２以上の整数）によって第１領域をインターレース露光走査する（ＢＰ_１＝Ｍ×ＢＰ_２）。

このような実施形態によっても、第５及び第６実施例と同様に、良好な目的形状を形成することができる。

＜実施例の組合せについて＞
上述した第１〜第７実施例の方法は、適宜組み合わせることができる。

〔組合せ例１〕
例えば、第１実施例における微細彫刻の工程について、第２実施例のように副走査方向のエッジ部の形成工程と、主走査方向のエッジ部の形成工程とに分けて実施する態様がある。

〔組合せ例２〕
第１実施例における粗彫刻工程の後に、第３実施例による輪郭線彫刻工程と傾斜部形成工程を実施する態様がある。或いは、第３実施例による輪郭線彫刻工程の後に、第１実施例による粗彫刻工程と、微細彫刻工程を実施する態様がある。

〔組合せ例３〕
第１実施例における微細彫刻の工程を第５乃至第７実施例で説明したインターレース露光とする態様が可能である。

〔組合せ例４〕
第２実施例における副走査方向及び主走査方向の各方向エッジ部を形成する工程について、第５乃至第７実施例で説明したインターレース露光とする態様が可能である。

〔組合せ例５〕
第３実施例における輪郭線彫刻工程と傾斜部形成工程のうち少なくとも一方の工程について、第５乃至第７実施例で説明したインターレース露光とする態様が可能である。

その他、上記組合せ例１〜５以外にも様々な組合せ態様が可能であり、いずれの態様も副走査方向間欠送り露光方式、スパイラル露光方式のどちらの方式でも実現することが可能である。

＜フレキソ版の製造工程について＞
図２５に製版工程の概要を示す。レーザ彫刻による製版に用いる生版７００は、基板７０２の上に彫刻層７０４（ゴム層又は樹脂層）を有し、該彫刻層７０４の上に保護用のカバーフィルム７０６が貼着されている。製版加工時には、図２５（ａ）に示すように、カバーフィルム７０６を剥離して彫刻層７０４を露出させ、該彫刻層７０４にレーザ光を照射することにより、彫刻層７０４の一部を除去して所望の３次元形状を形成する（図２４（ｂ）参照）。具体的なレーザ彫刻の方法については、図１〜図２４で説明したとおりである。なお、レーザ彫刻中に発生するダストは、不図示の吸引装置によって吸引して回収する。

彫刻工程が終了した後は、図２５（ｃ）に示すように、洗浄装置７１０による水洗浄を行い（洗浄工程）、その後、乾燥工程（不図示）を経てフレキソ版が完成する。

このように、版自体を直接にレーザ彫刻する製版方式をダイレクト彫刻方式という。本実施形態に係るマルチビーム露光走査装置を適用した製版装置は、ＣＯ２レーザを用いるレーザ彫刻機に比べて低価格を実現できる。また、マルチビーム化によって、加工速度の向上を達成でき、印刷版の生産性が向上する。

＜他の応用例＞
フレキソ版の製造に限らず、他の凸印刷版、或いは、凹印刷版の製造についても本発明を適用することができる。また、印刷版の製造に限らず、他の様々な用途の描画記録装置、彫刻装置について本発明を適用することができる。

＜付記＞
上記に詳述した実施形態についての記載から把握されるとおり、本明細書では以下に示す発明を含む多様な技術思想の開示を含んでいる。

（発明１）：複数の光ビームを同時に照射し、同一走査線を複数回露光走査することにより記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法であって、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状とその周囲の傾斜部との概略形状をなす第１形状を第１ビーム群で形成する第１露光走査工程と、前記第１露光走査工程と同一の走査線上を第２ビーム群によって露光走査し、前記目的の平面形状とその周囲の傾斜部の最終形状をなす第２形状を形成する第２露光走査工程と、を含むことを特徴とするマルチビーム露光走査方法。

本発明によれば、相対的に記録媒体に照射するエネルギーが大きくなるようにビームを照射する第１ビーム群によって粗彫刻（第１露光走査工程）を行い、その後、記録媒体に照射するエネルギーが小さくなるようにビームを照射する第２ビーム群によって目的の最終形状を精密に彫刻する（第２露光走査工程）。これにより、残したい表面部への熱の影響を低減することができ、最終形状の高精度化と傾斜部（スロープ）の急峻化を両立できる。

（発明２）：複数の光ビームを同時に照射し、同一走査線を複数回露光走査することにより記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法であって、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状のエッジ部のうち、第１方向又はこれと異なる第２方向のどちらか一方の方向に沿う第１エッジ部を第１ビーム群で形成する第１露光走査工程と、前記第１露光走査工程の後に、前記第１方向及び前記第２方向のうち前記一方と異なる他方の方向に沿う第２エッジ部を第２ビーム群で形成する第２露光走査工程と、を含むことを特徴とするマルチビーム露光走査方法。

本発明によれば、第１方向に沿う第１エッジ部と、第２方向に沿う第２エッジ部を１度に（同時に）形成する場合と比較して、両エッジ部が互いに交差する角部における熱の影響を低減することができ、角部の形状精度を向上させることができる。

例えば、第１方向と第２方向のうち、一方を主走査方向、他方をこれと直交する副走査方向とする態様がある。ただし、角部の熱影響を低減するという観点から、第１方向と第２方向は必ずしも互いに直交する方向であることを要しない。

（発明３）：複数の光ビームを同時に照射しながら同一走査線を複数回露光走査することにより記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法であって、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状のエッジ部のみが形成されるように第１ビーム群によって前記エッジ部の線画を描画彫刻する第１露光走査工程と、前記第１露光走査工程の後に、第２ビーム群によって前記線画の外側領域を露光走査して前記目的の平面形状の周囲の傾斜部を形成する第２露光走査工程と、を含むことを特徴とするマルチビーム露光走査方法。

本発明によれば、相対的に記録媒体に照射するエネルギーが小さくなるようにビームを照射する第１ビーム群によって目的の平面形状の輪郭線を精密に描画彫刻し（第１露光走査工程）、その後、この輪郭線の外側領域を相対的に記録媒体に照射するエネルギーが大きくなるようにビームを照射する第２ビーム群で彫刻する（第２露光走査工程）。これにより、残すべき表面部に対して過度に熱を与えることなく加工することができ、所望の表面形状を高精度に形成することができる。

（発明４）：複数の光ビームを同時に照射し、同一走査線を複数回露光走査することにより記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法であって、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状の領域及びその周囲領域を第１領域とし、前記第１領域の外側を第２領域とし、前記第１領域は、隣接ビームの間隔を走査線間隔のＮ倍（Ｎは２以上の整数）とするビーム群を用い、複数回の走査により、露光する走査線を異ならせて露光済み走査線の間の未露光走査線を順次露光することで前記目的の平面形状とその周囲の傾斜部の形状を彫刻するインターレース露光を行い、前記第２領域は、隣接ビームの間隔が走査線間隔と等しいビーム群を用いて彫刻するノンインターレース露光を行うことを特徴とするマルチビーム露光走査方法。

本発明によれば、残すべき表面形状の近傍（第１領域）については、インターレース露光を行うことによって隣接ビームの間隔を空け、隣接ビームの熱の影響（熱干渉）を低減している。これにより、熱のこもりを低減した精密彫刻が可能である。また、第１領域よりも更に外側の第２領域については、ノンインターレース露光による粗彫刻・深掘りなどが可能である。

（発明５）：発明１に記載のマルチビーム露光走査方法において、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状のエッジ部のうち、第１方向又はこれと異なる第２方向のどちらか一方の方向に沿う第１エッジ部を第３ビーム群で形成する第３露光走査工程と、前記第３露光走査工程の後に、前記第１方向及び前記第２方向のうち前記一方と異なる他方の方向に沿う第２エッジ部を第４ビーム群で形成する第４露光走査工程と、を含むことを特徴とするマルチビーム露光走査方法。

例えば、第２露光走査工程において、第３露光走査工程及び第４露光走査工程を実施する態様が可能である。

（発明６）：発明１、２又は５に記載のマルチビーム露光走査方法において、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状のエッジ部のみが形成されるように第５ビーム群によって前記エッジ部の線画を描画彫刻する第５露光走査工程と、前記第５露光走査工程の後に、第６ビーム群によって前記線画の外側領域を露光走査して前記目的の平面形状の周囲の傾斜部を形成する第６露光走査工程と、を含むことを特徴とするマルチビーム露光走査方法。

例えば、第５露光走査工程によってエッジ部の線画を描画彫刻した後に、発明１における第１露光走査工程と第２露光走査工程を実施する態様がある。

（発明７）：発明１乃至３、５、６のいずれか１項に記載のマルチビーム露光走査方法において、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状の領域及びその周囲領域を第１領域とし、前記第１領域の外側を第２領域とし、前記第１領域は、隣接ビームの間隔を走査線間隔のＮ倍（Ｎは２以上の整数）とするビーム群を用い、複数回の走査により、露光する走査線を異ならせて露光済み走査線の間の未露光走査線を順次露光することで前記目的の平面形状とその周囲の傾斜部の形状を彫刻するインターレース露光を行い、前記第２領域は、隣接ビームの間隔が走査線間隔と等しいビーム群を用いて彫刻するノンインターレース露光を行うことを特徴とするマルチビーム露光走査方法。

例えば、発明１における第２露光走査工程においてインターレース露光を行う態様がある。

（発明８）：発明１乃至７のいずれか１項に記載のマルチビーム露光走査方法において、前記記録媒体をドラムの外周面に保持し、前記ドラムと共に回転する前記記録媒体の表面に前記複数の光ビームを照射する露光ヘッドを、前記ドラムの軸線方向に沿って移動自在な構成とし、前記ドラムの軸線方向と平行な副走査送りを間欠送りにして露光走査を行うことを特徴とするマルチビーム露光走査方法。

本発明の態様による間欠送りの方式は、ドラムの回転速度が比較的遅い場合に有効である。

（発明９）：発明１乃至７のいずれか１項に記載のマルチビーム露光走査方法において、前記記録媒体をドラムの外周面に保持し、前記ドラムと共に回転する前記記録媒体の表面に前記複数の光ビームを照射する露光ヘッドを、前記ドラムの軸線方向に沿って移動自在な構成とし、前記ドラムの軸線方向と平行な副走査送りを連続送りとするスパイラル露光走査を行うことを特徴とするマルチビーム露光走査方法。

本発明の態様によるスパイラル露光方式は、ドラムの回転速度が比較的速い場合に有効である。

（発明１０）：発明９に記載のマルチビーム露光走査方法において、同一走査線の複数回露光の際に先行する第１ビーム群と、後続の第２ビーム群との間に少なくとも１画素を含む間隔を空けるようにビーム群の配列を設定した露光ヘッドを用いることを特徴とするマルチビーム露光走査方法。

スパイラル露光に用いる露光ヘッドに関して、第１ビーム群と第２ビーム群の間隔を空けることにより、同時照射されるビーム群間の熱干渉を低減することができる。

（発明１１）：記録媒体に向けて複数の光ビームを同時に照射し、前記記録媒体の表面を彫刻する露光ヘッドと、前記記録媒体と露光ヘッドとを相対移動させて同一走査線を複数回露光走査させる走査手段と、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状とその周囲の傾斜部との概略形状をなす第１形状を第１ビーム群で形成する第１露光走査を行わせる第１露光走査制御手段と、前記第１露光走査と同一の走査線上を第２ビーム群によって露光走査し、前記目的の平面形状とその周囲の傾斜部の最終形状をなす第２形状を形成する第２露光走査を行わせる第２露光走査制御手段と、を備えたことを特徴とするマルチビーム露光走査装置。

本発明によれば、残したい表面部への熱の影響を低減することができ、目的とする表面形状の高精度化と傾斜部（スロープ）の急峻化を両立できる。

なお、第１露光走査制御手段と第２露光制御手段は、ともに露光ヘッドと走査手段を制御するものであり、物理的には共通の制御回路によって実現することが可能である。

（発明１２）：記録媒体に向けて複数の光ビームを同時に照射し、前記記録媒体の表面を彫刻する露光ヘッドと、前記記録媒体と露光ヘッドとを相対移動させて同一走査線を複数回露光走査させる走査手段と、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状のエッジ部のうち、第１方向又はこれと異なる第２方向のどちらか一方の方向に沿う第１エッジ部を第１ビーム群で形成する第１露光走査を行わせる第１露光走査制御手段と、前記第１露光走査の後に、前記第１方向及び前記第２方向のうち前記一方と異なる他方の方向に沿う第２エッジ部を第２ビーム群で形成する第２露光走査を行わせる第２露光走査制御手段と、を備えたことを特徴とするマルチビーム露光走査装置。

本発明によれば、第１方向に沿う第１エッジ部と、第２方向に沿う第２エッジ部とが交差する角部の形状を精度よく彫刻することが可能である。

（発明１３）：記録媒体に向けて複数の光ビームを同時に照射し、前記記録媒体の表面を彫刻する露光ヘッドと、前記記録媒体と露光ヘッドとを相対移動させて同一走査線を複数回露光走査させる走査手段と、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状のエッジ部のみが形成されるように第１ビーム群によって前記エッジ部の線画を描画彫刻する第１露光走査を行わせる第１露光走査制御手段と、前記第１露光走査の後に、第２ビーム群によって前記線画の外側領域を露光走査して前記目的の平面形状の周囲の傾斜部を形成する第２露光走査を行わせる第２露光走査制御手段と、を備えたことを特徴とするマルチビーム露光走査装置。

本発明によれば、残すべき表面部近傍への熱の影響を抑えることができ、所望の表面形状を高精度に形成することができる。

（発明１４）：記録媒体に向けて複数の光ビームを同時に照射し、前記記録媒体の表面を彫刻する露光ヘッドと、前記記録媒体と露光ヘッドとを相対移動させて同一走査線を複数回露光走査させる走査手段と、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状の領域及びその周囲領域を第１領域とし、前記第１領域の外側を第２領域として、前記第１領域については、隣接ビームの間隔を走査線間隔のＮ倍（Ｎは２以上の整数）とするビーム群を用い、複数回の走査により、露光する走査線を異ならせて露光済み走査線の間の未露光走査線を順次露光することで前記目的の平面形状とその周囲の傾斜部の形状を彫刻するインターレース露光を行う一方、前記第２領域については、隣接ビームの間隔が走査線間隔と等しいビーム群を用いて彫刻するノンインターレース露光を行うように前記露光ヘッド及び前記走査手段を制御する露光走査制御手段と、を備えたことを特徴とするマルチビーム露光走査装置。

本発明によれば、残すべき表面形状の近傍（第１領域）を彫刻するにあたり、隣接ビームの間隔を空けたインターレース露光を行うため、隣接ビームの熱の影響が低減され、高精度の精密彫刻が可能である。

（発明１５）：発明１１に記載のマルチビーム露光走査装置において、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状のエッジ部のうち、第１方向又はこれと異なる第２方向のどちらか一方の方向に沿う第１エッジ部を第３ビーム群で形成する第３露光走査を行わせる第３露光走査制御手段と、前記第３露光走査の後に、前記第１方向及び前記第２方向のうち前記一方と異なる他方の方向に沿う第２エッジ部を第４ビーム群で形成する第４露光走査を行わせる第４露光走査制御手段と、を備えたことを特徴とするマルチビーム露光走査装置。

（発明１６）：発明１１、１２又は１５に記載のマルチビーム露光走査装置において、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状のエッジ部のみが形成されるように第５ビーム群によって前記エッジ部の線画を描画彫刻する第５露光走査を行わせる第５露光走査制御手段と、前記第５露光走査の後に、第６ビーム群によって前記線画の外側領域を露光走査して前記目的の平面形状の周囲の傾斜部を形成する第６露光走査を行わせる第６露光走査制御手段と、を備えたことを特徴とするマルチビーム露光走査装置。

なお、発明１５における第３露光走査制御手段と第４露光走査制御手段、発明１６における第５露光走査制御手段と第６露光走査制御手段、いずれも露光ヘッドと走査手段を制御するものであり、第１露光走査制御手段、第２露光走査制御手段と合わせて、物理的には共通の制御回路によって実現することが可能である。

（発明１７）：発明１１乃至１３、１５、１６のいずれか１項に記載のマルチビーム露光走査装置において、前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状の領域及びその周囲領域を第１領域とし、前記第１領域の外側を第２領域として、前記第１領域については、隣接ビームの間隔を走査線間隔のＮ倍（Ｎは２以上の整数）とするビーム群を用い、複数回の走査により、露光する走査線を異ならせて露光済み走査線の間の未露光走査線を順次露光することで前記目的の平面形状とその周囲の傾斜部の形状を彫刻するインターレース露光を行う一方、前記第２領域については、隣接ビームの間隔が走査線間隔と等しいビーム群を用いて彫刻するノンインターレース露光を行うように前記露光ヘッド及び前記走査手段を制御する露光走査制御手段を備えたことを特徴とするマルチビーム露光走査装置。

なお、発明１５における第３露光走査制御手段と第４露光走査制御手段、発明１６における第５露光走査制御手段と第６露光走査制御手段、発明１７における露光走査制御手段いずれも露光ヘッドと走査手段を制御するものであり、第１露光走査制御手段、第２露光走査制御手段と合わせて、物理的には共通の制御回路によって実現することが可能である。

（発明１８）：発明１１乃至１７のいずれか１項に記載のマルチビーム露光走査装置において、前記走査手段は、前記記録媒体を外周面に保持して回転するドラムと、前記ドラムの軸線方向に沿って前記露光ヘッドを移動させるヘッド移動手段と、を含んで構成され、前記ヘッド移動手段により前記ドラムの軸線方向と平行な副走査送りを間欠送りにして露光走査を行うことを特徴とするマルチビーム露光走査装置。

ドラムの回転によって主走査方向の走査を行い、ドラムの軸線方向への露光ヘッドの移動によって副走査方向の走査を行う装置構成において、副走査送りを間欠送りとする態様を採用することができる。

（発明１９）：発明１１乃至１７のいずれか１項に記載のマルチビーム露光走査装置において、前記走査手段は、前記記録媒体を外周面に保持して回転するドラムと、前記ドラムの軸線方向に沿って前記露光ヘッドを移動させるヘッド移動手段と、を含んで構成され、前記ドラムの軸線方向と平行な副走査送りを連続送りとするスパイラル露光走査を行うことを特徴とするマルチビーム露光走査装置。

ドラムの回転によって主走査方向の走査を行い、ドラムの軸線方向への露光ヘッドの移動によって副走査方向の走査を行う装置構成において、副走査送りを連続送りとする態様を採用することができる。例えば、ドラムを一定速度で回転させながら、露光ヘッドを一定速度で副走査送りすることにより、ドラム周面に沿ったスパイラル状の走査線を露光することができる。なお、ビーム群の配列形態によっては、副走査方向の送り速度を変更する場合もあり得る。

（発明２０）：発明１９に記載のマルチビーム露光走査装置において、前記露光ヘッドは、同一走査線の複数回露光の際に先行する第１ビーム群と、後続の第２ビーム群との間に少なくとも１画素を含む間隔を空けるようにビーム群の配列が設定されていることを特徴とするマルチビーム露光走査装置。

かかる態様によれば、ビーム群間の熱干渉を抑制することができる。

（発明２１）：発明１乃至１０のいずれか１項に記載のマルチビーム露光走査方法によって、前記記録媒体に相当する版材の表面を彫刻することによって印刷版を得ることを特徴とする印刷版の製造方法。

本発明によれば、高速かつ高精度に印刷版を製造することができ、生産性の向上、低コスト化を実現できる。

本発明の実施形態に係るマルチビーム露光走査装置を適用した製版装置の構成図 露光ヘッド内に配置される光ファイバーアレイ部の構成図 光ファイバーアレイ部の光出射部の拡大図 光ファイバーアレイ部の結像光学系の概要図 光ファイバーアレイ部における光ファイバーの配置例と走査線の関係を示す説明図 本例の製版装置における走査露光系の概要を示す平面図 本例の製版装置における制御系の構成を示すブロック図 第１実施例における露光の走査順序を説明するための説明図 第１実施例によって版材の表面に微細な矩形形状を彫刻する場合の説明図 第１実施例におけるレーザ出力の制御例を示すグラフ 第２実施例によって版材の表面に微細な矩形形状を彫刻する場合の説明図 第２実施例におけるレーザ出力の制御例を示すグラフ 第３実施例によって版材の表面に微細な矩形形状を彫刻する場合の説明図 第４実施例によるスパイラル露光に好適な光ファイバーの配置形態と走査線の関係を示す模式図 第５実施例による走査露光方式の概要を示す模式図 第５実施例において、版材の表面に残したい領域と走査線及びビーム位置（チャンネル）の関係を示した模式図 第５実施例に係る１回目の走査によって露光される領域を示す説明図 第５実施例に係る２回目の走査によって露光される領域を示す説明図 第５実施例の各回の走査によって形成される形状の説明図 第６実施例による走査露光方式の概要を示す模式図 第６実施例に係る１回目の走査によって露光される領域を示す説明図 第６実施例に係る２回目の走査によって露光される領域を示す説明図 第６実施例に係る３回目の走査によって露光される領域を示す説明図 第６実施例の各回の走査によって形成される形状の説明図によって形成される形状の説明図 フレキソ版の製版工程の概要を示す説明図

符号の説明

１０…レーザ記録装置、１１…製版装置、２０…光源ユニット、２１Ａ，２１Ｂ…半導体レーザ、２２Ａ，２２Ｂ，７０Ａ，７０Ｂ…光ファイバー、３０…露光ヘッド、４０…露光ヘッド移動部、５０…ドラム、８０…制御回路、３００…光ファイバーアレイ部、５１２…インターレース領域、５１４…ノンインターレース領域、Ｆ…版材、Ｋ…走査線

Claims (21)

1. 複数の光ビームを同時に照射し、同一走査線を複数回露光走査することにより記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法であって、
   前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状とその周囲の傾斜部との概略形状をなす第１形状を第１ビーム群で形成する第１露光走査工程と、
   前記第１露光走査工程と同一の走査線上を第２ビーム群によって露光走査し、前記目的の平面形状とその周囲の傾斜部の最終形状をなす第２形状を形成する第２露光走査工程と、
   を含むことを特徴とするマルチビーム露光走査方法。
2. 複数の光ビームを同時に照射し、同一走査線を複数回露光走査することにより記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法であって、
   前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状のエッジ部のうち、第１方向又はこれと異なる第２方向のどちらか一方の方向に沿う第１エッジ部を第１ビーム群で形成する第１露光走査工程と、
   前記第１露光走査工程の後に、前記第１方向及び前記第２方向のうち前記一方と異なる他方の方向に沿う第２エッジ部を第２ビーム群で形成する第２露光走査工程と、
   を含むことを特徴とするマルチビーム露光走査方法。
3. 複数の光ビームを同時に照射しながら同一走査線を複数回露光走査することにより記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法であって、
   前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状のエッジ部のみが形成されるように第１ビーム群によって前記エッジ部の線画を描画彫刻する第１露光走査工程と、
   前記第１露光走査工程の後に、第２ビーム群によって前記線画の外側領域を露光走査して前記目的の平面形状の周囲の傾斜部を形成する第２露光走査工程と、
   を含むことを特徴とするマルチビーム露光走査方法。
4. 複数の光ビームを同時に照射し、同一走査線を複数回露光走査することにより記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法であって、
   前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状の領域及びその周囲領域を第１領域とし、前記第１領域の外側を第２領域とし、
   前記第１領域は、隣接ビームの間隔を走査線間隔のＮ倍（Ｎは２以上の整数）とするビーム群を用い、複数回の走査により、露光する走査線を異ならせて露光済み走査線の間の未露光走査線を順次露光することで前記目的の平面形状とその周囲の傾斜部の形状を彫刻するインターレース露光を行い、
   前記第２領域は、隣接ビームの間隔が走査線間隔と等しいビーム群を用いて彫刻するノンインターレース露光を行うことを特徴とするマルチビーム露光走査方法。
5. 請求項１に記載のマルチビーム露光走査方法において、
   前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状のエッジ部のうち、第１方向又はこれと異なる第２方向のどちらか一方の方向に沿う第１エッジ部を第３ビーム群で形成する第３露光走査工程と、
   前記第３露光走査工程の後に、前記第１方向及び前記第２方向のうち前記一方と異なる他方の方向に沿う第２エッジ部を第４ビーム群で形成する第４露光走査工程と、
   を含むことを特徴とするマルチビーム露光走査方法。
6. 請求項１、２又は５に記載のマルチビーム露光走査方法において、
   前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状のエッジ部のみが形成されるように第５ビーム群によって前記エッジ部の線画を描画彫刻する第５露光走査工程と、
   前記第５露光走査工程の後に、第６ビーム群によって前記線画の外側領域を露光走査して前記目的の平面形状の周囲の傾斜部を形成する第６露光走査工程と、
   を含むことを特徴とするマルチビーム露光走査方法。
7. 請求項１乃至３、５、６のいずれか１項に記載のマルチビーム露光走査方法において、
   前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状の領域及びその周囲領域を第１領域とし、前記第１領域の外側を第２領域とし、
   前記第１領域は、隣接ビームの間隔を走査線間隔のＮ倍（Ｎは２以上の整数）とするビーム群を用い、複数回の走査により、露光する走査線を異ならせて露光済み走査線の間の未露光走査線を順次露光することで前記目的の平面形状とその周囲の傾斜部の形状を彫刻するインターレース露光を行い、
   前記第２領域は、隣接ビームの間隔が走査線間隔と等しいビーム群を用いて彫刻するノンインターレース露光を行うことを特徴とするマルチビーム露光走査方法。
8. 請求項１乃至７のいずれか１項に記載のマルチビーム露光走査方法において、
   前記記録媒体をドラムの外周面に保持し、
   前記ドラムと共に回転する前記記録媒体の表面に前記複数の光ビームを照射する露光ヘッドを、前記ドラムの軸線方向に沿って移動自在な構成とし、前記ドラムの軸線方向と平行な副走査送りを間欠送りにして露光走査を行うことを特徴とするマルチビーム露光走査方法。
9. 請求項１乃至７のいずれか１項に記載のマルチビーム露光走査方法において、
   前記記録媒体をドラムの外周面に保持し、
   前記ドラムと共に回転する前記記録媒体の表面に前記複数の光ビームを照射する露光ヘッドを、前記ドラムの軸線方向に沿って移動自在な構成とし、
   前記ドラムの軸線方向と平行な副走査送りを連続送りとするスパイラル露光走査を行うことを特徴とするマルチビーム露光走査方法。
10. 請求項９に記載のマルチビーム露光走査方法において、
    同一走査線の複数回露光の際に先行する第１ビーム群と、後続の第２ビーム群との間に少なくとも１画素を含む間隔を空けるようにビーム群の配列を設定した露光ヘッドを用いることを特徴とするマルチビーム露光走査方法。
11. 記録媒体に向けて複数の光ビームを同時に照射し、前記記録媒体の表面を彫刻する露光ヘッドと、
    前記記録媒体と露光ヘッドとを相対移動させて同一走査線を複数回露光走査させる走査手段と、
    前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状とその周囲の傾斜部との概略形状をなす第１形状を第１ビーム群で形成する第１露光走査を行わせる第１露光走査制御手段と、
    前記第１露光走査と同一の走査線上を第２ビーム群によって露光走査し、前記目的の平面形状とその周囲の傾斜部の最終形状をなす第２形状を形成する第２露光走査を行わせる第２露光走査制御手段と、
    を備えたことを特徴とするマルチビーム露光走査装置。
12. 記録媒体に向けて複数の光ビームを同時に照射し、前記記録媒体の表面を彫刻する露光ヘッドと、
    前記記録媒体と露光ヘッドとを相対移動させて同一走査線を複数回露光走査させる走査手段と、
    前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状のエッジ部のうち、第１方向又はこれと異なる第２方向のどちらか一方の方向に沿う第１エッジ部を第１ビーム群で形成する第１露光走査を行わせる第１露光走査制御手段と、
    前記第１露光走査の後に、前記第１方向及び前記第２方向のうち前記一方と異なる他方の方向に沿う第２エッジ部を第２ビーム群で形成する第２露光走査を行わせる第２露光走査制御手段と、
    を備えたことを特徴とするマルチビーム露光走査装置。
13. 記録媒体に向けて複数の光ビームを同時に照射し、前記記録媒体の表面を彫刻する露光ヘッドと、
    前記記録媒体と露光ヘッドとを相対移動させて同一走査線を複数回露光走査させる走査手段と、
    前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状のエッジ部のみが形成されるように第１ビーム群によって前記エッジ部の線画を描画彫刻する第１露光走査を行わせる第１露光走査制御手段と、
    前記第１露光走査の後に、第２ビーム群によって前記線画の外側領域を露光走査して前記目的の平面形状の周囲の傾斜部を形成する第２露光走査を行わせる第２露光走査制御手段と、
    を備えたことを特徴とするマルチビーム露光走査装置。
14. 記録媒体に向けて複数の光ビームを同時に照射し、前記記録媒体の表面を彫刻する露光ヘッドと、
    前記記録媒体と露光ヘッドとを相対移動させて同一走査線を複数回露光走査させる走査手段と、
    前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状の領域及びその周囲領域を第１領域とし、前記第１領域の外側を第２領域として、前記第１領域については、隣接ビームの間隔を走査線間隔のＮ倍（Ｎは２以上の整数）とするビーム群を用い、複数回の走査により、露光する走査線を異ならせて露光済み走査線の間の未露光走査線を順次露光することで前記目的の平面形状とその周囲の傾斜部の形状を彫刻するインターレース露光を行う一方、前記第２領域については、隣接ビームの間隔が走査線間隔と等しいビーム群を用いて彫刻するノンインターレース露光を行うように前記露光ヘッド及び前記走査手段を制御する露光走査制御手段と、
    を備えたことを特徴とするマルチビーム露光走査装置。
15. 請求項１１に記載のマルチビーム露光走査装置において、
    前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状のエッジ部のうち、第１方向又はこれと異なる第２方向のどちらか一方の方向に沿う第１エッジ部を第３ビーム群で形成する第３露光走査を行わせる第３露光走査制御手段と、
    前記第３露光走査の後に、前記第１方向及び前記第２方向のうち前記一方と異なる他方の方向に沿う第２エッジ部を第４ビーム群で形成する第４露光走査を行わせる第４露光走査制御手段と、
    を備えたことを特徴とするマルチビーム露光走査装置。
16. 請求項１１、１２又は１５に記載のマルチビーム露光走査装置において、
    前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状のエッジ部のみが形成されるように第５ビーム群によって前記エッジ部の線画を描画彫刻する第５露光走査を行わせる第５露光走査制御手段と、
    前記第５露光走査の後に、第６ビーム群によって前記線画の外側領域を露光走査して前記目的の平面形状の周囲の傾斜部を形成する第６露光走査を行わせる第６露光走査制御手段と、
    を備えたことを特徴とするマルチビーム露光走査装置。
17. 請求項１１乃至１３、１５、１６のいずれか１項に記載のマルチビーム露光走査装置において、
    前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状の領域及びその周囲領域を第１領域とし、前記第１領域の外側を第２領域として、前記第１領域については、隣接ビームの間隔を走査線間隔のＮ倍（Ｎは２以上の整数）とするビーム群を用い、複数回の走査により、露光する走査線を異ならせて露光済み走査線の間の未露光走査線を順次露光することで前記目的の平面形状とその周囲の傾斜部の形状を彫刻するインターレース露光を行う一方、前記第２領域については、隣接ビームの間隔が走査線間隔と等しいビーム群を用いて彫刻するノンインターレース露光を行うように前記露光ヘッド及び前記走査手段を制御する露光走査制御手段を備えたことを特徴とするマルチビーム露光走査装置。
18. 請求項１１乃至１７のいずれか１項に記載のマルチビーム露光走査装置において、
    前記走査手段は、前記記録媒体を外周面に保持して回転するドラムと、前記ドラムの軸線方向に沿って前記露光ヘッドを移動させるヘッド移動手段と、を含んで構成され、
    前記ヘッド移動手段により前記ドラムの軸線方向と平行な副走査送りを間欠送りにして露光走査を行うことを特徴とするマルチビーム露光走査装置。
19. 請求項１１乃至１７のいずれか１項に記載のマルチビーム露光走査装置において、
    前記走査手段は、前記記録媒体を外周面に保持して回転するドラムと、前記ドラムの軸線方向に沿って前記露光ヘッドを移動させるヘッド移動手段と、を含んで構成され、
    前記ドラムの軸線方向と平行な副走査送りを連続送りとするスパイラル露光走査を行うことを特徴とするマルチビーム露光走査装置。
20. 請求項１９に記載のマルチビーム露光走査装置において、
    前記露光ヘッドは、同一走査線の複数回露光の際に先行する第１ビーム群と、後続の第２ビーム群との間に少なくとも１画素を含む間隔を空けるようにビーム群の配列が設定されていることを特徴とするマルチビーム露光走査装置。
21. 請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のマルチビーム露光走査方法によって、前記記録媒体に相当する版材の表面を彫刻することによって印刷版を得ることを特徴とする印刷版の製造方法。