JP2009234255A - 製版装置及び製版方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】凸細線Pの隣接する隣接領域における走査方向上流側と下流側とで1画素分、光パワーをオフすると共に、レーザビームをオフした外側に近接する1画素分(近接領域)の光パワーを上げることで、壁面P1,P2の傾斜を垂直により近づけている(エッジ部Eをより立てている(90°に近づけている))。このように、本発明の光パワー制御を適用することで、凸細線Pの上面P5の幅に近づけられると共に、凸細線Pの断面形状が矩形状に近づけられる。凸細線Pが高精密に彫刻される。よって、製版後の記録プレートFで印した印刷物における細線の再現性が向上される。
【選択図】図11
Description
11 製版装置
20 光源ユニット(ファイバ光源)
30 露光ヘッド
34 結像レンズ
50 ドラム
70A 光ファイバ
70B 光ファイバ
71A 光ファイバ端部
71B 光ファイバ端部
300 ファイバーアレイ部
LA レーザビーム(光ビーム)
LB レーザビーム(光ビーム)
F 記録プレート(記録媒体)
FA 露光面(記録媒体の表面)
P 凸細線(凸部)
Q 凸点部(凸部)
QA 角部
QB 角部
QC 角部
QD 角部
Claims (10)
- 光ビームで記録媒体を所定の画素ピッチで走査することにより、前記記録媒体の表面を彫刻して製版する製版装置であって、
前記記録媒体の表面を凸状に残す凸部に隣接する隣接領域における一部領域又は全領域を彫刻する光ビームの光パワーは、前記凸部の上面が彫刻閾値エネルギー以下になるように設定され、
前記隣接領域とされた領域の外側に近接する近接領域の光ビームの光パワーは、前記隣接領域よりも上げられることを特徴とする製版装置。 - 前記隣接領域における彫刻閾値エネルギー以下とされた領域は、1画素以上であることを特徴とする請求項1に記載の製版装置。
- 前記近接領域では、パルス幅が1画素以下とされたパルス露光で彫刻されることを特徴とする請求項1又は請求項2のいずれか1項に記載の製版装置。
- 前記パルス露光のパルス幅が、0.5画素以下であることを特徴とする請求項3に記載の製版装置。
- 前記パルス露光のパルス幅が、0.25画素以下であることを特徴とする請求項3に記載の製版装置。
- 前記記録媒体を彫刻する前記光ビームが、ファイバーアレイ光源から出射されたのち、結像レンズで集光された光ビームとされていることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の製版装置。
- 前記凸部が平面視多角形状の場合、
彫刻閾値エネルギー以下になるように設定される領域は、平面視多角形状の前記凸部の少なくとも一つの角部に隣接する領域を含むことを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の製版装置。 - 平面視多角形状の前記凸部の全周に亘って、彫刻閾値エネルギー以下になるように設定されることを特徴とする請求項7に記載の製版装置。
- 前記凸部が平面視矩形状であることを特徴とする請求項7又は請求項8に記載の製版装置。
- 光ビームで記録媒体を所定の画素ピッチで走査することにより、前記記録媒体の表面を彫刻して製版する製版方法であって、
前記記録媒体の表面を凸状に残す凸部に隣接する隣接領域における一部領域又は全領域を彫刻する光ビームの光パワーを、前記凸部の上面が彫刻閾値エネルギー以下になるように下げ、
前記隣接領域の外側に近接する近接領域を彫刻する光ビームの光パワーは、前記隣接領域よりも上げて彫刻することを特徴とする製版方法。
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