JPS5998847A - 版胴を位置正確に事後彫刻する方法および装置 - Google Patents

版胴を位置正確に事後彫刻する方法および装置

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本°発明は特許請求の範囲第1項の謂ゆる上位概念に記
載の版胴の位置正確な事後彫刻方法に関する。
西独特許第2361903号明細書および西独特許願公
開公報第2513042号明細書には、既に部分的に彫
刻がなされた版胴に、版型の周辺の明確に特定された個
所に事後的に原稿部分を正しく位置整合するように事後
彫刻することが既に記述されている。この種の問題は、
例えば雑誌の1ページが公告部分と記事部分とを有する
ような雑誌の印刷において起る。雑誌を出版する相当前
に公告部分を彫刻し印刷して、試し刷を掲載者に提示し
て品質についての諾否を求めることが行なわれている。
この場合、雑誌O仕切りの直前に記事部分が事後彫刻さ
れる。
ここで決定的に重要なことは、1つの色組に属する全べ
ての版胴上に既に行なわれている彫刻に対し正確に位置
合せされるように事後彫刻部を位置決めすることである
上に述べた2つの特許明細書には、電気機械的な彫刻に
おいて、走査円筒および彫刻版胴に設けられた位置固定
の基準マーク(このマークは版胴の円周に1回だけ現わ
れるのでノースパルスあるいは位置合せ・ξルスと称さ
れることが多い)によって、走査円筒と彫刻版胴との間
の角度変位を測定して、彫刻版胴のための駆動モータの
電圧により上記角度変位が零になるまで駆動パルスを脱
落したりあるいは付加する。この目的で、版胴に連結さ
れているラスタ円板が光電的に走査され、該版胴の各回
転毎に1つの円周パルス(位置合せ・eルスとも称され
る)が゛・、 発生されろ。さらに。ラスタ円板は複数のパルスを発生
し、これらパルスで、PLL回路により彫刻クロックが
発生され同期がとられろ。
しかしながら、版胴もしくは印刷円筒の電子ビーム彫刻
では、」二記のような操作は不可能である。と言うのは
版胴と同期回転する走査円筒が設けられておらず、彫刻
は走査に対してオフライン、言い換えるならばメモリか
ら出発して行なわれるからである。したがって、再整相
(一致の再設定)のための基準として評価することがで
きる走査円筒に対する角度変位情報を得ることはできな
し・。
よって本発明の課題は、走査過程に関係なく、事後彫刻
に際して彫刻過程を彫刻版胴の表面の予め定められた個
所に位置正確に開始することを可能にする方法を提供す
ることにある。
本発明のこの課題は特許請求の範囲第1項の謂ゆる特徴
部分に記載の構成によって達成されろ。
特許請求の範囲第2項ないし第4項には本発明の有利な
発展実施態様が記述されて(・ろ。
以下、第1図ないし第16図を参照して本発明の詳細な
説明する。
第1図は断面図で、版胴(印刷円筒)の電子ビーム彫刻
装置を示す。この装置は、駆動装置(図示せず)により
角速度Wで矢印(3)て゛回転せしめられる版胴(2)
が収容されている真空容器(1)から構成されている。
版胴(2)に指向される電子ビーム束(5)が発生され
る電子ビーム発生装置(4)(略示するに留めた)が、
気密の容器もしくはノ・ウジング(1)K連結されてい
る。
版胴と彫刻系との間の軸方向の相対運動が、版胴または
彫刻系の軸方向変位によって実現されろ彫刻機械もしく
は彫刻盤は実際に知られている。本発明はこれら2つの
駆動形式に有利に適用で゛きる。
電子ビーム発生装置(4)の電子光学的構造は図示を省
略し、単に、印刷版表面に電子ビームの集束する集束コ
イル(6)を示すに留めた。
集束および発散により凹みが形成される。集束コイル(
6)の制御は、(米国特許第4393295号明細細書
に対応する)ドイツ国特許第294744’4号明細書
に記載の仕方で行なわれる。したがって彫刻制御に関し
てはここでは詳細に説明しない。と言うのは、本発明は
、軸方向および円周方向において彫刻を開始させろパル
スの発生に関するものであるからである。
この・ぐルスを得るために、電子ビーム発生装置は、本
来の彫刻動作前に測定駆動に切換えられる。このことに
関しては追って詳述ずろ。印刷版表面から出る2次電子
SEおよび反射電子REは、測定抵抗器RMを介して接
地されているリング形状の絞り(7)に達する。絞り(
7)によって発生されろセンサ信号は最大値検出器(8
)に供給され、該検出器(8)の出力信号はアナログー
デイノタル変換器もしくはA / D変換器(9)内で
A / D変換後にステップモータ制御回路(10)に
供給される。さらに整相電子回路(11)が設けられて
おり、この回路(11)はマーク検出器(12)を介し
て絞り(7)に接続8されると共に、他方また版胴2と
同期回転するラスク円板(21)から位置固定のマーク
(22)による謂ゆる位置合せ・ξルスもシ<ハノース
パルスNJoを受ける。さらに整相電子回路(11)は
、彫刻制御装置(24)のための周波数を発生するタイ
ミング発生段(23)に接続されている。整相電子回路
は、ステップモータ制御回路(10)と同様に、中央制
御コンピュータ(13)に接続されておって、その出力
端に整相に要求される・ξルスを発生する。
第1a図は、原理的には第1図と同じ構成であるが個々
の回路要素をより詳細に示す図である。第1図のステッ
プモータ制御回路(lO)は、例えば、80のプログラ
ム可能な入力/出力導体を有するInte1社のi S
BC80/24型のコンピュータとすることができるス
テップモータ制御コンピュータ(10a)とドイツ国ミ
ュンヘン所在のPhytron社のCD 3Q型とする
ことができるステップモータ電力供給終段(IQb)か
らなる。ステップモータ(loc)としては例えばPh
ytron社のZSH125−200−15型のステッ
プモータとすることができる。
ステップモータ電力供給段(lob)はクロツク導体Φ
、順/逆制御導体および状態導体を介してステップモー
タ制御コンピュータ(10a)に接続されている。ステ
ップモータ制御コンピュータ(loa)は、例えば12
本の導線から形成することができるデータ導体もしくし
まケーブル(91)および制御導体(92)を介し、i
 A / D変換器(9)に接続されて(・る。第1図
の測定徘抗RMは第1a図では電流/電圧変換器(14
)として構成されて(・る。なお、この変換器(14)
に関しては第1図を参照し追って詳述する。例えばIn
tel社のi SBCδ6/12A型の要素(13a)
と例えIti Intel社のl5BC519型のプロ
グラマブルな素子(13b−)とから構成される中央制
御コンピュータ(13)は、[Intel −Mult
i −Bus I EEE 796 J型のデータ母線
(15)を介してステップモータ制御コンピュータ(1
0a)に接続されて(1ろ。
なおこれら個々の要素の回路技術上の詳細に関しては追
って第8図ないし第11図を参照し詳述する。
第2図は例えば彫刻の開始時に版胴上に設けられる凹み
の軌跡を示す。この凹みの軌跡(ま、印刷版もしくは版
型の縁部ではなく該版型に並置して、または像内容もし
くは印刷に支障を来たさない版型上の個所に彫刻されて
(・る周線上に位置することもできろ。彫刻を行なう前
に、彫刻されていない円筒に、位置合せ・ξルスの罰で
2,3の凹みが欠落して(・るこのような凹みパターン
が設けられる。このようにして、円筒の送り方向および
周辺方向におけろ彫刻開始イ固所もしくは位置が画定さ
れろ。
例えば、値段が事後的に印刷される百貨店のカタログの
製作の場合のように事後彫刻もしくは後彫刻においては
、彫刻機械に版胴を取付けた後に、ラスタ円板の位置合
せノξルスNj0および彫刻開始点Gsが第3図に略示
するように互いに変位し得ろ。この場合Njoはラスタ
円板の位置合せノξルスを表わし、そしてGS’t’!
、円筒上における彫刻開始点を表わす。
整相に当っては、既に述べたように電子ビームを測定ゾ
ンデ(探子)として駆動する。即ち、材料処理時の強度
より減少した強度で電子ビームを駆動する。この場合の
ビーム径は凹みの直径と比較して、整相に際して要求さ
れる位置精度(電子ビームによる凹みの分解能)に必要
とされる程度に減少される。この目的で、例えば、ビー
ムスポットは5μmの直径に設定され、エネルギ密度は
104ワツ) / cm 2  に設定される。
第4図の上部には、電流/電圧変換器(14)の出力信
号の変化が示されている。図から明らかなように、各凹
み毎に2つのほぼ同じへ最大値を有する対称性の信号が
発生される。この信号の対称性は、凹みが対称であるこ
とならびに測定絞り(7)が電子ビーム(5)を対称的
に取り囲んでいると言う事実から生ずる。したがって、
電子ビームゾンデは、凹みがビーム内に入る際およびビ
ームから出る際に該凹みの壁で同様の信号を発生するこ
とになる。
追って第12図を参照して述べろ比較器を用いてこの複
信号が評価され、それにより第牛図に矩形信号として示
しである信号が得られ、この矩形信号が、後述するよう
に円周方向における整相過程で評価処理されるのである
第5a図には、1つの凹みを通る3つの走査軌跡が示さ
れており、第5b図には円筒の軸方向零位置を求めよう
とする場合についての3つの走査軌跡に対応する信号波
形が示されている。
3つの軌跡に対して第5b図に示す信号波形1′、2′
および3′が得られ、これら信号波形は第1図の最大値
検出器(δ)で評価される。最大信号は曲線(2′)か
ら明らかなように、第2番目の軌跡即ち凹みの中心領域
に対応して現れる。
軸方向における整相過程においては、電流−電圧変換器
(14)の出力の測定値の最大となる計数器状態が求め
られる。
事後彫刻における彫刻位置決めは、この計数器状態に対
して行なわれる。
この過程に関しては、第12図ないし第16図を参照し
追って説明する。
既に第4図と関連して述べたように、絞り(7)は、グ
ラビア印刷用の凹みの縁に対応する立上り縁および立下
り縁を有する信号を発生する。第6図は、位置合せ・ξ
ルスN、、。前に間隙もしくはギャップを有している凹
みの軌跡を示す。
整相に際しては、第7図に詳細に示すように、ラスク円
板の基準・ξルスNjoかも上記ギャップ後に現われる
最初の凹みによるパルス立上り縁までならびにラスク円
板の位置合せ(ノース)パルスNjoから測定信号の立
下り縁まで、クロック発生器によって発生されるPLL
クロックの数が計数される。ここで立上り縁マテノ・ξ
ルス計数をZlとし、立下り縁までの・ξルス計数なz
2とする。この場合Z2はzlよりも大きい。整相した
(位相が一致した)位置合せパルスは第7図に示すよう
に、該位置合せ・ξルスから数Z−1/2 (z + 
z )のPLLクロックを計数す2 ることによって得られ、しかる後に本来の整相もしくは
位相一致基準・ξルスNj1が電子回路によって発生さ
れる。この/ξルス、したがってまた対応の計数状態は
記憶されて、円周方向における事後彫刻のための新しい
基準として用いらレル。個々の回路要素を用いてのこの
ノξルスの発生に関しては第10a図に詳細に示されて
おり、そしてこの第10a図については第8図ないし第
11図と関連して後述する。
第8図は第1a図に示した電流/電圧変換器(14)を
詳細に示す。ゝ第1図ならびに第1a図に示されている
絞り(7)の測定電流は、第8図に示すように接続され
ている2つの直列に接続された集積回路■C1およびI
C2に入力される。回路IC,としては、Analog
 Devices社の[Type ADLH32Jを用
いるのが好ましくは、そして回路IC2としては同上社
の「Type ADLH33」とするのが有利である。
以下この回路の動作について詳述する。
本来の測定抵抗RMは、ICおよびIC2からなる直列
回路の出力端と入力端との間の帰還結合路に設けられる
。ICおよびIC2は公知の仕方で、非常に小さい入力
インピーダンスを有する電流/電圧変換器として動作す
る。これにより、第1図に示した測定回路と比較して小
さい時定数が得られる。
段IC2の出力端には第1図ならびに第1a図に示した
マーク検出器(12)および最大値検出器(8)が接続
されており、そして該工C2の出力端には第10a図に
示すような出力電圧U1が発生される。
第9図には最大値検出器(12)の回路が詳細に示され
ている。電圧U1は第1の増幅器IC6で増幅され整流
される。この目的で、IC6の帰還結合路にはダイオー
ドD1およびD2が設けられており、ダイオードD1は
帰還結合抵抗RK6と直列に鷺してダイオードD2は帰
還抵抗RK5とDlとの直列接続を介して阻止方向に設
けられている。
整流された電圧は、市販されている電子回路素子工C4
およびIC5からなる積分保持段の入力端に印加される
。積分結果はA/D変換器■C6に供給される。該変換
器IC6も積分回路として実現することができる。第9
図の回路は、既述のように市販されている素子から構成
することができ、例えば素子IC5としてはAnalo
g Devices社の[Type ADLH32Jと
し、素子IC4としては3i1onix社の[Type
 DG 300 Jとし、素子IC5としてはPMI社
のr Type OP 16 Jとし、そして素子■C
6とし、そして素子IC6としてはAnalog De
vices  社の[Type AD 574 Jを用
いることができる。
積分段■C4に制御出力SL1およびSb2を有してお
り、これらを介して、積分、保持(ホールド)および零
リセット(リセット)の機能を選択ずろことができろ。
これら制御導体は、ステップモータならびにステップモ
ータのための制御コンピュータ(log )に接続され
ている。
積分、保持およびリセット機能はMOSスイッチ■C4
を用いて選択される。この選択は、下記の真理値表に対
応して行なろれる。
L1SL2 積分       L     H 保持      HL リセット         HH 第10図は第1図および第1a図に示したマーク検出器
(12)の詳細を示す。第8図に詳細に示されている電
流/電圧変換器(14)の出力信号は入力信号U1とし
て整流器設工C7に印加される。この整流器は第9図の
整流器段IC5と同様に構成されている。この段の整流
された出力信号U2は比較器工C8で基準電圧URef
  と比較されて、ディジタル出力信号U5が得られる
信号U1 ” 2 ’ URefおよびU3は第10a
図に示しである。
基準軌跡(第2図ならびに第6図)における間隙もしく
はギャップ後の第1番目の凹みを検出するために、ディ
ジタル出力信号U3は遅延段■C1□に印加される。こ
の遅延段の出力信号は第10a図にU4で示しである。
さらに信号U3はモノフロップIC,K供給され、該モ
ノフロップの出力信号U5(第10a図)は上記ギャッ
プに対応する。この信号U5はさらに他のモノフロップ
■C1oに供給される。この工C1oの時定数は1つの
凹み期間に対応する。この出力信号U6(第1Qa図)
は遅延段の出力信号U4と共にアンドゲートT1に供給
される。該ゲートT1の出力端には。
基準軌跡におけるギャップ後の第1番目の凹みに対応す
る信号U7(第7図および第10a図の電圧U7参照)
が現われる。この信号U7は時間補償素子T2を介して
モノフロップ■C12に印加されると共にインバータT
6を介して別のモノフロップIC,、、に供給される。
2つのモノフロップ■C12およびic、6は、第7図
の縁z1および22に属する2つの針様・ξルスを発生
する。これら・ξルスはマーカ1およびマーカ2で表わ
されており、そして第10a図にU9およびUllで示
されている。
第10図に示した回路は例えば市販品として入力可能な
要素を用いて構成することができる。
IC70P  la  PMI社 IC8LM ’311  National Seml
conductor社IC274LS I22 Tex
as Instruments社IC+074−LS 
 I21 Texas Instruments社IC
1,74LS  31  Texas Instrum
ents社IC1274LS  121  Texas
 Instruments社IC1674LS  12
1  Texas Instruments社第11図
は、ラスク同第11図図または第3図)の位置合せパル
スN に対し変位された位置O 基準″ルスNJ1を発生する回路装置を示す。この目的
で、最初に計数器状態Z1およびZ2が求められる。こ
の場合、計数器状態z1はラスク円板の位置合せノξル
スNjoとマーカ1との間のPLLクロック数に対応し
、他方Z2は位置合せ・ξルスNjoとマーカ2との間
のPLLクロック数に対応する。
上の目的でロード可能な24ビツト計数器■C18カ設
けられ、この計数器は3つの8ビット−D−レジスタ■
C15ないしIC17ならびに3つの8ビット−D−ラ
ッチに接続されている。2ビツトの2進デコーダIC2
2を介して、レジスタ■C1,ないしIC17は逐次制
御コンピュータ(13a)Kより制御導体C1およびC
2を介して選択され、そしてデータ出力を介してレジス
タ■、C19ないしIC21のデータのロードおよび読
出しが行われる。
計数器状態Z1およびz2は−マーカ1および2ならび
に計数器ICl3ならびに2つの計数器群ICl3ない
し工C17およびIC1,ないしIC21を用いて得ら
れる。計数器状態Z1は、中央コンピュータ(13)な
らびにゲートT7.T8およびT12と接続している制
御導体C6をrLJにセットすることにより得られる。
コンピュータ(13)ならびにゲートT4およびT5に
接続されている2つの別の制御導体C4およびC5は、
マーカーおよび2のうちの何れがゲートTおよびT5を
通過すべきかを決定する。
マーカーを選択するためには、制御導体C4はrLJに
セットされ、制御導体C5はrHJにセットされる。各
位置合せパルス毎に、レジスターC15ないしIC17
はゲートT7を介して零にセットされ、そして遅延素子
T6により決定される遅延時間後にレジスターC15な
いしIC17の内容は計数器IC18VC転送される。
即ちI C1’aは各位置合せ・ξルス毎に零にセット
されるのである。
ゲートT8を介して計数器■C18は順方向計数(アゾ
カララント)に接続され、そしてPLLクロックにより
加算計数を行う。
マーカーが現れると、計数器ICl3の内容はICない
し工C21に転送され、そしてモノフロラ9 プ■C21によって決定される遅延時間後に計数器状態
Z1として中央コンピュータ(13)K読込まれる。
同様にして、制御導体C4を「H」に、そして制御導体
C5をrLJにセットすることによりマーカ2で計数器
状態z2が得られる。
計数器状態z1およびZ2を中央コンピュータ(13)
に転送した後に、該コンピュータにおいて平均値Zが算
出される。次いで、制御導体C3はコンピュータ(13
)により[HJに設定される。この結果レジスタIC1
5ないし工C17は最早や各位置合せパルス毎に零に七
ツ゛トされることはなく、書込まれた値を保持し、各位
置合せ・ξルス毎にこの値を計数器工C18に転送する
。さらに、計数器工C18はインバータT8を介して逆
方向計数(ダウンカウント)に接続され、計数器ICl
3の出力信号(溢れ−リプルキャリー出力)がゲートT
12を通される。同時に、平均値2もコンピュータ(1
3)からレジスタIC1,ないしIC17にロードされ
る。続く各位置合せパルスNjo毎にレジスタエC15
ないしIC17の内容は計数器ICl3にロードされ、
各PLLクロックで減算計数される。計数状態「零」で
、1つのPLLクロック長に対し信号「溢れ」が既述の
如く出力される。この過程は各円筒回転毎に繰返される
第11図に示した回路には、例えば次のような市販品と
して入手可能な素子を用いることができる。
ICl3 74LS273  Texas Instr
uments社IC+6 74LS273      
ttIC,774LS273      //IC,8
6X74669       ttIC1,74LS3
73      //IC2o 74LS373   
   ttIC2174L S 373      t
tIC2274LS155      ttIC267
4LS121     〃 次に、装置のコンピュータプロセスを説明する。既に述
べたように、中央制御コンピュータ(13)は[Int
el−Multi−Bus IEEE 795 Jを介
してステップモータ制御コンピュータ(10a)に接続
されている。この母線の仕様はIntel社のr OE
 −Sys tems ハンドブック1983Jまたは
[No、210941−001J、頁3−1ないし3−
10に記述されており、この母線は変更無く用いること
ができるので、ここでの説明は省略する。
中央制御コンピュータ(13)は、コンピュータ制御に
おいてマスターコンピュータとしての働きをなし、そし
てステップモータコンピュータ(loa)はスレイブコ
ンピュータとしての働きをなす。データは公知の・・ン
ドシエイジ方式でマスターおよびスレイブコンピュータ
間で転送される。モータ制御コンピュータ(10a)は
中央制御、コンピュータ(13)から命令コードおよび
・ξラメータ例えば「ステップモータを目標位置に走転
」を伝送され、この場合「ステップモータ走転」が命令
で、「目標位置」が関連の・ξラメータである。
ステップモータコンピュータ(10a )は命令の実行
後、中央制御コンピュータ(13)に「状態メソセージ
」例えば「目標位置達成」を送る。
第12図にはフローチャートの形態で制御コンピュータ
(]、 3 )のプログラムルーチーンが詳細に示しで
ある。このようなコンピュータは、本発明によろ整相電
子系の制御にのみ用いられるばかりではな(、他の制御
機能、例えば電子ビーム銃あるいは装置全体の制御にも
用いられるものであるので、ここでは単に、本発明の実
施にとって重要であるプログラム部分即ちプログラム部
分「ステップモータ制御装置(10a)への命令」、整
相のための出発位置への起動、「制御モータコンビュー
ク10aへの命令」、送り方向における整相およびサブ
プログラム「円周方向における整相子に関してのみ図解
しである。
第13図は別のフローチャートで、本質的に次のノ′ロ
グラム部分からなるステップモータ制御コンピュータ(
log )におけるプログラム経過を図解する図である
。即ち、 制御コンピュータ(13)の指令待ち、指令の解読。
第14図ないし第15図と関連しておって詳述する命令
実行プログラムへの分岐、 状態報告もしくはメツセージ。
第14図には、「整相のための出発位置への起動」プロ
グラムがフローチャートで示されており、このプログラ
ムにおいては次のようなプロセスが含まれる。
モータ位置が整相のための出発位置より大きいかまたは
小さいかに関する質問、 モータの順/逆回転命令(第1a図の10Bと10b間
におけろ順/逆回転導体)、目標位置に達するまで、ス
テップモータに導体96(第1a図)を介しステップモ
ータクロックの供給、および 状態報告。
第15図にはサブプログラム「送り方向における整相」
がフローチャートどして示されている。このプログラム
の経過に関しては第9図と関連してアナログ/ディジタ
ル交換器Ic6の読出しまで既に説明1−だ。なお第1
5図の上半分を参照されたい。
別のプログラム部分は第15図の下側の部分に示されて
おり、このプログラム部分に関しては第5a図および第
5b図と関連し以下に説明する。
第5a図の軌跡、例えば第1番の軌跡が掃引されると、
この凹みの軌跡の測定信号が積分的に求められて、第9
図のアナログ/ディジタル交換器■C6でディジタル化
され、そして、以降[0ATA −N−1,jレジスタ
と称する計算レジスタに書込まれる。
ステップモータはモータ制御コンピュータ(10a)か
ら個別ステップ、例えば第5a図の第2番目の軌跡を掃
引するための・ξルスを受ける。この軌跡の場合には、
第1番目の軌跡に対して行われたのと同じ命令ステンゾ
シーケンスが実行され、対応の測定値がDATA −N
Jと称する別の計算レジスタに格納される。これら2っ
の格納された測定値は互いに比較される。
「DATA −NJレジスタの内容が「DATA−N−
IJレジスタの内容よりも小さい場合には、データー 
N V 、) スpの内容がデーターN=1  レジス
タの内容より小さくなるまで前述の過程が繰返される。
この条件が満されると、状態報知即ち送り方向において
整相ないし位置整合がなされたというメツセージが制御
コンピュータ(13)K送られ、データーN−1の内容
は別のレジスタ「彫刻開始位置」に転送される。ステッ
プモータのこの計数器状態は次に行われる彫刻のための
軸方向変位のための基準値のスキャナかう得うれる信号
の最大値の位置に対応する。
第16図には、制御コンピュータ(13)のサブプログ
ラム「円周方向整相」が示されている。このプログラム
部分については既に第11図と関連して説明した。した
がって第16図にはさらに明確を記するために逐次実行
される個々のステップを示した。
本発明は電子ビームを用いての印刷版もしくは版型の彫
刻に限定されるものではない。他の公知の彫刻方式例え
ば電気機械的またはレーザ彫刻など彫刻される凹みの形
状が本質的に同じである彫刻にも適用可能である。また
測定装置として、第1図もしくは第1a図の実施例と関
連して述べた電子ビームならびにリング状の絞りおよび
測定抵抗を使用することは必ずしも必須要件ではなく、
他の測定装置例えば本質的に第5図に示したような信号
変化を有する対応の測定信号が彫刻された凹みから得ら
れろ光学的測定装置を用いることも可能である。重要な
のは、測定軌跡内に最大値を検出できることまたは1つ
の凹みの軌跡内のギャップ後に第1番目の凹みを検出で
きろことである。このことは、凹みの縁、凹みの中心ま
たは両者を測定することにより実現できる。この目的に
は、例えば、対応の分解能を有する光学的、容量性また
は誘導性の無接触センサも同様に適している。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の方法を実施するための装置の構成を略
示する図、第1a図は第1図に示した装置の構成を詳細
に示すブロックダイアグラム、第2図は彫刻された凹み
の軌跡を示す図、第3図は整相されていない状態におけ
る凹みの軌跡の位置関係を示す図、第4図はセンサ信号
の処理を図解する図、第5a図および第5b図は軸方向
における整相のためのセンサ信号の例を示す図、第6図
は円周方向における整相のためのギャップを有する凹み
の軌跡を示す図、第7図は整相のための個々のノξルス
の評価処理を図解する。oルス波形図、第8図は「測定
インピーダンス」を実現するための回路の1実施例を示
す回路図、第9図は最大値検出器の回路例を示す回路略
図、第10図はマーカ検出器の回路構成を示す回路図、
第10a図は第10図の回路の動作を説明するための詳
細なパルス波形図、第11図は整相された位置合せパル
スを得るための回路図、第12図は制御コンピューター
のプログラム経過を説明するためのフローチャートを示
す図、第13図はステップモータ用コンピュータのプロ
グラム経過を図解するフローチャートを示す図、第14
図は整相に際して出発位置に起動するためのプログラム
経過を図解するフローチャートを示す図、第15図は「
送り方向における整相」用サブプログラムを図解するフ
ローチャートを示す図、そして第16図は「円周方向整
相」用のプログラムを図解するフローチャートを示す図
である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、走査されるマークを用いて版胴を位置正確に事後彫
    刻するための方法において、 a)彫刻されていない版型の本来の彫刻前に、円周線上
    に、直列に配列された凹みの列を彫刻して、軸方向送り
    ならびに円周方向における事後彫刻の出発点のための基
    準マークとして用い、 b)事後彫刻のために版胴を彫刻機械に張架した後に、
    該版胴を回転して走査手段を該版胴に対し軸方向に前記
    予め彫刻された凹みの軌跡上を移動して、該走査手段か
    ら得られる信号の最大値を求め、凹み軌跡における最大
    値の発生場所を続いて行なわれる彫刻に際し軸方向送り
    のための基準値として固定保持し、 C)円周線上に前もって彫刻される凹みの列に、凹みが
    存在しない少なくとも1つの画定された間隙を設け、そ
    して d)間隙に続く第1番目の凹みを走査手段で認識して、
    続いて行なわれる事後彫刻に際し円周方向における彫刻
    の開始のための基準位置として評価することを特徴とす
    る版胴な位置正確に事後彫刻する方法。 2、走査されるマークを用いて版胴を位置正確に事後彫
    刻するための方法において、 a)彫刻されていない版型の本来の彫刻前に、円周線上
    忙、直列に配列された凹みの列を彫刻して、軸方向送り
    ならびに円周方向における事後彫刻の出発点のだめの基
    準マークとして用い、 b)事後彫刻のために版胴を彫刻機械に張架した後に、
    該版胴を回転して走査手段を該版胴に対し軸方向に前記
    予め彫刻された凹みの軌跡上を移動して、該走査手段か
    ら得られる信号の最大値を求め、凹み軌跡における最大
    仏の発生場所を続いて行なわれる彫刻に際し軸方向送り
    のための基準値として固定保持し、 C)円周線上に前もって彫刻される凹みの列に、凹みが
    存在しない少なくとも1つの画定された間隙を設け、そ
    して d)間隙に続く第1番目の凹みを走査手段で認識して、
    続いて行なわれる事後彫刻に際し円周方向における彫刻
    の開始のための基準位置として評価し、又、電子ビーム
    を用いて版胴の彫刻を行なうための装置において、円周
    線上に設けられた凹みの列を走査するために電子ビーム
    を測定探子として用い、該凹みにより反射される電子を
    捕えろために、該電子ビームを取囲み絶縁しく配設され
    た絞りを電子捕捉点の領域に設けたことを特徴とする版
    胴を位置正確に事後彫刻する方法。 3、位置固定の基準マークを発生するための装置を備え
    た版型彫刻機械を用い版胴を位置正確に事後彫刻するた
    めの装置において、1)版型彫刻機械により発生され1
    つの間隙を有するようにして円周線上に凹み軌跡として
    直列に配列され凹みを検出するための測定装置と、 2)前記測定装置に接続されて、版胴の軸方向における
    前記凹み軌跡内の凹みの中心位置を求め、事後彫刻のた
    めに軸方向におけろ彫刻装置の起動を決定するための第
    ]の評価回路と、前記測定装置および位置固定の基準マ
    ークを発生するための装置に接続されて、該位置固定の
    マークに対し、前記間隙後に最初に現われる凹みの円周
    方向変位を測定し、以て、円周方向におけろ彫刻の開始
    点を決定するための第2の評価回路とを有すことを特徴
    とする版胴を位置正確に事後彫刻するだめの装置。 4、電子ビーム発生器を凹みの軌跡を検出するだめの測
    定装置として構成し、該電子ビームを取囲んで絶縁して
    配設されろ絞りを、ビーム衝突点近傍に設けて測定回路
    に接続した特許請求の範囲第3項記載の電子ビーム彫刻
    機械を用いて版胴を位置正確に事後彫刻するための装置
JP58206070A 1982-11-04 1983-11-04 版胴を位置正確に事後彫刻する方法および装置 Granted JPS5998847A (ja)

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DE3240654.1 1982-11-04

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AT (1) ATE54272T1 (ja)
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