DE4032918C2 - Vorrichtung zur Beaufschlagung eines Materials mit einem Elektronenstrahl - Google Patents

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Beaufschlagung eines Materials mit einem Elektronenstrahl, die einen innerhalb einer Vakuumkammer angeordneten Strahlerzeuger zur Erzeugung des Elektronenstrahls, mindestens ein ein elektromagnetisches Feld zur Steuerung des Elektronenstrahls erzeugendes Spulensystem, eine dem Material zugewandte Strahl-Austrittsöffnung in der Vakuumkammer und ein elektrisch leitfähiges Führungsrohr aufweist. Das Führungsrohr umschließt den Elektronenstrahl radial und erstreckt sich mindestens über den Bereich des Spulensystems. Das Führungsrohr ist in der Vakuumkammer angeordnet und weist zur Verringerung von induzierten Wirbelströmen Schlitze auf. Durch die Schlitze im Führungsrohr wird die Ausbildung von Wirbelströmen und eine dadurch bedingte Temperaturerhöhung auch bei schnellen Wechselfeldern und hohen Strahlstromdichten weitestgehend vermieden. Außerdem ist das Führungsrohr von außen austauschbar, so daß erforderliche Wartungs- und Reinigungsarbeiten am Führungsrohr einfach und schnell durchgeführt werden können.

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Beaufschlagung eines Materials mit ei­ nem Elektronenstrahl, die einen innerhalb einer Vakuumkammer angeordneten Strahlerzeuger zur Erzeugung des Elektronenstrahls, mindestens ein ein elektro­ magnetisches Feld zur Steuerung des Elektronenstrahls erzeugendes Spulensy­ stem, eine dem Material zugewandte Strahl-Austrittsöffnung in der Vakuumkammer und ein elektrisch leitfähiges Führungsrohr aufweist, das den Elektronenstrahl radial umschließt und sich mindestens über den Bereich des Spulensystems erstreckt.

Eine Vorrichtung zur Beaufschlagung eines Materials mit einem Elektronenstrahl ist aus der EP-A-0 108 376 bekannt, bei der der Elektronenstrahl zur Gravur von Tiefdruckzylindern verwendet wird.

Aus der DE-A-28 40 702 ist eine Vorrichtung zur Qualiätsverbesserung von Stahl­ feinblechen mit Hilfe von Texturwalzen bekannt, bei der auf der Oberfläche der Texturwalze eine Oberflächenstrukturierung mit Hilfe einer intermittierenden Energiestrahlung entlang einer spiralförmigen Bahn durchgeführt wird. Als Ener­ giestrahlung wird ein Laser oder ein Elektronenstrahl verwendet. Konkrete Hinwei­ se zum Aufbau einer solchen Vorrichtung sind jedoch nicht angegeben.

Aus der Druckschrift DE-A-33 28 172 ist bereits ein Elektronenstrahl-Erzeuger be­ kannt, bei dem zur Abschirmung des Elektronenstrahles und zum Schutz der Spulensysteme ein elektrisch leitfähiges Führungsrohr verwendet wird, das den Elektronenstrahl radial umschließt und aus einem beschichteten Kunststoff be­ steht. Das Führungsrohr ist vakuumdicht an Zentrierflanschen befestigt, da es gleichzeitig zur Trennung der Strahlführungskammer in einen Vakuum- und Nicht­ vakuum-Bereich dient. Am Führungsrohr schlagen sich Materialpartikel nieder, die sonst in den Bereich der den Elektronenstrahl steuernden Elemente eindringen würden. Durch das Führungsrohr werden die den Elektronenstrahl steuernden Elemente darüber hinaus auch vor einem zu stark abgelenkten Elektronenstrahl und vor Streuelektronen geschützt.

Der bekannte Elektronenstrahl-Erzeuger ist nicht zur Verwendung in Gravieranla­ gen für Tiefdruckzylinder oder Texturwalzen geeignet. Bei solchen Gravieranlagen wird unter anderem zum Erreichen einer kurzen Unterbrechung des Betriebsablau­ fes gefordert, daß das Führungsrohr möglichst einfach und schnell montierierbar bzw. demontierbar ist, um das Führungsrohr von den niedergeschlagenen Verun­ reinigungen zu befreien oder gegen ein neues Führungsrohr auszutauschen. Der bekannte Elektronenstrahl-Erzeuger hat den Nachteil, daß das Führungsrohr auf­ grund der erforderlichen Vakuumflansche und Dichtungen nicht auf einfache und schnelle Weise ausgetauscht werden kann.

Bei einem Elektronenstrahl-Erzeuger für Gravieranlagen werden zur Steuerung des Elektronenstrahls schnelle Wechselfelder und hohe Strahlstromdichten benö­ tigt. Schnelle Wechselfelder und hohe Strahlstromdichten haben die Ausbildung von Wirbelströmen im Führungsrohr zur Folge, die aufgrund der von ihnen ausge­ henden elektromagnetischen Felder den Elektronenstrahl fehlerhaft beeinflussen können und zu einer Temperaturerhöhung des Führungsrohres führen würden. Der bekannte Elektronenstrahl-Erzeuger hat deshalb den weiteren Nachteil, daß dort keine Maßnahmen zur Verringerung einer Wirbelstrombildung im Führungs­ rohr vorgesehen sind, ohne die beispielsweise die mit dem Führungsrohr kon­ struktiv verbundenen Vakuumdichtungen, bedingt durch die Temperaturerhöhung, beschädigt oder gar zerstört werden können.

Aus der EP-A-0 174 052 ist ein weiterer Elektronenstrahl-Erzeuger mit einem Füh­ rungsrohr für den Elektronenstrahl im Bereich der Spulensysteme bekannt, bei dem bereits Maßnahmen zur Verringerung der Wirbelstrombildung getroffen sind, die darin bestehen, daß die Innenwand des Führungsrohres mit helixförmigen Drahtwindungen versehen ist. Diese Maßnahmen zur Verringerung der Wirbel­ strombildung haben den Nachteil, daß die Herstellung des so konfektionierten Führungsrohres aufwendig und das Führungsrohr nicht auf einfache Weise aus­ tauschbar ist. Ein weiterer Nachteil besteht darin, daß die Drahtwindungen nur Einfluß auf eine Änderungsrichtung der steuernden Magnetfelder nehmen. Dar­ über hinaus sind keine Maßnahmen getroffen, um den Temperaturanstieg auf­ grund der Wirbelstrombildung zu verringern. Es besteht somit die Gefahr, daß die Isolierung der Drahtwindungen beschädigt wird, was zu Betriebsstörungen bei den Gravieranlagen führen würde.

Der im Anspruch 1 angegebenen Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ei­ ne Vorrichtung zur Beaufschlagung eines Materials mit einem Elektronenstrahl derart zu verbessern, daß erforderliche Wartungs- und Reinigungsarbeiten mit ge­ ringem Aufwand durchgeführt werden können, um einen möglichst kontinuierlichen und störungsfreien Betrieb zu gewährleisten.

Vorteilhafte Weiterbildungen und Ausgestaltungen sind in den Unteransprüchen angegeben.

Dadurch, daß das Führungsrohr nicht wie beim Stand der Technik gleichzeitig zur Vakuumabdichtung verwendet wird, sondern als separates Teil gestaltet und von außen austauschbar ist, sind die erforderlichen Wartungs- und Reinigungsarbeiten einfach und in kurzer Zeit durchführbar. Durch die Ausbildung des Führungsrohres mit Schlitzen wird die Ausbildung von Wirbelströmen und eine dadurch bedingte Temperaturerhöhung auch bei schnellen Wechselfeldern und hohen Strahlstrom­ dichten weitestgehend vermieden.

Die Erfindung wird nachfolgend anhand der Fig. 1 bis 12 näher erläutert.

Es zeigen:

Fig. 1 einen Querschnitt durch ein Führungsrohr mit radialorientierten Schlit­ zen sowie einem in Längsrichtung des Führungsrohres durchgehenden Hauptschlitz,

Fig. 2 einen Querschnitt durch ein Führungsrohr mit in radialer Richtung des Führungsrohres schräg verlaufenden Schlitzen,

Fig. 3 eine Seitenansicht eines Führungsrohres mit sich in Richtung einer Rohrlängsachse erstreckenden Schlitzen,

Fig. 4 eine Seitenansicht eines Führungsrohres mit einer sprossenartigen komplexen Schlitzstruktur,

Fig. 5 eine Seitenansicht eines Führungsrohres mit einer ineinander verschach­ telten u-förmigen Schlitzstruktur,

Fig. 6 eine Seitenansicht eines Führungsrohres mit gewunden verlaufenden Schlitzen,

Fig. 7 eine Seitenansicht eines Führungsrohres, das eine aus Doppel-T- Elementen und U-Elementen ausgebildete Schlitzstruktur aufweist,

Fig. 8 eine Seitenansicht eines Führungsrohres mit Schlitzen sowie mit einen Vakuumzutritt erleichternden Ausnehmungen,

Fig. 9 eine Seitenansicht eines Führungsrohres mit einer teilweise schräg zur Rohrlängsachse orientierten sprossenförmigen Schlitzstruktur,

Fig. 10 eine Seitenansicht eines Führungsrohres mit einer komplexen Schlitz­ struktur zur Ausbildung ungleichmäßiger Materialgebiete,

Fig. 11 eine Prinzipdarstellung eines Elektronenstrahl-Erzeugers und

Fig. 12 eine Prinzipdarstellung der wesentlichen Komponenten eines Elektro­ nenstrahl-Erzeugers.

Fig. 1 zeigt ein Führungsrohr (1), das einen sich in Richtung einer Rohrlängsachse (2) erstreckenden Hauptschlitz (3) sowie Schlitze (4) aufweist, die bezüglich der Rohrlängsachse (2) im wesentlichen radial orientiert sind.

Fig. 2 zeigt eine Ausführungsform, in der die Schlitze (4) bezüglich einer radialen Richtung des Führungsrohres (1) schräg orientiert sind. Eine derartige Schlitz­ anordnung ist zwar schwerer zu fertigen, es wird jedoch vermieden, daß sich im wesentlichen in radialer Richtung ausbreitende Streuelektronen das Führungsrohr (1) im Bereich der Schlitze (4) passieren können. Bei einer schräg zur radialen Richtung ausgerichteten Anordnung der Schlitze (4) ist gewährleistet, daß derarti­ ge Streuelektronen auch bei einer radialen Ausbreitungsrichtung auf Material des Führungsrohres (1) treffen. Zur Vermeidung eines Durchtrittes von Streuelektro­ nen ist der Hauptschlitz (3) gleichfalls schräg zur radialen Richtung des Führungs­ rohres (1) angeordnet. Der Hauptschlitz (3) erlaubt eine Ausdehnung bzw. ein Zu­ sammenziehen des Führungsrohres (1) bei thermischen Veränderungen und ver­ meidet somit die Beschädigung eines das Führungsrohr (1) umhüllenden Isolier­ materials (5), das beispielsweise als Keramikrohr ausgebildet ist.

In Fig. 3 ist eine Ausführungsform dargestellt, bei der die Schlitze (4) gemeinsam mit dem Hauptschlitz (3) in Richtung der Rohrlängsachse (2) orientiert sind. Die Enden (6, 7) der Schlitze (4) weisen zu Randbegrenzungen (8, 9) Abstände auf, die eine Mindeststabilität des Führungsrohres (1) gewährleisten.

Fig. 4 zeigt eine Ausführungsform, in der das Führungsrohr (1) mit einer spros­ senartigen Schlitzstruktur versehen ist. Bei der Schlitzstruktur sind die Schlitze (4) aus sich in Richtung der Rohrlängsachse (2) erstreckenden Längsschlitzen (10) sowie aus im wesentlichen in Umfangsrichtung (11) orientierten Querschlitzen (12) ausgebildet. Die Querschlitze (12) sind jeweils sprossenförmig mit einem der Längsschlitze (10) verbunden und zur Ausbildung von kleinen Umfangsbereichen des Führungsrohres (1) ineinander verschachtelt.

Fig. 5 zeigt eine Ausführungsform mit u-förmigen Schlitzen (4), die sich mit ihren Seitenschenkeln (13) in Richtung der Rohrlängsachse (2) und mit jeweils einem die Seitenschenkel (13) miteinander verbindenden Querschlitz (14) im wesentli­ chen in Umfangsrichtung (11) erstrecken. Die Seitenschenkel (13) der Schlitze (4) greifen bei dieser Anordnung jeweils gabelförmig ineinander ein.

Fig. 6 zeigt eine Ausführungsform, bei der in Umfangsrichtung (11) rechteck­ schwingungsförmig verlaufende Schlitze (4) vorgesehen sind.

In Fig. 7 ist eine Schlitzstruktur dargestellt, bei der die Schlitze (4) aus Doppel-T- Elementen (15) sowie U-Elementen (16) ausgebildet sind.

Das Führungsrohr (1) gemäß Fig. 8 weist neben den Schlitzen (4) in einem den Schlitzen (4) abgewandten Bereich seiner Ausdehnung Ausnehmungen (17) auf, die bei Evakuierung des Führungsrohres (1) das Absaugen von innerhalb des Führungsrohres (1) befindlichen Partikel erleichtern.

In Fig. 9 ist ein Führungsrohr (1) dargestellt, das eine sprossenartige Schlitz­ struktur mit sich im wesentlichen schräg zur Rohrlängsachse (2) erstreckenden Diagonalschlitzen (18) sowie sprossenartig angeordneten Querschützen (12) auf­ weist.

In Fig. 10 ist eine komplexe Schlitzstruktur dargestellt, mit der unregelmäßig ge­ formte Umfangsbereiche des Führungsrohres (1) erzeugt werden.

Fig. 11 zeigt den prinzipiellen Aufbau eines Elektronenstrahl-Erzeugers (19) in ei­ ner nicht näher dargestellten Gravieranlage zur Beaufschlagung eines Materials (20) mit einem Elektronenstrahl (21). Der Elektronenstrahl (21) erzeugt dabei in einem beispielsweise als Oberfläche einer Texturwalze (22) ausgebildeten Mate­ rial (20) eine Ausnehmung (23). Statt der Texturwalze (22), die zur Oberflächen­ strukturierung von Blechen verwendet wird, kann mit dem Elektronenstrahl (21) beispielsweise auch die Oberfläche eines Tiefdruckzylinders oder ein anderes Material (20) bearbeitet werden.

Der Elektronenstrahl-Erzeuger (19) weist eine dem Material (20) zugewandte Strahl-Austrittsöffnung (24) auf. Innerhalb des Elektronenstrahl-Erzeugers (19) ist ein Fokussierung-System (25) angeordnet, das im wesentlichen als eine statische Linse (26) ausgebildet ist. Im Bereich der dem Elektronenstrahl (21) zugewandten Begrenzung der statischen Linse (26) ist eine dynamische Linse (27) vorgesehen. Die statische Linse (26) und die dynamische Linse (27) sind jeweils aus elektro­ magnetische Felder generierenden Spulen aufgebaut. Der Elektronenstrahl- Erzeuger (19) weist des weiteren eine erste Zoomlinse (28) sowie eine zweite Zoomlinse (29) auf. Die Zoomlinsen (28, 29) bilden ein Schärfeneinstellungs- System (30). Im Bereich der dem Elektronenstrahl (21) zugewandten Begrenzung der ersten Zoomlinse (28) ist eine dynamische Linse (31) angeordnet.

Fig. 12 zeigt die wesentlichen Komponenten des Elektronenstrahl-Erzeugers (19) sowie einer an den Elektronenstrahl-Erzeuger (19) angeschlossenen Vakuum­ kammer (32) zur Aufnahme des Materials (20). Das Material (20) ist im Innenraum (33) der Vakuumkammer (32) angeordnet. Der Elektronenstrahl-Erzeuger (19) besteht im wesentlichen aus einem Strahlgenerator (34), Vakuumpumpen (35, 36), einer den Strahlgenerator (34) sowie das Schärfeneinstellungs-System (30) auf­ nehmenden Hauptkammer (37) und aus einer das Fokussierungs-System (25) aufnehmenden Zwischenkammer (38). Die Hauptkammer (37) und die Zwischen­ kammer (38) sind von einer Vakuumdrossel (39) getrennt, die zum Durchlaß des Elektronenstrahles (21) eine Ausnehmung (40) aufweist.

Der Strahlgenerator (34) besteht im wesentlichen aus einer Kathode (41), einem Wehneltzylinder (42) sowie einer Anode (43). Im Bereich der Anode (43) ist ein den Elektronenstrahl (21) bündelnder Anodenzentrierer (44) angeordnet. In Aus­ breitungsrichtung (45) des Elektronenstrahles (21) ist hinter der Anode (43) ein Folgezentrierer (46) angeordnet, der gleichfalls eine Bündelung des Elektronen­ strahles (21) vornimmt und Streuverluste vermeidet. Die Kathode (41) ist mit einer nicht dargestellten Hochspannungseinheit und mit einer ebenfalls nicht dargestell­ ten Heizstromversorgung verbunden. Der Wehneltzylinder (42) wird von einem nicht gezeigten Spannungsgenerator gespeist. Im Bereich der Anode (43) ist ne­ ben der den Anodenzentrierer (44) ausbildenden Zentrierspule eine Ionenfalle vorgesehen, die im Bereich der Anode (43) auftretende Ionen aus dem Bereich des Elektronenstrahles (21) ableitet.

Das Schärfeneinstellungs-System (30) besteht aus in Ausbreitungsrichtung (45) hintereinander angeordneten Zoomlinsen (28, 29). Im Bereich der ersten Zoomlin­ se (28) befindet sich zusätzlich eine dynamische Linse (31). Mit Hilfe der Vakuum­ pumpen (35, 36) wird das Vakuum in der Hauptkammer (37) und der Zwischen­ kammer (38) aufrechterhalten. In der Zwischenkammer (38) ist zwischen einer Wechselblende (48) und dem Fokussierungs-System (25) ein Zentrierer (49) an­ geordnet, der Streuverluste des Elektronenstrahles (21) vermeidet. Zwischen der Wechselblende (48) und einer im Bereich der Strahl-Austrittsöffnung (24) ange­ ordneten Düse (50) erstreckt sich das Führungsrohr (1). Das Führungsrohr (1) ist mit seiner Rohrlängsachse (2) im wesentlichen in Richtung der Ausbreitungsrich­ tung (45) angeordnet.

Die Schlitze (4) im Führungsrohr (1) können durch unterschiedliche Verfahren hergestellt werden. Zur Ausbildung von dünnen Schlitzen hat sich jedoch insbe­ sondere das Verfahren der Drahterosion bewährt. Bei einer radialen Orientierung der Schlitze (4) ist es bei diesem Herstellungsverfahren möglich, jeweils zwei be­ züglich der Rohrlängsachse (2) gegenüberliegende Schlitze (4) in einem Arbeits­ gang herzustellen. Grundsätzlich sind jedoch auch mechanische Bearbeitungen oder eine Erzeugung der Schlitze (4) mit Hilfe von energiereicher Strahlung denk­ bar.

Zur Erzeugung einer Oberflächenstruktur im Material (20) wird in den Elektronen­ strahl-Erzeuger (19) das Führungsrohr (1) eingesetzt. Während des Betriebes des Elektronenstrahl-Erzeugers (19) dringen vom Material (20) verdampfende oder herausgeschleuderte Partikel durch die Düse (50) in den Elektronenstrahl-Erzeu­ ger (19) vor. Diese eindringenden Partikel schlagen sich am Führungsrohr (1) nie­ der und können nicht in den Bereich des Fokussierungs-Systems (25) bzw. des Zentrierers (49) gelangen. Darüber hinaus werden das Fokussierungs-System (25) sowie der Zentrierer (49) bei Fehlablenkungen des Elektronenstrahles (21) vor Beschädigungen geschützt. Grundsätzlich ist es jedoch auch möglich, bei ei­ ner langen Ausbildung des Führungsrohres (1) eine Erstreckung in eine der Aus­ breitungsrichtung (45) entgegengesetzte Richtung über die Wechselblende (48) hinaus vorzusehen und das Führungsrohr (1) mit einer sich beispielsweise über den gesamten Bereich der Zwischenkammer (38) erstreckenden Ausdehnung zu versehen. Gleichfalls ist es denkbar, das Führungsrohr (1) sich bis in den Bereich der Hauptkammer (37) hineinerstrecken zu fassen oder in Ausbreitungsrichtung (45) mehrere Führungsrohre (1) hintereinander anzuordnen.

Die Auswechselung eines verschmutzten Führungsrohres (1) kann beispielseise vom Innenraum (33) aus nach einem Ausbau der Düse (50) erfolgen. Grundsätz­ lich ist es jedoch auch denkbar, das Führungsrohr (1) über im seitlichen Bereich des Elektronenstrahl-Erzeugers (19) angeordnete Wartungsklappen einzuführen und zu entnehmen.

Claims (18)

1. Vorrichtung zur Beaufschlagung eines Materials mit einem Elektronenstrahl, die einen innerhalb einer Vakuumkammer angeordneten Strahlerzeuger zur Erzeugung des Elektronenstrahls, mindestens ein ein elektromagnetisches Feld zur Steuerung des Elektronenstrahls erzeugendes Spulensystem, eine dem Material zugewandte Strahl-Austrittsöffnung in der Vakuumkammer und ein elektrisch leitfähiges Führungsrohr aufweist, das den Elektronenstrahl ra­ dial umschließt und sich mindestens über den Bereich des Spulensystems er­ streckt, dadurch gekennzeichnet, daß das Führungsrohr (1) in der Vakuum­ kammer (37; 38) angeordnet ist und daß das Führungsrohr (1) zur Verringe­ rung von induzierten Wirbelströmen mindestens einen Schlitz (3; 4) aufweist.

2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Führungsrohr (1) aus einem nichtmagnetischen Material besteht.

3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Füh­ rungsrohr (1) aus einem wärmebeständigen Material besteht.

4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Führungsrohr (1) mindestens bereichsweise aus Tantal besteht.

5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Schlitz (4) mindestens bereichsweise quer zu einer Rohrlängsachse (2) des Führungsrohres (1) angeordnet ist.

6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß sich der Schlitz (4) mindestens bereichsweise parallel zur Rohrlängsachse (2) des Führungsrohres (1) erstreckt.

7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß sich der Schlitz (4) mindestens bereichsweise als ein Diagonalschlitz (18) schräg zur Umfangsrichtung (11) erstreckt.

8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Schlitze (4) jeweils aus sich in Richtung der Rohrlängsachse (2) er­ streckenden Längsschlitzen (10) sowie in Richtung der Umfangsrichtung (11) orientierten Querschlitzen (12) ausgebildet sind und die Querschlitze (12) je­ weils sprossenartig in jeweils einen der Längsschlitze (10) übergeleitet sind.

9. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekenn­ zeichnet, daß mindestens zwei der Schlitze (4) u-förmig ausgebildet sind und ineinander verschachtelte Seitenschenkel (13) aufweisen.

10. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekenn­ zeichnet, daß sich mindestens einer der Schlitze (4) in einem rechteckförmigen Verlauf in Umfangsrichtung (11) erstreckt.

11. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekenn­ zeichnet, daß mindestens einer der Schlitze (4) als ein Doppel-T-Element (15) und mindestens ein anderer der Schlitze (4) als ein U-Element (16) ausgebildet sind, die eine komplexe Schlitzstruktur generierend angeordnet sind.

12. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekenn­ zeichnet, daß von einer komplexen Schlitzstruktur unterschiedlich große Um­ fangsgebiete des Führungsrohres (1) eingegrenzt sind.

13. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das Führungsrohr (1) in einem den Schlitzen (4) abgewandten Bereich seiner Ausdehnung mit einer eine Absaugung von Materialpartikeln erleichternden Ausnehmung (17) versehen ist.

14. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekenn­ zeichnet, daß sich das Führungsrohr (1) in einer Ausbreitungsrichtung (45) des Elektronenstrahles (21) ausgehend von einer Wechselblende (48) bis in den Bereich der Strahl-Austrittsöffnung (24) erstreckt.

15. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß das Führungs­ rohr (1) im Bereich der Strahl-Austrittsöffnung (24) einer Düse (50) zugewandt angeordnet ist.

16. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekenn­ zeichnet, daß sich mindestens einer der Schlitze (4) im wesentlichen radial zur Rohrlängsachse (2) erstreckt.

17. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekenn­ zeichnet, daß sich mindestens einer der Schlitze (4) im wesentlichen schräg zu einer radialen Richtung des Führungsrohres (1) erstreckt.

18. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekenn­ zeichnet, daß im Bereich des Führungsrohres (1) ein in Richtung der Rohr­ längsachse (2) orientierte Randbegrenzungen (8, 9) miteinander verbindender Hauptschlitz (3) angeordnet ist.