DE4032918A1 - Verfahren und vorrichtung zur abschirmung eines elektronenstrahles - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Beaufschlagung eines Materials mit einem Elektronenstrahl, bei dem der Elektronenstrahl in einem Strahlgene­ rator erzeugt und entlang seines Ausbreitungsweges von mindestens einem elektromagnetischen Feld mit im wesentlichen quer zum Ausbreitungsweg ausgerichteten Kräften gesteuert wird.

Die Erfindung betrifft darüber hinaus eine Vorrichtung zur Beaufschlagung eines Materials mit einem Elektronenstrahl, die einen den Elektronenstrahl erzeugenden Strahlgenerator, mindestens eine den Elektronenstrahl steu­ ernde elektrische Spule sowie eine dem Material zugewandt angeordnete Austrittsöffnung aufweist.

Eine Vorrichtung zur Beaufschlagung eines Materials mit einem Elektronen­ strahl ist aus der EP-A-01 08 376 bekannt. Der Elektronenstrahl wird bei der Vorrichtung gemäß dieser Druckschrift zur Gravur von Druckzylindern verwendet, die mit Vertiefungen zur Aufnahme von Farben versehen werden.

Aus der DE-A-28 40 702 sind ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Qua­ litätsverbesserung von Stahlfeinblechen mit Hilfe von Texturwalzen bekannt. In dieser Druckschrift ist angegeben, daß auf der Oberfläche der Texturwalze eine Oberflächenstrukturierung mit Hilfe einer intermittie­ renden Energiestrahlung entlang einer spiralförmigen Bahn erfolgt. Insbesondere wird angegeben, daß als Energiestrahlung ein Laserstrahl verwendet werden kann. Es wird jedoch auch darauf hingewiesen, daß grundsätzlich ein Elektronenstrahl verwendbar ist. Konkrete Hinweise zum Ablauf eines Verfahrens unter Verwendung eines Elektronenstrahles oder zum Aufbau einer dieses Verfahren anwendenden Vorrichtung werden jedoch nicht gegeben.

Aus der EP-A-01 19 182 ist es bekannt, eine Walzenoberfläche mit Hilfe einer Laserstrahlung oder einer Elektronenstrahlung zu beaufschlagen. Mit Hilfe dieser Strahlung wird eine spiralförmige Bahn im Bereich der Walzen erzeugt. Insbesondere ist hier daran gedacht, in den Bereich der Strahlen­ beaufschlagung ein Gas, beispielsweise Sauerstoff, zu blasen. Durch den Sauerstoffzutritt erfolgt im Bereich der Strahlenbeaufschlagung eine Oxi­ dierung des Walzenmetalles. Es wird dadurch die Ausbildung eines Krater­ walles, der eine von der Strahlung erzeugte Ausnehmung umschließt, weit­ gehend vermieden, da das verdampfende oder im flüssigen Zustand aus der Ausnehmung herausgeschleuderte Material sehr schnell mit dem Sauerstoff reagiert.

Die bekannten Vorrichtungen zur Erzeugung und Steuerung des Elektro­ nenstrahles weisen jedoch im Betrieb noch einige Nachteile auf. Zum einen besteht die Gefahr, daß Spulen, die zur Steuerung des Elektronenstrahles verwendet werden, bei unbeabsichtigten größeren Ablenkungen des Elek­ tronenstrahles von diesem getroffen werden und Beschädigungen erleiden. Darüber hinaus ist es auch bei einem normalen Betrieb der Vorrichtung möglich, daß die Spulen einer Beaufschlagung durch Streuelektronen aus­ gesetzt sind. Ein weiterer Nachteil der bekannten Vorrichtung besteht darin, daß aus dem zu beaufschlagenden Material verdampfende oder herausspritzende Partikel, die durch eine dem zu beaufschlagenden Mate­ rial zugewandte Austrittsöffnung in den Innenraum des Strahlgenerators gelangen und dort zu Verunreinigungen führen, eine Beeinträchtigung der Funktionssicherheit zur Folge haben. Eine Reinigung der Strahleinrichtung ist umständlich und nur mit erheblichem Zeitaufwand möglich. Die aufwen­ dige Wartung hat darüber hinaus nicht unerhebliche Produktionsunterbre­ chungen zur Folge.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, ein Verfahren der ein­ leitend genannten Art so zu verbessern, daß erforderliche Wartungs- und Reinigungsarbeiten mit geringem Aufwand durchgeführt werden können.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß der Elektronen­ strahl mindestens entlang eines Teiles seines Ausbreitungsweges von einem Führungsrohr radial umschlossen ist.

Weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Vorrichtung der einleitend genannten Art so zu verbessern, daß in einem der Austritts­ öffnung zugewandten Bereich angeordnete Bauelemente weitgehend vor Verunreinigungen geschützt sind.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß mindestens in einem der Austrittsöffnung zugewandten Bereich eines Ausbreitungsweges des Elektronenstrahles ein den Elektronenstrahl radial umschließendes Füh­ rungsrohr angeordnet ist.

Durch die Anordnung eines Führungsrohrs wird ein Eindringen von Mate­ rialpartikeln in den Bereich der den Elektronenstrahl steuernden Elemente vermieden. Die Partikel schlagen sich vielmehr am Führungsrohr nieder. Hat sich nach einer entsprechenden Betriebsdauer der Vorrichtung eine größere Menge an Verunreinigungen am Führungsrohr niedergeschlagen, so ist es mit wenigen Handgriffen und mit geringem Zeitaufwand möglich, das Füh­ rungsrohr gegen ein neues Führungsrohr auszutauschen. Es erfolgt somit lediglich eine kurzzeitige Unterbrechung des Produktionsablaufes. Das her­ ausgenommene Führungsrohr kann anschließend gereinigt werden und steht für einen erneuten Einsatz zur Verfügung. Durch das Führungsrohr werden die den Elektronenstrahl steuernden Bauelemente darüber hinaus auch vor einem zu stark abgelenkten Elektronenstrahl, bzw. vor Streuelek­ tronen, geschützt. Insbesondere eine Beschädigung der empfindlichen Spulen kann durch den Einbau des Führungsrohres vermieden werden.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform ist vorgesehen, daß das Füh­ rungsrohr aus einem nichtmagnetischen und wärmebeständigen Material besteht. Die nichtmagnetische Ausbildung vermeidet eine Beeinflussung des Elektronenstrahles durch das Führungsrohr, und die Wärmebestän­ digkeit bietet auch bei einer zu starken Ablenkung des Elektronenstrahles, die eine Beaufschlagung des Führungsrohres durch den Elektronenstrahl zur Folge hat, für einen ausreichenden Zeitraum einen Schutz der Spulen. Als Material für das Führungsrohr kann die nichtmagnetischen und die wärmebeständigen Eigenschaften miteinander kombinierend Tantal vorge­ sehen werden.

Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, daß das Führungsrohr mindestens einen Schlitz aufweist. Der Schlitz behindert die Ausbildung von Wirbelströmen im Bereich des Führungsrohres, die durch die von ihnen ausgehenden elektromagneti­ schen Felder eine Beeinflussung des Elektronenstrahles zur Folge haben würden. Darüber hinaus würden durch die induzierten Wirbelströme Temperaturerhöhungen im Bereich des Führungsrohres resultieren. In Abhängigkeit von konkret vorliegenden Anwendungsspezifikationen können unterschiedliche Schlitzstrukturen vorgesehen werden. Neben Schlitzen, die in Längs- bzw. Umfangsrichtung des Führungsrohres angeord­ net sind, können auch komplexe Schlitzstrukturen vorgesehen sein, die eine Wirbelstromausbildung nur in sehr eng lokalisierten geometrischen Berei­ chen zulassen. Somit können nur äußerst geringe Stromstärken der indu­ zierten Wirbelströme entstehen.

Gemäß einer anderen bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, daß das Führungsrohr zwischen einer dem zu beaufschla­ genden Material zugewandten Düse und einer innerhalb der Strahlein­ richtung vorgesehenen Wechselblende angeordnet ist. Diese Anordnung des Führungsrohres weist den Vorteil auf, daß der besonders durch ein­ dringende Materialpartikel gefährdete Bereich der Strahleinrichtung geschützt wird und gerade in diesem Bereich mit Fehlablenkungen des Elektronenstrahles und damit mit einer Gefährdung der in diesem Bereich vorgesehenen Spulen gerechnet werden muß. Darüber hinaus können die zur Auswechselung des Führungsrohres erforderlichen Wartungsarbeiten in diesem Bereich der Strahleinrichtung ohne wesentlichen Aufwand durchge­ führt werden.

Weitere Einzelheiten der vorliegenden Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden ausführlichen Beschreibung und den beigefügten Zeichnun­ gen, in denen bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung beispielhaft veranschaulicht sind.

In den Zeichnungen zeigen:

Fig. 1 einen Querschnitt durch ein Führungsrohr mit radialorientierten Schlitzen sowie einem in Längsrichtung des Führungsrohres durch­ gehenden Hauptschlitz,

Fig. 2 einen Querschnitt durch ein Führungsrohr mit in radialer Richtung des Führungsrohres schräg verlaufenden Schlitzen,

Fig. 3 eine Seitenansicht eines Führungsrohres mit sich in Richtung einer Rohrlängsachse erstreckenden Schlitzen,

Fig. 4 eine Seitenansicht eines Führungsrohres mit einer sprossenartigen komplexen Schlitzstruktur,

Fig. 5 eine Seitenansicht eines Führungsrohres mit einer ineinander verschachtelten u-förmigen Schlitzstruktur,

Fig. 6 eine Seitenansicht eines Führungsrohres mit gewunden verlaufenden Schlitzen,

Fig. 7 eine Seitenansicht eines Führungsrohres, das eine Schlitzstruktur aufweist, die aus Doppel-T-Elementen sowie U-Elementen ausgebildet ist,

Fig. 8 eine Seitenansicht eines Führungsrohres mit Schlitzen sowie einen Vakuumzutritt erleichternden Ausnehmungen,

Fig. 9 eine Seitenansicht eines Führungsrohres mit einer teilweise schräg zur Rohrlängsachse orientierten sprossenförmigen Schlitzstruktur,

Fig. 10 eine Seitenansicht eines Führungsrohres mit einer komplexen Schlitzstruktur zur Ausbildung ungleichmäßiger Materialgebiete,

Fig. 11 eine Prinzipdarstellung einer ein Material mit einem Elektronen­ strahl beaufschlagenden Strahleinrichtung, die ein langausgebil­ detes Führungsrohr aufweist, das mehrere Spulen abschirmt und

Fig. 12 eine Prinzipdarstellung der wesentlichen Komponenten einer Strahleinrichtung zur Beaufschlagung eines Materials mit einem Elektronenstrahl.

Fig. 1 zeigt ein Führungsrohr (1), das einen sich in Richtung einer Rohrlängsachse (2) erstreckenden Hauptschlitz (3) sowie Schlitze (4) aufweist auf, die bezüglich der Rohrlängsachse (2) im wesentlichen radial orientiert sind.

Fig. 2 zeigt eine Ausführungsform, in der die Schlitze (4) bezüglich einer radialen Richtung des Führungsrohres (1) schräg orientiert sind. Eine derartige Schlitzanordnung ist zwar schwerer zu fertigen, es wird jedoch vermieden, daß sich im wesentlichen in radialer Richtung ausbreitende Streuelektronen das Führungsrohr (1) im Bereich der Schlitze (2) passieren können. Bei einer schräg zur radialen Richtung ausgerichteten Anordnung der Schlitze (4) ist gewährleistet, daß derartige Streuelektronen auch bei einer radialen Ausbreitungsrichtung auf Material des Führungsrohres (1) treffen. Zur Vermeidung eines Durchtrittes von Streuelektronen ist der Hauptschlitz (3) gleichfalls schräg zur radialen Richtung des Führungsrohres (1) angeordnet. Der Hauptschlitz (3) erlaubt eine Ausdehnung bzw. ein Zusammenziehen des Führungsrohres (1) bei thermischen Veränderungen und vermeidet somit eine Beschädigung eines das Führungsrohr (1) umhüllenden Isoliermaterials (5), das beispielsweise als Keramikrohr ausgebildet ist.

In der Fig. 3 ist eine Ausführungsform dargestellt, bei der die Schlitze (4) gemeinsam mit dem Hauptschlitz (3) in Richtung der Rohrlängsachse (2) orientiert sind. Die Enden (6, 7) der Schlitze (4) weisen zu Randbegrenzun­ gen (8, 9) Abstände auf, die eine Mindeststabilität des Führungsrohres (1) gewährleisten.

Fig. 4 zeigt eine Ausführungsform, in der das Führungsrohr (1) mit einer sprossenartigen Schlitzstruktur versehen ist. Bei der Schlitzstruktur sind die Schlitze (4) aus sich in Richtung der Rohrlängsachse (2) erstreckenden Längs­ schlitzen (10) sowie aus im wesentlichen in einer Umfangsrichtung (11) orientierten Querschlitzen (12) ausgebildet. Die Querschlitze (12) sind jeweils sprossenförmig mit einem der Längsschlitze (10) verbunden und zur Ausbildung von kleinen Umfangsbereichen des Führungsrohres (1) ineinan­ der verschachtelt.

Bei einer Ausführungsform gemäß Fig. 5 sind u-förmige Schlitze (4) vorge­ sehen, die sich mit ihren Längsschenkeln (13) in Richtung der Rohrlängs­ achse (2) und mit jeweils einem die Seitenschenkel (13) miteinander verbin­ denden Joch (14) im wesentlichen in Umfangsrichtung (11) erstrecken. Die Seitenschenkel (14) der Schlitze (4) greifen bei dieser Anordnung jeweils gabelförmig ineinander ein.

Fig. 6 zeigt eine Ausführungsform, bei der in Umfangsrichtung (11) mehr­ fach geschwungen verlaufende Schlitze (4) vorgesehen sind. Die geschwun­ genen Verläufe weisen dabei im wesentlichen eine Kontur entsprechend einer Rechteckschwingung auf.

In Fig. 7 ist eine Schlitzstruktur dargestellt, bei der die Schlitze (4) aus Doppel-T-Elementen (15) sowie U-Elementen (16) ausgebildet sind.

Das Führungsrohr (1) gemäß Fig. 8 weist neben den Schlitzen (4) in einem den Schlitzen (4) abgewandten Bereich seiner Ausdehnung Ausnehmungen (17) auf, die bei einer Evakuierung des Führungsrohres (1) ein Absaugen von innerhalb des Führungsrohres (1) befindlichen Partikel erleichtern.

In Fig. 9 ist ein Führungsrohr (1) dargestellt, das eine sprossenartige Schlitzstruktur mit sich im wesentlichen schräg zur Rohrlängsachse (2) erstreckenden Diagonalschlitzen (18) sowie sprossenartig angeordneten Querschlitzen (12) aufweist.

In Fig. 10 ist eine komplexe Schlitzstruktur dargestellt, mit der unregel­ mäßig geformte Umfangsbereiche des Führungsrohres (1) erzeugt werden.

Fig. 11 zeigt den prinzipiellen Aufbau einer Strahleinrichtung (19) zur Beaufschlagung eines Materials (20) mit einem Elektronenstrahl (21). Der Elektronenstrahl (21) erzeugt dabei in einem beispielsweise als Texturwalze (22) ausgebildeten Material (20) eine Ausnehmung (23). Statt der Textur­ walze (22), die zur Oberflächenstrukturierung von Blechen verwendet wird, ist es aber auch möglich, andere Materialien (20) zu bearbeiten. Insbeson­ dere ist auch daran gedacht, einen Druckzylinder für den Tiefdruck zu gra­ vieren. Die Strahleinrichtung (19) weist eine dem Material (20) zugewandte Austrittsöffnung (24) auf. Innerhalb der Strahleinrichtung (19) ist eine Fokussierung (25) angeordnet, die im wesentlichen als eine statische Linse (26) ausgebildet ist. Im Bereich der dem Elektronenstrahl (21) zugewandten Begrenzung der statischen Linse (26) ist eine dynamische Linse (27) vorge­ sehen. Die statische Linse (26) und die dynamische Linse (27) sind jeweils aus elektromagnetische Felder generierenden Spulen aufgebaut. Die Strahlein­ richtung (19) weist des weiteren eine erste Zoomlinse (28) sowie eine zweite Zoomlinse (29) auf. Die Zoomlinsen (28, 29) bilden eine Schärfeneinstellung (30). Im Bereich der dem-Elektronenstrahl (21) zugewandten Begrenzung der ersten Zoomlinse (28) ist eine dynamische Linse (31) angeordnet.

Fig. 12 zeigt die wesentlichen Bauelemente der Strahleinrichtung (19) sowie einer an die Strahleinrichtung (19) angeschlossenen Vakuumkammer (32) zur Aufnahme des Materials (20). Das Material (20) ist im Innenraum (33) der Vakuumkammer (32) angeordnet. Die Strahleinrichtung (19) besteht im wesentlichen aus einem Strahlgenerator (34), Vakuumpumpen (35, 36), einer den Strahlgenerator (34) sowie die Schärfeneinstellung (30) aufnehmenden Hauptkammer (37) und aus einer die Fokussierung (25) aufnehmenden Zwischenkammer (38). Die Hauptkammer (37) und die Zwischenkammer (38) sind von einer Vakuumdrossel (39) getrennt, die zum Durchlaß des Elektronenstrahles (21) eine Ausnehmung (40) aufweist.

Der Strahlgenerator (34) besteht im wesentlichen aus einer Kathode (41), einem Wehneltzylinder (42) sowie einer Anode (43). Im Bereich der Anode (43) ist ein den Elektronenstrahl (21) bündelnder Anodenzentrierer (44) angeordnet. In Ausbreitungsrichtung (45) des Elektronenstrahles (21) ist hinter der Anode (43) ein Folgezentrierer (46) angeordnet, der gleichfalls eine Bündelung des Elektronenstrahles (21) vornimmt und Streuverluste vermeidet. Die Kathode (41) ist mit einer Hochspannungseinheit verbunden, die eine Spannung bis zu etwa -50 kV generiert. Ein typischer Wert liegt bei etwa -35 kV. Bei einer derartigen Spannung können im Oberflächenbereich (47) des Materials (20) Ausnehmungen (23) mit einer typischen Tiefe von etwa 7 Mikrometern erzeugt werden. Bei einer Reduktion der Hochspan­ nung auf etwa -25 kV beträgt die typische Tiefe der Ausnehmung (23) etwa 3 bis 4 Mikrometer. Die Kathode (41) ist darüber hinaus mit einer Heizstrom­ versorgung verbunden. Der Wehneltzylinder (42) wird von einem Span­ nungsgenerator gespeist, der gegenüber der an der Kathode (41) anliegen­ den Spannung ein Potential von etwa -1000 Volt erzeugt. Im Bereich der Anode (43) ist neben der den Anodenzentrierer (44) ausbildenden Zentrier­ spule eine Ionenfalle vorgesehen, die im Bereich der Anode (43) auftreten­ den Ionen aus dem Bereich des Elektronenstrahles (21) ableitet. Als Material für die Kathode (41) sind insbesondere Wolframdrähte geeignet.

Die Schärfeneinstellung (30) besteht aus in Ausbreitungsrichtung (45) hintereinander angeordneten Zoomlinsen (28, 29). Eine dynamische Linse (31) ist lediglich im Bereich der ersten Zoomlinse (28) angeordnet. Die zweite Zoomlinse (29) ist dagegen ohne eine dynamische Linse (31) ausge­ bildet. Mit Hilfe der Vakuumpumpen (35, 36) wird das Vakuum im Bereich der Hauptkammer (37) und der Zwischenkammer (38) aufrechterhalten. Insbesondere ist daran gedacht, die Pumpen (35, 36) als Turbomolekular­ pumpen auszubilden. Im Bereich der Zwischenkammer (38) ist zwischen einer Wechselblende (48) und der Fokussierung (25) ein Zentrierer (49) angeordnet, der Streuverluste des Elektronenstrahles (21) vermeidet. Zwischen der Wechselblende (48) und einer im Bereich der Austrittsöffnung (24) angeordneten Düse (50) erstreckt sich das Führungsrohr (1). Das Führungsrohr (1) ist mit seiner Rohrlängsachse (2) im wesentlichen in Richtung der Ausbreitungsrichtung (45) angeordnet.

Die Schlitze (4) im Bereich des Führungsrohres (1) können durch unter­ schiedliche Verfahren hergestellt werden. Zur Ausbildung von dünnen Schlitzen hat sich jedoch insbesondere das Verfahren der Drahterosion bewährt. Bei einer radialen Orientierung der Schlitze (4) ist es bei diesem Herstellungsverfahren möglich, jeweils zwei bezüglich der Rohrlängsachse (2) gegenüberliegende Schlitze (4) in einem Arbeitsgang herzustellen. Grundsätzlich sind jedoch auch mechanische Bearbeitungen oder eine Erzeugung der Schlitze (4) mit Hilfe von energiereicher Strahlung denkbar.

Zur Erzeugung einer Oberflächenstruktur im Bereich des Materials (20) wird in die Strahleinrichtung (19) das Führungsrohr (1) eingesetzt. Während des Betriebes der Strahleinrichtung (19) dringen vom Material (20) verdamp­ fende oder herausgeschleuderte Partikel durch die Düse (50) in den Bereich der Strahleinrichtung (19) vor. Diese eindringenden Partikel schlagen sich am Führungsrohr (1) nieder und können nicht in den Bereich der Fokussie­ rung (25) bzw. des Zentrierers (49) gelangen. Darüber hinaus werden die Fokussierung (25) sowie der Zentrierer (49) bei Fehlablenkungen des Elektronenstrahles (21) vor Beschädigungen geschützt. Grundsätzlich ist es jedoch auch möglich, bei einer langen Ausbildung des Führungsrohres (1) eine Erstreckung in eine der Ausbreitungsrichtung (45) entgegengesetzte Richtung über die Wechselblende (48) hinaus vorzusehen und das Führungs­ rohr (1) mit einer sich beispielsweise über den gesamten Bereich der Zwischenkammer (38) erstreckenden Ausdehnung zu versehen. Gleichfalls ist es denkbar, das Führungsrohr (1) sich bis in den Bereich der Hauptkam­ mer (37) hineinerstrecken zu lassen oder in Ausbreitungsrichtung (45) meh­ rere Führungsrohre (1) hintereinander anzuordnen.

Eine Auswechselung eines verschmutzten Führungsrohres (1) kann beispiels­ weise vom Innenraum (33) aus nach einem Ausbau der Düse (50) erfolgen. Grundsätzlich ist es jedoch auch denkbar, das Führungsrohr (1) über im seit­ lichen Bereich der Strahleinrichtung (19) angeordnete Wartungsklappen einzuführen und zu entnehmen.

Claims (25)

1. Verfahren zur Beaufschlagung eines Materials mit einem Elektronen­ strahl, bei dem der Elektronenstrahl in einem Strahlgenerator erzeugt und entlang eines Ausbreitungsweges von mindestens einem elektro­ magnetischen Feld mit im wesentlichen quer zum Ausbreitungsweg ausgerichteten Kräften gesteuert wird, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektronenstrahl (21) mindestens entlang eines Teiles des Aus­ breitungsweges von einem Führungsrohr (1) radial umschlossen wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens eine das elektromagnetische Feld erzeugende Spule vom Führungsrohr (1) gegen eine Beaufschlagung mit einem abgelenkten Elektronenstrahl (21) geschützt wird.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Ausbildung von induzierten Wirbelströmen in einem elektrisch leitfä­ higen Führungsrohr (1) durch mindestens einen Schlitz (3, 4) einge­ schränkt wird.

4. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Schlitze (4) die Stabilität des Führungsrohres (1) aufrechterhaltend dünn ausgebildet werden.

5. Vorrichtung zur Beaufschlagung eines Materials mit einem Elektronen­ strahl, die einen den Elektronenstrahl erzeugenden Strahlgenerator, mindestens eine den Elektronenstrahl steuernde elektrische Spule sowie eine dem Material zugewandt angeordnete Austrittsöffnung aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens in einem der Austrittsöffnung (24) zugewandten Bereich eines Ausbreitungsweges des Elektronenstrahles (21) ein den Elektronenstrahl (21) radial um­ schließendes Führungsrohr (1) angeordnet ist.

6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Führungsrohr (1) aus einem nichtmagnetischen Material ausgebildet ist.

7. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Führungsrohr (1) aus einem wärmebeständi­ gen Material ausgebildet ist.

8. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Führungsrohr (1) mindestens bereichsweise aus Tantal ausgebildet ist.

9. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Führungsrohr (1) mindestens einen die Ausbildung von Wirbelströmen behindernden Schlitz (4) aufweist.

10. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Schlitz (4) mindestens bereichsweise quer zu einer Rohrlängsachse (2) des Führungsrohres (1) angeordnet ist.

11. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß sich der Schlitz (4) mindestens bereichsweise quer zur Rohrlängsachse (2) in einer Umfangsrichtung (11) des Führungsrohres (1) erstreckt.

12. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß sich der Schlitz (4) mindestens bereichsweise als ein Diagonalschlitz (18) schräg zur Umfangsrichtung (11) erstreckt.

13. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Schlitze (4) jeweils aus sich in Richtung der Rohrlängsachse (2) erstreckenden Längsschlitzen (10) sowie in Richtung der Umfangsrichtung (11) orientierten Querschlitzen (12) ausgebildet sind und die Querschlitze (12) jeweils sprossenartig in jeweils einen der Längsschlitze (10) übergeleitet sind.

14. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens zwei der Schlitze (4) u-förmig ausge­ bildet sind und ineinander verschachtelte Seitenschenkel (13) aufwei­ sen.

15. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß sich mindestens einer der Schlitze (4) in einen geschwungenen Verlauf in Umfangsrichtung (11) erstreckt.

16. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens einer der Schlitze (4) als ein Doppel-T­ Element (15) und mindestens ein anderer der Schlitze (4) als ein U- Element (16) ausgebildet sind, die eine komplexe Schlitzstruktur generierend angeordnet sind.

17. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß von einer komplexen Schlitzstruktur unter­ schiedlich große Umfangsgebiete des Führungsrohres (1) eingegrenzt sind.

18. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß das Führungsrohr (1) in einem den Schlitzen (4) abgewandten Bereich seiner Ausdehnung mit einer eine Absaugung von Materialpartikeln erleichternden Ausnehmung (17) versehen ist.

19. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß sich das Führungsrohr (1) in einer Ausbreitungs­ richtung (45) des Elektronenstrahles (21) ausgehend von einer Wech­ selblende (48) bis in den Bereich der Austrittsöffnung (24) erstreckt.

20. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 19, dadurch gekennzeichnet, daß das Führungsrohr (1) im Bereich der Austritts­ öffnung (24) einer Düse (50) zugewandt angeordnet ist.

21. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 20, dadurch gekennzeichnet, daß sich mindestens einer der Schlitze (4) im wesent­ lichen radial zur Rohrlängsachse (2) erstreckt.

22. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 20, dadurch gekennzeichnet, daß sich mindestens einer der Schlitze (4) im wesent­ lichen schräg zu einer radialen Richtung des Führungsrohres (1) erstreckt.

23. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 22, dadurch gekennzeichnet, daß im Bereich des Führungsrohres (1) ein in Richtung der Rohrlängsachse (2) orientierte Randbegrenzungen (8, 9) miteinan­ der verbindender Hauptschlitz (3) angeordnet ist.

24. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß das Führungsrohr (1) im Bereich einer zur Gravur von Druckwalzen vorgesehenen Strahleinrichtung (19) angeordnet ist.

25. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß das Führungsrohr (1) im Bereich einer Strahlen­ richtung zur Bearbeitung einer zur Oberflächenstrukturierung von Blechen geeigneten Texturwalze (22) angeordnet ist.