JP2001356288A - レーザ描画装置 - Google Patents
レーザ描画装置Info
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- JP2001356288A JP2001356288A JP2000178252A JP2000178252A JP2001356288A JP 2001356288 A JP2001356288 A JP 2001356288A JP 2000178252 A JP2000178252 A JP 2000178252A JP 2000178252 A JP2000178252 A JP 2000178252A JP 2001356288 A JP2001356288 A JP 2001356288A
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- optical system
- scanning
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K5/00—Irradiation devices
- G21K5/10—Irradiation devices with provision for relative movement of beam source and object to be irradiated
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Editing Of Facsimile Originals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】複数の走査光学系を主走査方向に並べたレーザ
描画装置であって、走査光学系の有効走査範囲よりも大
きな描画パターンを切れ目無く描画面に描画できるとと
もに、有効走査範囲よりも小さな描画パターンを複数描
画する多面付けの場合には、各描画パターンの間に切り
代を設けつつ有効走査範囲の全域を利用して描画できる
レーザ描画装置を提供する。 【解決手段】レーザ描画装置１は、被描画体２１が載置
されたＸ方向に移動可能な描画テーブル２０と，ポリゴ
ンミラー５５，６３及びｆθレンズ５６，６４等からな
るとともに水平面に沿ってＸ方向に直交するＹ方向の走
査線Ｓ，Ｓ’を形成する第１，第２走査光学系５０，６
０とを有し、Ｙ方向に移動可能なステージ３２上に第２
走査光学系６０を設置している。そして、第１走査光学
系５０の有効走査範囲に対して第２走査光学系６０の有
効走査範囲の位置を可変させることにより、各種の描画
パターンを描画面に描画する。
描画装置であって、走査光学系の有効走査範囲よりも大
きな描画パターンを切れ目無く描画面に描画できるとと
もに、有効走査範囲よりも小さな描画パターンを複数描
画する多面付けの場合には、各描画パターンの間に切り
代を設けつつ有効走査範囲の全域を利用して描画できる
レーザ描画装置を提供する。 【解決手段】レーザ描画装置１は、被描画体２１が載置
されたＸ方向に移動可能な描画テーブル２０と，ポリゴ
ンミラー５５，６３及びｆθレンズ５６，６４等からな
るとともに水平面に沿ってＸ方向に直交するＹ方向の走
査線Ｓ，Ｓ’を形成する第１，第２走査光学系５０，６
０とを有し、Ｙ方向に移動可能なステージ３２上に第２
走査光学系６０を設置している。そして、第１走査光学
系５０の有効走査範囲に対して第２走査光学系６０の有
効走査範囲の位置を可変させることにより、各種の描画
パターンを描画面に描画する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光源から発
せられるレーザ光を偏向走査して被描画体上に描画パタ
ーンを照射するレーザ描画装置に、関する。
せられるレーザ光を偏向走査して被描画体上に描画パタ
ーンを照射するレーザ描画装置に、関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、プリント基板や半導体素子などの
被描画体に配線などの描画パターンを直接記録するため
に、ダイレクトイメージャやレーザフォトプロッタ等が
使用されている。これらレーザ描画装置は、その光源部
から発せられるレーザ光を変調器で変調して回転多面鏡
で偏向走査することにより、感光材料が付着された基板
の表面に描画パターンを露光する。
被描画体に配線などの描画パターンを直接記録するため
に、ダイレクトイメージャやレーザフォトプロッタ等が
使用されている。これらレーザ描画装置は、その光源部
から発せられるレーザ光を変調器で変調して回転多面鏡
で偏向走査することにより、感光材料が付着された基板
の表面に描画パターンを露光する。
【０００３】近年、需要者の間では、このレーザ描画装
置を使ってより大きな基板に大きな描画パターンを描画
したいとの要望があった。ところが、より広い走査幅を
実現しようとして走査光学系（回転多面鏡及び結像光学
系）を大きく設けると、描画密度が下がるという欠点が
あった。そのため、最近では、複数の走査光学系を備え
たレーザ描画装置が提案されている。この種のレーザ描
画装置は、隣接する走査光学系の有効走査範囲同士が接
する状態で各走査光学系が主走査方向に縦列に配置され
るために、高い描画密度を維持しつつ走査幅を広げるこ
とができる。
置を使ってより大きな基板に大きな描画パターンを描画
したいとの要望があった。ところが、より広い走査幅を
実現しようとして走査光学系（回転多面鏡及び結像光学
系）を大きく設けると、描画密度が下がるという欠点が
あった。そのため、最近では、複数の走査光学系を備え
たレーザ描画装置が提案されている。この種のレーザ描
画装置は、隣接する走査光学系の有効走査範囲同士が接
する状態で各走査光学系が主走査方向に縦列に配置され
るために、高い描画密度を維持しつつ走査幅を広げるこ
とができる。
【０００４】一方、需要者の間では、一定の描画パター
ンを記録した基板を大量生産する場合に、基板１枚１枚
にその描画パターンを繰り返し描画していると非効率的
であるので、１つの大きな基板に複数の描画パターンを
一度に描画し（これを「多面付け」という）、その後の
製造工程においてその基板を描画パターン毎に切り分け
たいとの要望もあった。そこで、上述したような複数の
走査光学系を有するレーザ描画装置において各走査光学
系に対して同じ描画パターンを同時に描画させることに
より、１つの大きな基板に２つの描画パターンを記録す
る場合（２面付け）がある。
ンを記録した基板を大量生産する場合に、基板１枚１枚
にその描画パターンを繰り返し描画していると非効率的
であるので、１つの大きな基板に複数の描画パターンを
一度に描画し（これを「多面付け」という）、その後の
製造工程においてその基板を描画パターン毎に切り分け
たいとの要望もあった。そこで、上述したような複数の
走査光学系を有するレーザ描画装置において各走査光学
系に対して同じ描画パターンを同時に描画させることに
より、１つの大きな基板に２つの描画パターンを記録す
る場合（２面付け）がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た構成のレーザ描画装置においてこのような「２面付
け」を行う場合、隣接する走査光学系の有効走査範囲同
士が接する境界部分に、基板を切り分けるときの切り代
（隙間）を設けなければならないので、各々の走査光学
系は、自己の有効走査範囲における隣接する走査光学系
がある側の端部及びその近傍に、描画を行うことができ
ない。即ち、本来描画が可能である全有効走査範囲のう
ちの一部のみにしか描画を行うことができず、切り代に
相当する部分が無駄となっていた。
た構成のレーザ描画装置においてこのような「２面付
け」を行う場合、隣接する走査光学系の有効走査範囲同
士が接する境界部分に、基板を切り分けるときの切り代
（隙間）を設けなければならないので、各々の走査光学
系は、自己の有効走査範囲における隣接する走査光学系
がある側の端部及びその近傍に、描画を行うことができ
ない。即ち、本来描画が可能である全有効走査範囲のう
ちの一部のみにしか描画を行うことができず、切り代に
相当する部分が無駄となっていた。
【０００６】そこで、本発明の課題は、複数の走査光学
系が主走査方向に並べて配置されているレーザ描画装置
であって、一走査光学系の有効走査範囲よりも大きな描
画パターンを描画するときには、幾つかに分割した描画
パターンを各走査光学系に夫々描画させて切れ目の無い
描画パターンとして描画面に描画させるとともに、一走
査光学系の有効走査範囲以下の大きさの複数の描画パタ
ーンを描画面に描画するいわゆる多面付けのときには、
描画される各描画パターンの間に切り代を設けつつも各
走査光学系の有効走査範囲の全域を利用することができ
るレーザ描画装置を、提供することにある。
系が主走査方向に並べて配置されているレーザ描画装置
であって、一走査光学系の有効走査範囲よりも大きな描
画パターンを描画するときには、幾つかに分割した描画
パターンを各走査光学系に夫々描画させて切れ目の無い
描画パターンとして描画面に描画させるとともに、一走
査光学系の有効走査範囲以下の大きさの複数の描画パタ
ーンを描画面に描画するいわゆる多面付けのときには、
描画される各描画パターンの間に切り代を設けつつも各
走査光学系の有効走査範囲の全域を利用することができ
るレーザ描画装置を、提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の課題を達成するた
めに構成された本発明によるレーザ描画装置は、描画用
のレーザ光を発するレーザ光源と、被描画体が載置され
る描画テーブルと、前記描画テーブルを所定平面内で所
定のＸ方向に移動させるテーブル駆動手段と、前記レー
ザ光源から発したレーザ光を偏向器および結像光学系を
介して走査させ、前記所定平面内で前記Ｘ方向に直交す
るＹ方向に沿った走査線を前記被描画体の描画面に形成
する複数の走査光学系と、少なくとも１つの前記走査光
学系が設置される光学ステージと、前記光学ステージを
前記Ｙ方向に移動させるステージ駆動手段とを備えるこ
とを、特徴とする。
めに構成された本発明によるレーザ描画装置は、描画用
のレーザ光を発するレーザ光源と、被描画体が載置され
る描画テーブルと、前記描画テーブルを所定平面内で所
定のＸ方向に移動させるテーブル駆動手段と、前記レー
ザ光源から発したレーザ光を偏向器および結像光学系を
介して走査させ、前記所定平面内で前記Ｘ方向に直交す
るＹ方向に沿った走査線を前記被描画体の描画面に形成
する複数の走査光学系と、少なくとも１つの前記走査光
学系が設置される光学ステージと、前記光学ステージを
前記Ｙ方向に移動させるステージ駆動手段とを備えるこ
とを、特徴とする。
【０００８】このように構成されると、光学ステージに
設置される走査光学系の有効走査範囲は、描画面上にお
いて他の走査光学系の有効走査範囲に対して接離移動さ
れる。
設置される走査光学系の有効走査範囲は、描画面上にお
いて他の走査光学系の有効走査範囲に対して接離移動さ
れる。
【０００９】従って、走査光学系の有効走査範囲よりも
大きな描画パターンを描画面に描画する場合には、描画
面上において各走査光学系の有効走査範囲が接するよう
に光学ステージを移動させることにより、各走査光学系
の有効走査範囲に収まるように幾つかに分割した描画パ
ターンを各走査光学系に描画させて切れ目の無い描画パ
ターンを描画面上に描画することができる。
大きな描画パターンを描画面に描画する場合には、描画
面上において各走査光学系の有効走査範囲が接するよう
に光学ステージを移動させることにより、各走査光学系
の有効走査範囲に収まるように幾つかに分割した描画パ
ターンを各走査光学系に描画させて切れ目の無い描画パ
ターンを描画面上に描画することができる。
【００１０】また、走査光学系の有効走査範囲以下の大
きさの複数の描画パターンを描画面に描画するいわゆる
多面付けを行う場合には、描画面上において各走査光学
系の有効走査範囲の間が所定の間隔ずつ空くように光学
ステージを移動させることにより、各描画パターンの間
に切り代を設けつつも各走査光学系の有効走査範囲の全
域を利用して各描画パターンを夫々描画面上に描画する
ことができる。
きさの複数の描画パターンを描画面に描画するいわゆる
多面付けを行う場合には、描画面上において各走査光学
系の有効走査範囲の間が所定の間隔ずつ空くように光学
ステージを移動させることにより、各描画パターンの間
に切り代を設けつつも各走査光学系の有効走査範囲の全
域を利用して各描画パターンを夫々描画面上に描画する
ことができる。
【００１１】本発明によるレーザ描画装置は、描画パタ
ーンを描画するための走査光学系を２つ備えていても良
いし、３つ以上備えていても良い。２つの走査光学系か
らなる場合には、一方の走査光学系を固定して他方の走
査光学系のみをＹ方向（主走査方向）に移動できるよう
に光学ステージに設置しても良いし、両方の走査光学系
をＹ方向（主走査方向）に移動できるように光学ステー
ジに夫々設置しても良い。
ーンを描画するための走査光学系を２つ備えていても良
いし、３つ以上備えていても良い。２つの走査光学系か
らなる場合には、一方の走査光学系を固定して他方の走
査光学系のみをＹ方向（主走査方向）に移動できるよう
に光学ステージに設置しても良いし、両方の走査光学系
をＹ方向（主走査方向）に移動できるように光学ステー
ジに夫々設置しても良い。
【００１２】また、これら複数の走査光学系を備えるレ
ーザ描画装置には、光学ステージを移動させるステージ
駆動手段を制御する制御部を、設けることもできる。こ
の場合の制御部は、走査光学系の有効走査範囲よりも大
きな描画パターンを描画面に描画するときには、各走査
光学系の数に応じて描画パターンを分割し、分割した描
画パターンが互いに接続されて切れ目の無い１つの描画
パターンとして描画されるように、ステージ駆動手段を
制御する。また、制御部は、走査光学系の有効走査範囲
以下の大きさの描画パターンを描画面に複数描画する多
面付けのときには、各描画パターンが互いの間に所定の
間隔を空けて描画面に描画されるように、ステージ駆動
手段を制御する。
ーザ描画装置には、光学ステージを移動させるステージ
駆動手段を制御する制御部を、設けることもできる。こ
の場合の制御部は、走査光学系の有効走査範囲よりも大
きな描画パターンを描画面に描画するときには、各走査
光学系の数に応じて描画パターンを分割し、分割した描
画パターンが互いに接続されて切れ目の無い１つの描画
パターンとして描画されるように、ステージ駆動手段を
制御する。また、制御部は、走査光学系の有効走査範囲
以下の大きさの描画パターンを描画面に複数描画する多
面付けのときには、各描画パターンが互いの間に所定の
間隔を空けて描画面に描画されるように、ステージ駆動
手段を制御する。
【００１３】さらに、本発明によるレーザ描画装置は、
１つの走査光学系のみからなっても良いが、この場合、
この走査光学系を光学ステージに設置し、複数の描画パ
ターンを走査光学系に順次描画させるとともに、各描画
毎にＹ方向へ移動させることにより、描画面に全ての描
画パターンを描画することができる。
１つの走査光学系のみからなっても良いが、この場合、
この走査光学系を光学ステージに設置し、複数の描画パ
ターンを走査光学系に順次描画させるとともに、各描画
毎にＹ方向へ移動させることにより、描画面に全ての描
画パターンを描画することができる。
【００１４】また、このように１つの走査光学系のみを
備えるレーザ描画装置にも、光学ステージを移動させる
ステージ駆動手段を制御する制御部を、設けることがで
きる。この場合の制御部は、走査光学系の有効走査範囲
よりも大きな描画パターンを描画面に描画するときに
は、描画パターンを幾つかの描画可能な大きさに分割
し、分割した描画パターンを走査光学系に順次描画させ
る。その際、制御部は、１回の描画によって描画面に描
画される描画パターンが、前回の描画によって描画され
た描画パターンに接して描画されるように、ステージ駆
動手段を制御する。また、制御部は、多面付けのときに
は、１つの描画パターンを描画面に描画させた後に、そ
の描画された描画パターンの隣に切り代として所定の間
隔を空けて別の描画パターンが描画されるように、ステ
ージ駆動手段を制御する。
備えるレーザ描画装置にも、光学ステージを移動させる
ステージ駆動手段を制御する制御部を、設けることがで
きる。この場合の制御部は、走査光学系の有効走査範囲
よりも大きな描画パターンを描画面に描画するときに
は、描画パターンを幾つかの描画可能な大きさに分割
し、分割した描画パターンを走査光学系に順次描画させ
る。その際、制御部は、１回の描画によって描画面に描
画される描画パターンが、前回の描画によって描画され
た描画パターンに接して描画されるように、ステージ駆
動手段を制御する。また、制御部は、多面付けのときに
は、１つの描画パターンを描画面に描画させた後に、そ
の描画された描画パターンの隣に切り代として所定の間
隔を空けて別の描画パターンが描画されるように、ステ
ージ駆動手段を制御する。
【００１５】本発明によるレーザ描画装置において、各
走査光学系が描画すべき描画パターンは、走査光学系の
有効走査範囲内の何れかの箇所にて描画されても良い
が、その描画すべき描画パターンが、各走査光学系の有
効走査範囲の中心部分において描画されることが好まし
い。
走査光学系が描画すべき描画パターンは、走査光学系の
有効走査範囲内の何れかの箇所にて描画されても良い
が、その描画すべき描画パターンが、各走査光学系の有
効走査範囲の中心部分において描画されることが好まし
い。
【００１６】また、複数の走査光学系を備える場合であ
って描画パターンを走査光学系の数に応じて分割すると
き、或いは、１つの走査光学系を備える場合であって描
画パターンを描画回数に応じて分割するときには、分割
した描画パターンがＹ方向において等幅となるように、
分割されることが望ましい。
って描画パターンを走査光学系の数に応じて分割すると
き、或いは、１つの走査光学系を備える場合であって描
画パターンを描画回数に応じて分割するときには、分割
した描画パターンがＹ方向において等幅となるように、
分割されることが望ましい。
【００１７】本発明によるレーザ描画装置では、描画テ
ーブルを駆動するテーブル駆動手段及び光学ステージを
駆動するステージ駆動手段として、例えば、サーボモー
タとボールネジを用いた機構やリニアモータを用いた機
構などを利用することができる。
ーブルを駆動するテーブル駆動手段及び光学ステージを
駆動するステージ駆動手段として、例えば、サーボモー
タとボールネジを用いた機構やリニアモータを用いた機
構などを利用することができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るレーザ描画装
置の実施形態について図面を参照しながら説明する。
置の実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００１９】
【実施形態１】図１は、本発明の第１実施形態によるレ
ーザ描画装置１の全体構成を示す斜視図である。
ーザ描画装置１の全体構成を示す斜視図である。
【００２０】第１実施形態のレーザ描画装置１は、図１
に示すように、基盤１０と、この基盤１０上に図中のＸ
方向に沿って移動可能に設けられた描画テーブル２０
と、基盤１０上に固定された光学台３０と、基盤１０に
固定されたレーザ光源４０と、光学台３０上に設けられ
た第１走査光学系５０と、光学台３０上で上記のＸ方向
と水平面内で直交するＹ方向に移動可能に設けられた第
２走査光学系６０とを、備えている。
に示すように、基盤１０と、この基盤１０上に図中のＸ
方向に沿って移動可能に設けられた描画テーブル２０
と、基盤１０上に固定された光学台３０と、基盤１０に
固定されたレーザ光源４０と、光学台３０上に設けられ
た第１走査光学系５０と、光学台３０上で上記のＸ方向
と水平面内で直交するＹ方向に移動可能に設けられた第
２走査光学系６０とを、備えている。
【００２１】被描画体２１が載置される描画テーブル２
０は、基盤１０上に設けられたレール１１によってガイ
ドされ、図示せぬテーブル駆動手段によりＸ方向に往復
運動する。
０は、基盤１０上に設けられたレール１１によってガイ
ドされ、図示せぬテーブル駆動手段によりＸ方向に往復
運動する。
【００２２】レーザ光源４０から発された描画用のレー
ザ光は、第１及び第２ミラー４１，４２により順に反射
され、Ｙ方向に沿って進行するレーザ光として光学台３
０上のハーフミラー４３に入射し、反射光と透過光とに
分離される。
ザ光は、第１及び第２ミラー４１，４２により順に反射
され、Ｙ方向に沿って進行するレーザ光として光学台３
０上のハーフミラー４３に入射し、反射光と透過光とに
分離される。
【００２３】ハーフミラー４３によって反射されたレー
ザ光は、光学台３０上に配置されるの第１走査光学系５
０へ入射する。第１走査光学系５０に入射したレーザ光
は、音響光学変調素子（ＡＯＭ）５１により描画データ
に従ってオンオフ変調された後、第１乃至第３ミラー５
２〜５４により順に反射されて偏向器であるポリゴンミ
ラー５５に入射される。ポリゴンミラー５５の回転に伴
って偏向走査されたレーザ光は、ｆθレンズ５６を介し
て折返しミラー５７に入射し、描画テーブル２０側に反
射される。折返しミラー５７で反射されたレーザ光は、
コンデンサレンズ５８を介して被描画体２１の描画面上
にスポットを形成する。このスポットは、ポリゴンミラ
ー５５の回転に伴ってＹ方向に走査され、被描画体２１
の描画面上においてＹ方向に沿った走査線Ｓを形成する
（通常、描画面において、Ｘ方向を「副走査方向」と称
し、Ｙ方向を「主走査方向」と称する）。
ザ光は、光学台３０上に配置されるの第１走査光学系５
０へ入射する。第１走査光学系５０に入射したレーザ光
は、音響光学変調素子（ＡＯＭ）５１により描画データ
に従ってオンオフ変調された後、第１乃至第３ミラー５
２〜５４により順に反射されて偏向器であるポリゴンミ
ラー５５に入射される。ポリゴンミラー５５の回転に伴
って偏向走査されたレーザ光は、ｆθレンズ５６を介し
て折返しミラー５７に入射し、描画テーブル２０側に反
射される。折返しミラー５７で反射されたレーザ光は、
コンデンサレンズ５８を介して被描画体２１の描画面上
にスポットを形成する。このスポットは、ポリゴンミラ
ー５５の回転に伴ってＹ方向に走査され、被描画体２１
の描画面上においてＹ方向に沿った走査線Ｓを形成する
（通常、描画面において、Ｘ方向を「副走査方向」と称
し、Ｙ方向を「主走査方向」と称する）。
【００２４】一方、ハーフミラー４３を透過してＹ方向
に沿って進むレーザ光は、光学台３０上のレール３１に
沿ってＹ方向に移動可能な光学ステージ３２上の第５ミ
ラー４６に、入射する。但し、光学ステージ３２上の第
５ミラー４６は、光学台３０上のハーフミラー４３に対
し、Ｘ方向及びＹ方向に直交するＺ方向において異なる
位置に設置されているために、ハーフミラー４３を透過
してＹ方向に沿って進むレーザ光は、第３及び第４ミラ
ー４４，４５によってＺ方向へシフトされて、第５ミラ
ー４６へ入射する。このとき、第４ミラー４５を反射し
たレーザ光は、Ｙ方向に沿って進行するために、光学ス
テージ３２がＹ方向へ移動されることに伴って第５ミラ
ー４６がＹ方向へ平行移動されても、常に第５ミラー４
６へ入射することができる。そして、第５ミラー４６に
よって反射されたレーザ光は、光学ステージ３２上の第
２走査光学系６０へ入射する。
に沿って進むレーザ光は、光学台３０上のレール３１に
沿ってＹ方向に移動可能な光学ステージ３２上の第５ミ
ラー４６に、入射する。但し、光学ステージ３２上の第
５ミラー４６は、光学台３０上のハーフミラー４３に対
し、Ｘ方向及びＹ方向に直交するＺ方向において異なる
位置に設置されているために、ハーフミラー４３を透過
してＹ方向に沿って進むレーザ光は、第３及び第４ミラ
ー４４，４５によってＺ方向へシフトされて、第５ミラ
ー４６へ入射する。このとき、第４ミラー４５を反射し
たレーザ光は、Ｙ方向に沿って進行するために、光学ス
テージ３２がＹ方向へ移動されることに伴って第５ミラ
ー４６がＹ方向へ平行移動されても、常に第５ミラー４
６へ入射することができる。そして、第５ミラー４６に
よって反射されたレーザ光は、光学ステージ３２上の第
２走査光学系６０へ入射する。
【００２５】第２走査光学系６０に入射したレーザ光
は、ＡＯＭ６１により描画データに従ってオンオフ変調
された後、ミラー６２により反射されてポリゴンミラー
６３に入射される。ポリゴンミラー６３の回転に伴って
偏向走査されたレーザ光は、ｆθレンズ６４を介して折
返しミラー６５に入射し、描画テーブル２０側に反射さ
れる。折返しミラー６５で反射されたレーザ光は、コン
デンサレンズ６６を介して被描画体２１の描画面上にス
ポットを形成する。このスポットは、ポリゴンミラー６
３の回転に伴ってＹ方向に走査され、被描画体２１の描
画面上においてＹ方向に沿った走査線Ｓ’を形成する。
は、ＡＯＭ６１により描画データに従ってオンオフ変調
された後、ミラー６２により反射されてポリゴンミラー
６３に入射される。ポリゴンミラー６３の回転に伴って
偏向走査されたレーザ光は、ｆθレンズ６４を介して折
返しミラー６５に入射し、描画テーブル２０側に反射さ
れる。折返しミラー６５で反射されたレーザ光は、コン
デンサレンズ６６を介して被描画体２１の描画面上にス
ポットを形成する。このスポットは、ポリゴンミラー６
３の回転に伴ってＹ方向に走査され、被描画体２１の描
画面上においてＹ方向に沿った走査線Ｓ’を形成する。
【００２６】上記の第２走査光学系６０及び第５ミラー
４６は、図示せぬステージ駆動手段によってレール３１
に沿って往復運動される光学ステージ３２の移動によ
り、全体が一体となった状態で、Ｙ方向に移動する。ま
た、第２走査光学系６０によって被描画体２１の描画面
に形成される走査線Ｓ’は、光学ステージ３２の移動に
応じてＹ方向に平行移動される。
４６は、図示せぬステージ駆動手段によってレール３１
に沿って往復運動される光学ステージ３２の移動によ
り、全体が一体となった状態で、Ｙ方向に移動する。ま
た、第２走査光学系６０によって被描画体２１の描画面
に形成される走査線Ｓ’は、光学ステージ３２の移動に
応じてＹ方向に平行移動される。
【００２７】ところで、第１及び第２走査光学系５０，
６０のコンデンサレンズ５８，６６は、Ｚ方向における
描画面からの高さが互いに等しい位置に、夫々設置され
ている。このため、コンデンサレンズ６６は、光学ステ
ージ３２の移動に伴ってＹ方向に移動されたときに、光
学台３０上のコンデンサレンズ５８に対してＸ方向にお
いてシフトした位置を移動するように、光学ステージ３
２に設置されている。
６０のコンデンサレンズ５８，６６は、Ｚ方向における
描画面からの高さが互いに等しい位置に、夫々設置され
ている。このため、コンデンサレンズ６６は、光学ステ
ージ３２の移動に伴ってＹ方向に移動されたときに、光
学台３０上のコンデンサレンズ５８に対してＸ方向にお
いてシフトした位置を移動するように、光学ステージ３
２に設置されている。
【００２８】図２は、本例のレーザ描画装置１の制御部
を示すブロック図である。この図２に示すように、レー
ザ描画装置１の制御部は、テーブル駆動モータ１０１，
ステージ駆動モータ１０２，レーザ光源４０，ＡＯＭ５
１，第１のポリゴンモータ１０３，ＡＯＭ６１，及び、
第２のポリゴンモータ１０４に接続された制御回路１０
０を備えている。
を示すブロック図である。この図２に示すように、レー
ザ描画装置１の制御部は、テーブル駆動モータ１０１，
ステージ駆動モータ１０２，レーザ光源４０，ＡＯＭ５
１，第１のポリゴンモータ１０３，ＡＯＭ６１，及び、
第２のポリゴンモータ１０４に接続された制御回路１０
０を備えている。
【００２９】制御回路１００は、入力される描画データ
や各種のコマンドに応じて、接続される各装置へ命令を
出力する。そして、制御回路１００からの命令に従っ
て、レーザ光源４０は、描画用のレーザ光を発し、両ポ
リゴンモータ１０３，１０４は、夫々、第１及び第２走
査光学系５０，６０のポリゴンミラー５５，６３を回転
させ、テーブル駆動モータ１０１は、描画テーブル２０
をレール１１に沿ってＸ方向へ移動させる（テーブル駆
動手段に相当）。このとき、ＡＯＭ５１，６１は、制御
回路１００の命令に従って、自己を透過するレーザ光に
対し、描画データに応じたオンオフ変調を行い、描画面
には、描画データに基づくパターンが描画される。
や各種のコマンドに応じて、接続される各装置へ命令を
出力する。そして、制御回路１００からの命令に従っ
て、レーザ光源４０は、描画用のレーザ光を発し、両ポ
リゴンモータ１０３，１０４は、夫々、第１及び第２走
査光学系５０，６０のポリゴンミラー５５，６３を回転
させ、テーブル駆動モータ１０１は、描画テーブル２０
をレール１１に沿ってＸ方向へ移動させる（テーブル駆
動手段に相当）。このとき、ＡＯＭ５１，６１は、制御
回路１００の命令に従って、自己を透過するレーザ光に
対し、描画データに応じたオンオフ変調を行い、描画面
には、描画データに基づくパターンが描画される。
【００３０】また、上述した被描画体２１への描画に先
立って、制御回路１００は、入力された描画データや各
種のコマンドに応じて、描画面における第１走査光学系
５０の描画位置に対する第２走査光学系６０の描画位置
を決定し、ステージ駆動モータ１０２を駆動して光学ス
テージ３２をレール３１に沿ってＹ方向へ移動させ（ス
テージ駆動手段に相当）、これにより、第２走査光学系
６０を所定の位置へ移動させる。
立って、制御回路１００は、入力された描画データや各
種のコマンドに応じて、描画面における第１走査光学系
５０の描画位置に対する第２走査光学系６０の描画位置
を決定し、ステージ駆動モータ１０２を駆動して光学ス
テージ３２をレール３１に沿ってＹ方向へ移動させ（ス
テージ駆動手段に相当）、これにより、第２走査光学系
６０を所定の位置へ移動させる。
【００３１】図３乃至図５は、それら第１及び第２走査
光学系５０，６０の有効走査範囲の位置関係の具体例を
示す説明図である。以下では、被描画体２１の描画面に
走査される描画パターンの大きさによって、場合分けし
て説明する。
光学系５０，６０の有効走査範囲の位置関係の具体例を
示す説明図である。以下では、被描画体２１の描画面に
走査される描画パターンの大きさによって、場合分けし
て説明する。
【００３２】第１に、第１走査光学系５０の有効走査幅
と第２走査光学系６０の有効走査幅とを足し合わせた大
きさの描画パターンを描く場合、制御回路１００は、図
３に示すように、破線枠で示される第１走査光学系５０
の有効走査範囲Ｌ１に対して破線枠で示される第２走査
光学系６０の有効走査範囲Ｌ２が接する様に、第２走査
光学系６０を移動させる。そして、Ｙ方向において等幅
となるように分割した描画パターンを第１及び第２走査
光学系５０，６０に夫々描画させることにより、大きな
描画パターンを切れ目無く描画面に描画することができ
る。
と第２走査光学系６０の有効走査幅とを足し合わせた大
きさの描画パターンを描く場合、制御回路１００は、図
３に示すように、破線枠で示される第１走査光学系５０
の有効走査範囲Ｌ１に対して破線枠で示される第２走査
光学系６０の有効走査範囲Ｌ２が接する様に、第２走査
光学系６０を移動させる。そして、Ｙ方向において等幅
となるように分割した描画パターンを第１及び第２走査
光学系５０，６０に夫々描画させることにより、大きな
描画パターンを切れ目無く描画面に描画することができ
る。
【００３３】第２に、第１走査光学系５０の有効走査幅
以下の大きさの描画パターンを描く場合、制御回路１０
０は、その描画パターンを第１走査光学系５０だけに描
画させることにより、第１走査光学系５０の有効走査範
囲Ｌ１内にその描画パターンを描く。このとき、第２走
査光学系６０は使用されない。但し、描画面上において
描画パターンを描画すべき位置が第１走査光学系５０の
有効走査範囲Ｌ１内に無い場合には、第１走査光学系５
０を使用せずに、適宜移動させた第２走査光学系６０に
よってその描画パターンを描画することができる。
以下の大きさの描画パターンを描く場合、制御回路１０
０は、その描画パターンを第１走査光学系５０だけに描
画させることにより、第１走査光学系５０の有効走査範
囲Ｌ１内にその描画パターンを描く。このとき、第２走
査光学系６０は使用されない。但し、描画面上において
描画パターンを描画すべき位置が第１走査光学系５０の
有効走査範囲Ｌ１内に無い場合には、第１走査光学系５
０を使用せずに、適宜移動させた第２走査光学系６０に
よってその描画パターンを描画することができる。
【００３４】第３に、第１及び第２走査光学系５０，６
０の有効走査幅と同じ大きさの描画パターンを２つ同時
に描く場合（即ち、いわゆる２面付けの場合）、制御回
路１００は、図４に示すように、有効走査範囲Ｌ２が有
効走査範囲Ｌ１に対して所定の間隔ｄを空けて離れる位
置へ、第２走査光学系６０をＹ方向に移動させる。そし
て、同じ図柄（図４では「星」形状）の描画パターンを
第１及び第２走査光学系５０，６０に夫々描画させる。
同じ図柄の２つの描画パターンは、互いの間に所定の間
隔ｄを設けて描画されているので、作業者は、この所定
の間隔ｄを切り代として利用することにより、この被描
画体２１を各描画パターン毎に切り分けることができ
る。
０の有効走査幅と同じ大きさの描画パターンを２つ同時
に描く場合（即ち、いわゆる２面付けの場合）、制御回
路１００は、図４に示すように、有効走査範囲Ｌ２が有
効走査範囲Ｌ１に対して所定の間隔ｄを空けて離れる位
置へ、第２走査光学系６０をＹ方向に移動させる。そし
て、同じ図柄（図４では「星」形状）の描画パターンを
第１及び第２走査光学系５０，６０に夫々描画させる。
同じ図柄の２つの描画パターンは、互いの間に所定の間
隔ｄを設けて描画されているので、作業者は、この所定
の間隔ｄを切り代として利用することにより、この被描
画体２１を各描画パターン毎に切り分けることができ
る。
【００３５】第４に、第１走査光学系５０の有効走査幅
と第２走査光学系６０の有効走査幅とを足し合わせた大
きさよりも若干小さい描画パターンを描く場合、制御回
路１００は、図５の（ａ）及び（ｂ）に示すように、有
効走査範囲Ｌ２が有効走査範囲Ｌ１に対して所定の幅
ｄ’だけ重複する位置へ、第２走査光学系６０をＹ方向
に移動させる。そして、Ｙ方向において等幅となるよう
に分割した描画パターンを第１及び第２走査光学系５
０，６０に夫々描画させることにより、１つの走査光学
系の有効走査範囲よりも大きな描画パターンを切れ目無
く描画面に描画することができる。
と第２走査光学系６０の有効走査幅とを足し合わせた大
きさよりも若干小さい描画パターンを描く場合、制御回
路１００は、図５の（ａ）及び（ｂ）に示すように、有
効走査範囲Ｌ２が有効走査範囲Ｌ１に対して所定の幅
ｄ’だけ重複する位置へ、第２走査光学系６０をＹ方向
に移動させる。そして、Ｙ方向において等幅となるよう
に分割した描画パターンを第１及び第２走査光学系５
０，６０に夫々描画させることにより、１つの走査光学
系の有効走査範囲よりも大きな描画パターンを切れ目無
く描画面に描画することができる。
【００３６】ここで、当該描画パターンを、有効走査範
囲Ｌ１，Ｌ２同士が接した状態（図３に示す状態）にあ
る各走査光学系５０，６０に描画させたとしても、切れ
目のない描画パターンを描画することができる。しか
し、この場合、少なくとも１つの走査光学系によって描
画される描画パターンは、その有効走査範囲における隣
接する走査光学系がある側に偏った位置に描画されるの
で、その描画パターンが描画される際には、走査光学系
における光軸から離れる描画性能の低い部分が利用され
る。
囲Ｌ１，Ｌ２同士が接した状態（図３に示す状態）にあ
る各走査光学系５０，６０に描画させたとしても、切れ
目のない描画パターンを描画することができる。しか
し、この場合、少なくとも１つの走査光学系によって描
画される描画パターンは、その有効走査範囲における隣
接する走査光学系がある側に偏った位置に描画されるの
で、その描画パターンが描画される際には、走査光学系
における光軸から離れる描画性能の低い部分が利用され
る。
【００３７】第４の場合では、両方の走査光学系５０，
６０における光軸に近い描画性能の高い部分ができるだ
け利用されて各描画パターンが夫々描画されるように、
当該描画パターンを均等な幅にて２分割し、有効走査範
囲Ｌ１，Ｌ２の中心部分において各描画パターンを夫々
描画させている。そのため、描画パターンの大きさに応
じて適宜決定される幅にて有効走査範囲Ｌ１，Ｌ２を重
複させ、分割した描画パターンを切れ目の無い描画パタ
ーンとして描画している。
６０における光軸に近い描画性能の高い部分ができるだ
け利用されて各描画パターンが夫々描画されるように、
当該描画パターンを均等な幅にて２分割し、有効走査範
囲Ｌ１，Ｌ２の中心部分において各描画パターンを夫々
描画させている。そのため、描画パターンの大きさに応
じて適宜決定される幅にて有効走査範囲Ｌ１，Ｌ２を重
複させ、分割した描画パターンを切れ目の無い描画パタ
ーンとして描画している。
【００３８】以上に示したように、第１実施形態のレー
ザ描画装置１によると、第１走査光学系５０に対し、第
２走査光学系６０を描画パターンの大きさに応じてＹ方
向に移動させることができるので、１つの走査光学系５
０の有効走査範囲よりも大きな描画パターンであって
も、２つの走査光学系５０，６０の有効走査幅を足し合
わせた大きさ以下の大きさである限り、１つの描画パタ
ーンとして切れ目無く描画することができる。
ザ描画装置１によると、第１走査光学系５０に対し、第
２走査光学系６０を描画パターンの大きさに応じてＹ方
向に移動させることができるので、１つの走査光学系５
０の有効走査範囲よりも大きな描画パターンであって
も、２つの走査光学系５０，６０の有効走査幅を足し合
わせた大きさ以下の大きさである限り、１つの描画パタ
ーンとして切れ目無く描画することができる。
【００３９】また、本例のレーザ描画装置１は、いわゆ
る２面付けの場合には、第２走査光学系６０を、その有
効走査範囲Ｌ２が第１走査光学系５０の有効走査範囲Ｌ
１から所定の間隔ｄだけ離れる位置へ、移動させること
ができる。このため、切り代を設けつつ各走査光学系５
０，６０の有効走査範囲Ｌ１，Ｌ２の全域が利用できる
ので、有効走査範囲同士が接した状態で各走査光学系が
固定されている従来のレーザ描画装置と比較すると、２
面付けの場合における各描画パターンの描画面積をより
多く稼ぐことができる。
る２面付けの場合には、第２走査光学系６０を、その有
効走査範囲Ｌ２が第１走査光学系５０の有効走査範囲Ｌ
１から所定の間隔ｄだけ離れる位置へ、移動させること
ができる。このため、切り代を設けつつ各走査光学系５
０，６０の有効走査範囲Ｌ１，Ｌ２の全域が利用できる
ので、有効走査範囲同士が接した状態で各走査光学系が
固定されている従来のレーザ描画装置と比較すると、２
面付けの場合における各描画パターンの描画面積をより
多く稼ぐことができる。
【００４０】
【実施形態２】第２実施形態のレーザ描画装置２は、第
１実施形態のレーザ描画装置１における第１走査光学系
５０を設けずに、第１実施形態の第１走査光学系５０に
よって描画される描画パターンと第２走査光学系６０に
よって描画される描画パターンとを、Ｙ方向（主走査方
向）に移動可能に設けられた走査光学系７０によって２
回に分けて描画することにより、目的とする描画パター
ンを描画面に形成することを特徴とする。
１実施形態のレーザ描画装置１における第１走査光学系
５０を設けずに、第１実施形態の第１走査光学系５０に
よって描画される描画パターンと第２走査光学系６０に
よって描画される描画パターンとを、Ｙ方向（主走査方
向）に移動可能に設けられた走査光学系７０によって２
回に分けて描画することにより、目的とする描画パター
ンを描画面に形成することを特徴とする。
【００４１】図６は、本発明の第２実施形態によるレー
ザ描画装置２の全体構成を示す斜視図である。また、図
７は、本例のレーザ描画装置２の制御部を示すブロック
図である。
ザ描画装置２の全体構成を示す斜視図である。また、図
７は、本例のレーザ描画装置２の制御部を示すブロック
図である。
【００４２】第２実施形態のレーザ描画装置２は、図６
に示すように、基盤１０と、この基盤１０上に図中のＸ
方向に沿って移動可能に設けられた描画テーブル２０
と、基盤１０上に固定された光学台３０と、光学台３０
に固定されたレーザ光源４０と、光学台３０上で上記の
Ｘ方向と水平面内で直交するＹ方向に移動可能に設けら
れた走査光学系７０とを、備えている。
に示すように、基盤１０と、この基盤１０上に図中のＸ
方向に沿って移動可能に設けられた描画テーブル２０
と、基盤１０上に固定された光学台３０と、光学台３０
に固定されたレーザ光源４０と、光学台３０上で上記の
Ｘ方向と水平面内で直交するＹ方向に移動可能に設けら
れた走査光学系７０とを、備えている。
【００４３】被描画体２１が載置される描画テーブル２
０は、基盤１０上に設けられたレール１１によってガイ
ドされ、図示せぬテーブル駆動手段によりＸ方向に往復
運動する。
０は、基盤１０上に設けられたレール１１によってガイ
ドされ、図示せぬテーブル駆動手段によりＸ方向に往復
運動する。
【００４４】レーザ光源４０から発された描画用のレー
ザ光は、ミラー４１において反射され、Ｙ方向に沿って
進行するレーザ光として光学台３０上に配置される走査
光学系７０へ入射する。
ザ光は、ミラー４１において反射され、Ｙ方向に沿って
進行するレーザ光として光学台３０上に配置される走査
光学系７０へ入射する。
【００４５】走査光学系７０に入射したレーザ光は、Ａ
ＯＭ７１により描画データに従ってオンオフ変調された
後、第１及び第２ミラー７２，７３により順に反射され
てポリゴンミラー７４に入射される。ポリゴンミラー７
４の回転に伴って偏向走査されたレーザ光は、ｆθレン
ズ７５を介して折返しミラー７６に入射し、描画テーブ
ル２０側に反射される。折返しミラー７６で反射された
レーザ光は、コンデンサレンズ７７を介して被描画体２
１の描画面上にスポットを形成する。このスポットは、
ポリゴンミラー７４の回転に伴ってＹ方向に走査され、
被描画体２１の描画面上においてＸ方向に直交するＹ方
向に沿った走査線Ｓ”を形成する。
ＯＭ７１により描画データに従ってオンオフ変調された
後、第１及び第２ミラー７２，７３により順に反射され
てポリゴンミラー７４に入射される。ポリゴンミラー７
４の回転に伴って偏向走査されたレーザ光は、ｆθレン
ズ７５を介して折返しミラー７６に入射し、描画テーブ
ル２０側に反射される。折返しミラー７６で反射された
レーザ光は、コンデンサレンズ７７を介して被描画体２
１の描画面上にスポットを形成する。このスポットは、
ポリゴンミラー７４の回転に伴ってＹ方向に走査され、
被描画体２１の描画面上においてＸ方向に直交するＹ方
向に沿った走査線Ｓ”を形成する。
【００４６】上記の走査光学系７０は、光学台３０のレ
ール３６に沿って移動可能な光学ステージ３７上に設置
され、この光学ステージ３７の移動により、走査光学系
７０全体が一体となった状態で、Ｙ方向に移動する。こ
のとき、ミラー４１を反射したレーザ光は、Ｙ方向に沿
って進行するために、光学ステージ３７がＹ方向へ移動
されることに伴ってＡＯＭ７１がＹ方向へ平行移動され
ても、常にＡＯＭ７１へ入射する。
ール３６に沿って移動可能な光学ステージ３７上に設置
され、この光学ステージ３７の移動により、走査光学系
７０全体が一体となった状態で、Ｙ方向に移動する。こ
のとき、ミラー４１を反射したレーザ光は、Ｙ方向に沿
って進行するために、光学ステージ３７がＹ方向へ移動
されることに伴ってＡＯＭ７１がＹ方向へ平行移動され
ても、常にＡＯＭ７１へ入射する。
【００４７】レーザ描画装置２の制御部は、図７に示す
ように、テーブル駆動モータ１０１，ステージ駆動モー
タ１０２，レーザ光源４０，ポリゴンモータ１０５，及
び、ＡＯＭ７１に接続された制御回路１１０を備えてい
る。
ように、テーブル駆動モータ１０１，ステージ駆動モー
タ１０２，レーザ光源４０，ポリゴンモータ１０５，及
び、ＡＯＭ７１に接続された制御回路１１０を備えてい
る。
【００４８】制御回路１１０は、入力される描画データ
や各種のコマンドに応じて、接続される描画面における
走査光学系７０の描画位置を決定し、ステージ駆動モー
タ１０２を駆動させ（ステージ駆動手段に相当）、走査
光学系７０を所定の位置へ移動させる。
や各種のコマンドに応じて、接続される描画面における
走査光学系７０の描画位置を決定し、ステージ駆動モー
タ１０２を駆動させ（ステージ駆動手段に相当）、走査
光学系７０を所定の位置へ移動させる。
【００４９】そして、制御回路１１０からの命令に従っ
て、レーザ光源４０は、描画用のレーザ光を発し、ポリ
ゴンモータ１０５は、走査光学系７０のポリゴンミラー
７４を回転させ、テーブル駆動モータ１０１は、描画テ
ーブル２０をレール１１に沿ってＸ方向へ移動させる
（テーブル駆動手段に相当）。このとき、ＡＯＭ７１
は、制御回路１１０の命令に従って、自己を透過するレ
ーザ光に対し、描画データに応じたオンオフ変調を行
い、描画面には、描画データに基づくパターンが描画さ
れる。
て、レーザ光源４０は、描画用のレーザ光を発し、ポリ
ゴンモータ１０５は、走査光学系７０のポリゴンミラー
７４を回転させ、テーブル駆動モータ１０１は、描画テ
ーブル２０をレール１１に沿ってＸ方向へ移動させる
（テーブル駆動手段に相当）。このとき、ＡＯＭ７１
は、制御回路１１０の命令に従って、自己を透過するレ
ーザ光に対し、描画データに応じたオンオフ変調を行
い、描画面には、描画データに基づくパターンが描画さ
れる。
【００５０】本例のレーザ描画装置２は、走査光学系７
０の有効走査範囲よりも大きな描画パターンを走査する
場合、又は、いわゆる２面付けにより２つの描画パター
ンを被描画体２１に描画する場合、描画パターンを１回
の描画で描画可能な大きさに分割し、走査光学系７０を
一方の分割描画パターンの中心位置へ移動した後に１回
目の描画を行わせ、続いて他方の分割描画パターンの中
心位置へ移動した後に２回目の描画を行わせ、これによ
り、全ての描画パターンを描画面に描画する。
０の有効走査範囲よりも大きな描画パターンを走査する
場合、又は、いわゆる２面付けにより２つの描画パター
ンを被描画体２１に描画する場合、描画パターンを１回
の描画で描画可能な大きさに分割し、走査光学系７０を
一方の分割描画パターンの中心位置へ移動した後に１回
目の描画を行わせ、続いて他方の分割描画パターンの中
心位置へ移動した後に２回目の描画を行わせ、これによ
り、全ての描画パターンを描画面に描画する。
【００５１】このため、制御回路１１０は、走査光学系
７０の１回目の描画位置と，走査光学系７０の１回目の
描画の後で２回目の描画に移る時に走査光学系７０をＹ
方向へ移動させる距離と、１回目及び２回目の描画にお
いて走査光学系７０に描画させる描画パターンとを、入
力された描画データや各種コマンドによって決定してい
る。
７０の１回目の描画位置と，走査光学系７０の１回目の
描画の後で２回目の描画に移る時に走査光学系７０をＹ
方向へ移動させる距離と、１回目及び２回目の描画にお
いて走査光学系７０に描画させる描画パターンとを、入
力された描画データや各種コマンドによって決定してい
る。
【００５２】具体的には、入力された描画データに基づ
く描画パターンが走査光学系７０の有効走査範囲よりも
大きな描画パターンである場合、制御回路１１０は、そ
の描画パターンをＹ方向において等幅となるように分割
し、走査光学系７０に対し、この分割された個々の描画
パターンを有効走査範囲の中心部分において夫々描画さ
せる。この際、１回目に描画された描画パターンと２回
目に描画される描画パターンが１つの大きな描画パター
ンとして切れ目無く描画面に描画されるように、制御回
路１１０は、１回目の描画と２回目の描画における走査
光学系７０のＹ方向への移動量を調整している。
く描画パターンが走査光学系７０の有効走査範囲よりも
大きな描画パターンである場合、制御回路１１０は、そ
の描画パターンをＹ方向において等幅となるように分割
し、走査光学系７０に対し、この分割された個々の描画
パターンを有効走査範囲の中心部分において夫々描画さ
せる。この際、１回目に描画された描画パターンと２回
目に描画される描画パターンが１つの大きな描画パター
ンとして切れ目無く描画面に描画されるように、制御回
路１１０は、１回目の描画と２回目の描画における走査
光学系７０のＹ方向への移動量を調整している。
【００５３】また、いわゆる２面付けにより２つの描画
パターンを１つの被描画体２１に描画する場合、制御回
路１１０は、走査光学系７０に対し、先ず１つの描画パ
ターンを描画面に描画させた後に、この走査光学系７０
を移動し、その描画パターンの隣にもう１つの描画パタ
ーンを描画させる。このとき、制御回路１１０は、１回
目の描画により描画される描画パターンと２回目の描画
により描画される描画パターンとの間に切り代として所
定の間隔が形成されるように、１回目の描画と２回目の
描画における走査光学系７０のＹ方向への移動量を調整
している。
パターンを１つの被描画体２１に描画する場合、制御回
路１１０は、走査光学系７０に対し、先ず１つの描画パ
ターンを描画面に描画させた後に、この走査光学系７０
を移動し、その描画パターンの隣にもう１つの描画パタ
ーンを描画させる。このとき、制御回路１１０は、１回
目の描画により描画される描画パターンと２回目の描画
により描画される描画パターンとの間に切り代として所
定の間隔が形成されるように、１回目の描画と２回目の
描画における走査光学系７０のＹ方向への移動量を調整
している。
【００５４】なお、走査光学系７０の有効走査範囲より
も小さな描画パターンである場合には、制御回路１１０
は、その描画パターンを１回の描画で描画面に描画す
る。このとき、走査光学系７０を適宜移動させることに
より、所望の描画位置に当該描画パターンを描画するこ
とができる。
も小さな描画パターンである場合には、制御回路１１０
は、その描画パターンを１回の描画で描画面に描画す
る。このとき、走査光学系７０を適宜移動させることに
より、所望の描画位置に当該描画パターンを描画するこ
とができる。
【００５５】以上に示したように、第２実施形態のレー
ザ描画装置２によっても、走査光学系７０の有効走査範
囲よりも大きな描画パターンを、１つの描画パターンと
して切れ目無く描画することができ、また、いわゆる２
面付けの場合であっても、切り代を設けつつ走査光学系
７０の有効走査範囲の全域を無駄なく利用することがで
きる。
ザ描画装置２によっても、走査光学系７０の有効走査範
囲よりも大きな描画パターンを、１つの描画パターンと
して切れ目無く描画することができ、また、いわゆる２
面付けの場合であっても、切り代を設けつつ走査光学系
７０の有効走査範囲の全域を無駄なく利用することがで
きる。
【００５６】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明のレーザ
描画装置によると、複数の走査光学系が主走査方向に並
べて配置されている場合に、一走査光学系の有効走査範
囲よりも大きな描画パターンを描画するときには、幾つ
かに分割した描画パターンを各走査光学系に夫々描画さ
せて切れ目の無い描画パターンを描画面に描画させるこ
とができるとともに、一走査光学系の有効走査範囲以下
の大きさの複数の描画パターンを同時に描画するいわゆ
る多面付けのときには、描画される各描画パターンの間
に切り代を設けつつも各走査光学系の有効走査範囲の全
域を利用することができる。
描画装置によると、複数の走査光学系が主走査方向に並
べて配置されている場合に、一走査光学系の有効走査範
囲よりも大きな描画パターンを描画するときには、幾つ
かに分割した描画パターンを各走査光学系に夫々描画さ
せて切れ目の無い描画パターンを描画面に描画させるこ
とができるとともに、一走査光学系の有効走査範囲以下
の大きさの複数の描画パターンを同時に描画するいわゆ
る多面付けのときには、描画される各描画パターンの間
に切り代を設けつつも各走査光学系の有効走査範囲の全
域を利用することができる。
【図１】 本発明の第１実施形態によるレーザ描画装置
の全体構成を示す斜視図
の全体構成を示す斜視図
【図２】 本例のレーザ描画装置の制御部を示すブロッ
ク図
ク図
【図３】 本例のレーザ描画装置の各走査光学系による
描画位置を示す説明図
描画位置を示す説明図
【図４】 本例のレーザ描画装置の各走査光学系による
描画位置を示す説明図
描画位置を示す説明図
【図５】 本例のレーザ描画装置の各走査光学系による
描画位置を示す説明図
描画位置を示す説明図
【図６】 本発明の第２実施形態によるレーザ描画装置
の全体構成を示す斜視図
の全体構成を示す斜視図
【図７】 本例のレーザ描画装置の制御部を示すブロッ
ク図
ク図
１ レーザ描画装置 ２０ 描画テーブル ２１ 被描画体 ３２ 光学ステージ ４０ レーザ光源 ５０，６０ 走査光学系 ５１，６１ 音響光学変調素子 ５５，６３ ポリゴンミラー ５６，６４ ｆθレンズ ５８，６６ コンデンサレンズ １００ 制御回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０４Ｎ 1/04 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４Ａ ５Ｆ０４６ 1/387 1/12 Ｚ Ｆターム(参考） 2C362 BA49 BA50 BA68 BB37 BB43 BB46 CB47 CB62 CB67 DA04 2H045 AA01 BA26 BA34 BA36 CA63 DA04 2H097 AA03 AB05 CA17 LA09 LA10 5C072 AA03 HA02 HA13 MA01 MB01 RA06 RA20 XA05 5C076 AA19 AA36 BA01 BA02 5F046 BA07 CB02 CB07 CC01 CC15
Claims (10)
- 【請求項１】描画用のレーザ光を発するレーザ光源と、 被描画体が載置される描画テーブルと、 前記描画テーブルを所定平面内で所定のＸ方向に移動さ
せるテーブル駆動手段と、 前記レーザ光源から発せられたレーザ光を偏向器および
結像光学系を介して走査させ、前記所定平面内で前記Ｘ
方向に直交するＹ方向に沿った走査線を前記被描画体の
描画面に形成する複数の走査光学系と、 少なくとも１つの前記走査光学系が設置される光学ステ
ージと、 前記光学ステージを前記Ｙ方向に移動させるステージ駆
動手段とを備えることを特徴とするレーザ描画装置。 - 【請求項２】前記走査光学系の有効走査範囲よりも大き
な描画パターンを前記描画面に描画する場合には、前記
描画パターンを前記走査光学系の数に応じて分割し、分
割した前記各描画パターンを前記各走査光学系に夫々描
画させるとともに、前記各走査光学系が描画する描画パ
ターンが１つの描画パターンとして互いに接続する位置
へ前記光学ステージを移動させるように前記ステージ駆
動手段を制御し、また、前記走査光学系の有効走査範囲
以下の大きさの描画パターンを前記描画面に複数描画す
る場合には、これら描画パターンを前記各走査光学系に
夫々描画させるとともに、前記各描画パターンが互いの
間に所定の間隔を空ける位置へ前記光学ステージを移動
させるように前記ステージ駆動手段を制御する制御部を
更に備えたことを特徴とする請求項１記載のレーザ描画
装置。 - 【請求項３】前記制御部は、前記各走査光学系が描画す
べき描画パターンを、前記各走査光学系の有効走査範囲
の中心部分において夫々描画させることを特徴とする請
求項２記載のレーザ描画装置。 - 【請求項４】前記制御部は、前記走査光学系の有効走査
範囲よりも大きな描画パターンを前記描画面に描画する
場合であって前記描画パターンを分割するときには、分
割した前記各描画パターンが前記Ｙ方向において等幅と
なるように、前記描画パターンを分割することを特徴と
する請求項２又は３記載のレーザ描画装置。 - 【請求項５】前記走査光学系は、２つの走査光学系から
なることを特徴とする請求項１乃至４の何れかに記載の
レーザ描画装置。 - 【請求項６】前記２つの走査光学系のうち、一方の走査
光学系のみが、前記光学ステージに設置されて前記ステ
ージ駆動手段によって前記Ｙ方向へ移動されることを特
徴とする請求項５記載のレーザ描画装置。 - 【請求項７】描画用のレーザ光を発するレーザ光源と、 被描画体が載置される描画テーブルと、 前記描画テーブルを所定平面内で所定のＸ方向に移動さ
せるテーブル駆動手段と、 前記レーザ光源から発せられたレーザ光を偏向器および
結像光学系を介して走査させ、前記所定平面内で前記Ｘ
方向に直交するＹ方向に沿った走査線を前記被描画体の
描画面に形成する走査光学系と、 前記走査光学系が設置される光学ステージと、 前記光学ステージを前記Ｙ方向に移動させるステージ駆
動手段とを備えることを特徴とするレーザ描画装置。 - 【請求項８】前記走査光学系の有効走査範囲よりも大き
な描画パターンを前記描画面に描画する場合には、前記
走査光学系の有効走査範囲に収まる大きさにて前記描画
パターンを幾つかに分割し、分割した前記各描画パター
ンを前記走査光学系に順次描画させるとともに、各描画
毎に前記走査光学系が描画する前記各描画パターンが１
つの描画パターンとして互いに接続する位置へ前記光学
ステージを描画毎に移動させるように前記ステージ駆動
手段を制御し、また、前記走査光学系の有効走査範囲以
下の大きさの描画パターンを前記描画面に複数描画する
場合には、これら描画パターンを前記走査光学系に順次
描画させるとともに、各描画毎に前記走査光学系が描画
する前記各描画パターンが互いの間に所定の間隔を空け
る位置へ前記光学ステージを描画毎に移動させるように
前記ステージ駆動手段を制御する制御部を更に備えたこ
とを特徴とする請求項７記載のレーザ描画装置。 - 【請求項９】前記制御部は、前記走査光学系が描画毎に
描画すべき描画パターンを、前記走査光学系の有効走査
範囲の中心部分において夫々描画させることを特徴とす
る請求項８記載のレーザ描画装置。 - 【請求項１０】前記制御部は、前記走査光学系の有効走
査範囲よりも大きな描画パターンを前記描画面に描画す
る場合であって前記描画パターンを分割するときには、
分割した前記各描画パターンが前記Ｙ方向において等幅
となるように、前記描画パターンを分割することを特徴
とする請求項８又は９記載のレーザ描画装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000178252A JP3670935B2 (ja) | 2000-06-14 | 2000-06-14 | レーザ描画装置 |
| US09/879,940 US6525295B2 (en) | 2000-06-14 | 2001-06-14 | Laser imaging apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000178252A JP3670935B2 (ja) | 2000-06-14 | 2000-06-14 | レーザ描画装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001356288A true JP2001356288A (ja) | 2001-12-26 |
| JP3670935B2 JP3670935B2 (ja) | 2005-07-13 |
Family
ID=18679709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000178252A Expired - Fee Related JP3670935B2 (ja) | 2000-06-14 | 2000-06-14 | レーザ描画装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6525295B2 (ja) |
| JP (1) | JP3670935B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006054459A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 |
| JP2006053325A (ja) * | 2004-08-11 | 2006-02-23 | Pentax Industrial Instruments Co Ltd | 描画装置 |
| JP2020194167A (ja) * | 2015-03-20 | 2020-12-03 | 株式会社ニコン | パターン描画装置 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5184217A (en) * | 1990-08-02 | 1993-02-02 | Doering John W | System for automatically inspecting a flat sheet part |
| JP3193546B2 (ja) | 1993-01-14 | 2001-07-30 | 旭光学工業株式会社 | 反射型走査光学系 |
| US6246204B1 (en) * | 1994-06-27 | 2001-06-12 | Nikon Corporation | Electromagnetic alignment and scanning apparatus |
| US5751436A (en) * | 1996-12-23 | 1998-05-12 | Rocky Mountain Instrument Company | Method and apparatus for cylindrical coordinate laser engraving |
| JP3501605B2 (ja) * | 1996-12-27 | 2004-03-02 | キヤノン株式会社 | 干渉計及び形状測定装置 |
| US6013895A (en) * | 1997-09-30 | 2000-01-11 | Eastman Machine Company | System and method for perforating sheet material |
-
2000
- 2000-06-14 JP JP2000178252A patent/JP3670935B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-06-14 US US09/879,940 patent/US6525295B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006054459A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 |
| JP2006053325A (ja) * | 2004-08-11 | 2006-02-23 | Pentax Industrial Instruments Co Ltd | 描画装置 |
| JP4532202B2 (ja) * | 2004-08-11 | 2010-08-25 | 株式会社オーク製作所 | 描画装置 |
| JP2020194167A (ja) * | 2015-03-20 | 2020-12-03 | 株式会社ニコン | パターン描画装置 |
| JP7074160B2 (ja) | 2015-03-20 | 2022-05-24 | 株式会社ニコン | パターン描画装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6525295B2 (en) | 2003-02-25 |
| US20010054700A1 (en) | 2001-12-27 |
| JP3670935B2 (ja) | 2005-07-13 |
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