JP5004241B2 - 電界放出素子用エミッタの作製方法 - Google Patents
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Description
C. A. Spindt, "Physical Properties of thin-film field emission cathode with molybdenum cones", Journal of applied Physics, vol. 47, (1976) p.5248
Tomoya YOSHIDA, Akiyoshi BABA and Tanemasa ASANO,"Fabrication of Micro Field Emitter Tip Using Ion-Beam Irradiation-Induced Self-Standing of Thin Films",Japanese Journal of Applied Physics,Vol. 44, No.7B,2005,pp.5744-5748.
Tomoya Yoshida, Akiyoshi Baba, and Tanemasa Asano, "Fabrication of gated cold cathode using standing thin film induced by ion-beam bombardment", Journal of Vacuum Science & Technology B 24, No.2, Mar/Apr 2006.
T. Yoshida, C. Yasumuro, M. Nagao, S. Kanemaru, A. Baba, and T. Asano, "Fabrication of Vertical Thin Film FEA Using Ion-Induced Bending Technique", Proceedings of The 14th International Display Workshops (December 5 - 7, 2007) p.2209.
基板上の局所的な部位に、少なくとも周側面の一部が斜面になった犠牲層丘を形成する犠牲層丘形成工程と;
基板上及び犠牲層丘上にエミッタ材層を形成するエミッタ材層形成工程と;
エミッタ材層のパターニングにより、犠牲層丘の斜面に乗っている部分に、先端に電子放出端を有するエミッタ構成用パタンを形成するエミッタ構成用パタン形成工程と;
犠牲層丘を除去し、エミッタ構成用パタンの電子放出端が基板から浮いた片持ち梁構造を作る片持ち梁作製工程と;
片持ち梁構造を基板に垂直な方向に向けて起立させてエミッタとする起立工程と;
を有して成る方法を提案する。
11 犠牲層薄膜
20 犠牲層丘
21 斜面
30 エミッタ材層
31 電子放出端
32 エミッタ構成用パタン
35 エミッタ
40 フォトレジスト
Claims (4)
- 電界放出素子用エミッタの作製方法であって;
基板上の局所的な部位に、少なくとも周側面の一部が斜面になった犠牲層丘を形成する犠牲層丘形成工程と;
上記基板上及び上記犠牲層丘上にエミッタ材層を形成するエミッタ材層形成工程と;
上記エミッタ材層のパターニングにより、上記犠牲層丘の上記斜面に乗っている部分に、先端に電子放出端を有するエミッタ構成用パタンを形成するエミッタ構成用パタン形成工程と;
上記犠牲層丘を除去し、上記エミッタ構成用パタンの上記電子放出端が上記基板から浮いた片持ち梁構造を作る片持ち梁作製工程と;
上記片持ち梁構造を上記基板に垂直な方向に向けて起立させてエミッタとする起立工程と;
を有して成る電界放出素子用エミッタの作製方法。 - 請求項1記載の電界放出素子用エミッタの作製方法であって;
上記起立工程において上記片持ち梁構造を上記基板に垂直な方向に向けて起立させる手法として該基板に向けてイオンビーム照射を行う手法を用いること;
を特徴とする電界放出素子用エミッタの作製方法。 - 請求項2記載の電界放出素子用エミッタの作製方法であって;
上記照射する上記イオンビームのエネルギを、上記エミッタ材層の厚さの1/2以下の飛程となるエネルギに選定すること;
を特徴とする電界放出素子用エミッタの作製方法。 - 請求項1記載の電界放出素子用エミッタの作製方法であって;
上記エミッタ構成用パタン形成工程において、上記エミッタ材層の上記パターニングの前に、上記犠牲層丘の高さより厚いフォトレジストを塗布し、形成すべき上記エミッタ構成用パタンの形状に合わせて該フォトレジストをパターニングし、該パターンニングされたレジストを用いて該エミッタ材層をパターニングするようにして、該エミッタ材層と同時にレジストもエッチングされるようにし、もって該エミッタ構成用パタンの上記電子放出端がその厚みにおいても薄く尖って行くように図ること;
を特徴とする電界放出素子用エミッタの作製方法。
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