JP4998210B2 - 半導体発光素子の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の実施の形態1に係る半導体発光素子の製造方法について図面を用いて説明する。
本実施の形態では、図10に示すように、ダミーパターン18(第1のダミーパターン)の劈開が近付いてくる側の面を、劈開方向に対して例えば45°斜めを向いたテーパー面にする。その他の構成は実施の形態1と同様である。
本実施の形態では、図13に示すように、発光部11の上方から離れた位置であり、かつ発光部11を横切る所望の劈開ライン22から外れた劈開19が接する位置であり、かつ発光部11を挟んでダミーパターン18(第1のダミーパターン)とは反対側の位置において単結晶ウェハ12上にダミーパターン21(第2のダミーパターン)を形成する。図14は図13の所望の劈開ライン22における断面図である。
本実施の形態では、図18に示すように、ダミーパターン18,21(第1,第2のダミーパターン)の劈開が近付いてくる側の面を、劈開方向に対して例えば45°斜めを向いたテーパー面にする。その他の構成は実施の形態3と同様である。
12 単結晶ウェハ(ウェハ)
17 電極パターン
18 ダミーパターン(第1のダミーパターン)
19 劈開
21 ダミーパターン(第2のダミーパターン)
22 所望の劈開ライン
24 キズ
Claims (4)
- 発光部を持つ積層構造をウェハに形成し、
前記発光部の上方において前記ウェハ上に電極パターンを形成し、
前記発光部の上方から離れた位置であり、かつ前記発光部を横切る所望の劈開ラインから外れた劈開が接する位置において前記ウェハ上に第1のダミーパターンを形成し、
前記所望の劈開ライン上にキズを形成し、
前記キズを起点として前記第1のダミーパターンから前記発光部に向かう方向に前記ウェハを劈開方位に沿って劈開し、
劈開がダミーパターンに沿って補正されることを特徴とする半導体発光素子の製造方法。 - 前記第1のダミーパターンの劈開が近付いてくる側の面を劈開方向に対して斜めを向いたテーパー面にすることを特徴とする請求項1に記載の半導体発光素子の製造方法。
- 前記発光部の上方から離れた位置であり、かつ前記所望の劈開ラインから外れた劈開が接する位置であり、かつ前記発光部を挟んで前記第1のダミーパターンとは反対側の位置において前記ウェハ上に第2のダミーパターンを形成することを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体発光素子の製造方法。
- 前記第2のダミーパターンの劈開が近付いてくる側の面を劈開方向に対して斜めを向いたテーパー面にすることを特徴とする請求項3に記載の半導体発光素子の製造方法。
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