JP4996388B2 - ジメチルスルホキシド含有水の処理方法及びジメチルスルホキシド含有水の処理装置 - Google Patents
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- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 148
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 106
- 238000011282 treatment Methods 0.000 title claims description 85
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 33
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 62
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 45
- 239000010802 sludge Substances 0.000 claims description 32
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 8
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 150000002898 organic sulfur compounds Chemical class 0.000 description 49
- 235000019645 odor Nutrition 0.000 description 26
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 5
- QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N Dimethyl sulfide Chemical compound CSC QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 5
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 4
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 3
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 3
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 3
- 239000011573 trace mineral Substances 0.000 description 3
- 235000013619 trace mineral Nutrition 0.000 description 3
- -1 2-aminoethanol (MEA) Chemical class 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hcl hcl Chemical compound Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 description 2
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 235000015097 nutrients Nutrition 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 2
- 238000001139 pH measurement Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 241000894007 species Species 0.000 description 2
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical class N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006065 biodegradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004071 biological effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 230000003100 immobilizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 239000002207 metabolite Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001471 micro-filtration Methods 0.000 description 1
- 239000008239 natural water Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 235000016709 nutrition Nutrition 0.000 description 1
- 230000035764 nutrition Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001741 organic sulfur group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000001953 sensory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
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- C02F3/12—Activated sludge processes
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
- C02F2101/30—Organic compounds
- C02F2101/40—Organic compounds containing sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
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Description
処理対象とするジメチルスルホキシド等の有機硫黄化合物含有水は、半導体工場、液晶工場、その他の分野から排出される有機硫黄化合物を含む水であって、ジメチルスルホキシド、スルホン酸類、スルホキシド類等の有機硫黄化合物を含む場合のほか、2−アミノエタノール(MEA)、2−プロパノール(イソプロピルアルコール)、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)、酢酸、ジエチレングルコールモノブチルエーテル、2,2−アミノエチルアミノエタノール等の他の有機物を含んだ水でもよい。また、ジメチルスルホキシド含有水と他の有機物、窒素化合物等とを混合した水でも良い。また有機硫黄化合物含有水中の有機硫黄化合物濃度は1mg/L程度の低濃度から数千mg/L程度の高濃度までどの場合も適用可能である。特に有機硫黄化合物に他の生分解性の高い有機物が共存した場合、例えばジメチルスルホキシドのTOC比率が50%以下、さらには35%以下でも、増殖速度が遅いジメチルスルホキシド分解菌が優占種となりやすく、処理水にジメチルスルホキシドが残存することや臭気物質による臭気が発生することが抑制される。
ジメチルスルホキシド等の有機硫黄化合物を分解する微生物がジメチルスルホキシドその他の有機物を分解し、増殖していくためには栄養源として、窒素、リンのほか、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ金属類や鉄、マンガン、亜鉛等の金属類といった微量金属類が存在することが好ましい。窒素源としては、外部から尿素、アンモニア塩等を添加することができる。リン源としては、外部からリン酸塩、リン酸等を添加することができる。また、窒素源、リン源としては、原水中に十分量含まれていれば外部から添加する必要はなく、また、窒素、リンを含む他の原水を有機硫黄化合物含有水に添加することでも対応することができる。微量金属類は、半導体工場や液晶工場等での有機硫黄化合物含有水では、不足することが多い。そのため、水道水、工業用水等の微量金属類を含む水を導入する、微量元素を含む製剤を添加する等の方法で補給してもよい。
浸漬膜活性汚泥法における生物処理槽10の処理条件としては、好気性の生物処理槽のBOD(生物化学的酸素要求量)負荷が0.5〜5kgBOD/m3/dayの範囲で運転することが好ましい。0.5kgBOD/m3/day未満であれば通常の浮遊式活性汚泥法を工夫して処理することも可能なため、分離膜の導入コスト等を考慮して0.5kgBOD/m3/day以上が好ましい。また、5kgBOD/m3/day以上の場合、臭気を発生するリスクが高くなる。原水のTOC濃度が100mg−C/L以下の場合、膜フラックスも考慮して、コスト等の点から0.5〜2.5kgBOD/m3/dayの範囲がより好ましく、1.5〜2.5kgBOD/m3/dayの範囲がさらに好ましい。この場合、分離膜のフラックスを例えば0.4〜0.8m/dayの範囲にすることが好ましく、0.4〜0.6m/dayの範囲にすることがより好ましい。
本実施形態では、ジメチルスルホキシド含有水等の有機硫黄化合物含有水と共に、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド含有水、2−アミノエタノール含有水、酢酸含有水等、半導体製造工程や液晶パネル製造工程の他工程からの排水といった、他の有機物含有水を導入して同時に処理し、有機硫黄化合物と共に他の有機物も分解することができる。
分離膜14としての浸漬膜は、図1のように膜分離槽12を設けて膜分離槽12内に浸漬してもよいし、図2のように生物処理槽10内に浸漬してもよい。分離膜14を使用して吸引ろ過等によって処理水を得ることができる。分離膜14は、平膜、中空糸膜、管状膜等任意の形式を用いることができ、精密ろ過膜あるいは限外ろ過膜等が用いられる。分離膜14の材質は、酢酸セルロース、ポリスルフォン酸、ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリアミド等を使用することができる。フラックス(膜透過流束)は、0.1〜1m/hr程度で運転することができ、より好ましくは0.4〜1.0m/hrで運転することが目詰まりなく膜コストを下げるために好ましい。特に低濃度大水量の水回収向けにはこのような透過流速範囲であることが好ましい。
以下の条件で図1に示す浸漬膜活性汚泥装置を使用してDMSO含有水の処理を行った。結果を表2に示す。
[通水条件]
原水濃度:原水BOD濃度 330mg/L(原水TOC濃度89.5mg−C/L、DMSOのTOC比率34.6%)
原水組成:表1参照
原水にはリン、微量元素(オルガミン10(オルガノ(株)製)を必要量添加した。
[実験装置]
浸漬膜活性汚泥装置として、以下のような実験装置を用いて実施した。
生物処理槽:容量7.5L、MLSS:7500〜12000mg/L
膜分離槽:容量2.5L
浸漬膜:旭化成製中空糸膜、材質PVDF、平均孔径0.1μm、フラックス0.8m/day
[運転負荷]
表1に示す原水を用いてBOD負荷が0.5、1.5、2.5kgBOD/m3/dayになるように運転した。
[運転条件]
DO:1.5〜2.0mg/L、pH:7.0〜7.5となるように苛性ソーダ(NaOH)、塩酸(HCl)を使って調整した。
得られた処理水の水質(TOC)を測定した。また、処理水の臭気を官能評価により以下の基準で評価した。それぞれの条件におけるコストを試算した。結果を表2に示す。
○:臭気感じられず
×:強い臭気を感じた
図3に示す流動床式活性汚泥装置50を使用して、表1に示すDMSO含有水の処理を実施例1と同様の運転条件で行った。流動床52として、7mm角のポリウレタンスポンジを反応槽(容量2L)54の20容量%充填した。結果を表2に示す。
実施例1と同じ浸漬膜活性汚泥装置を使用して、表3に示す原水について以下の条件にて実験を実施した。実施例1と同様にして評価を行った。結果を表4に示す。
[通水条件]
原水濃度:原水BOD濃度 290mg/L(原水TOC濃度87mg−C/L、DMSOのTOC比率17.8%)
原水組成:表3参照
原水にはリン、微量元素(オルガミン10(オルガノ(株)製)を必要量添加した。
[運転負荷]
表3に示す原水を用いてBOD負荷が1.5kgBOD/m3/dayになるように運転した。
[運転条件]
DO:1.5〜2.0mg/L、pH:7.0〜7.5となるように苛性ソーダ(NaOH)、塩酸(HCl)を使って調整した。
図4に示す固定床式活性汚泥装置56を用いて、表3に示すDMSO含有水の処理を実施例2と同様の運転条件で行った。固定床58として、繊維状の不織布の成型品の充填材を反応槽(容量2L)60の70%容量充填した。結果を表4に示す。
Claims (3)
- ジメチルスルホキシドを含有する原水を浸漬膜活性汚泥法で処理するジメチルスルホキシド含有水の処理方法であって、前記処理におけるBOD負荷が1.5〜5kgBOD/m 3 /dayの範囲内であることを特徴とするジメチルスルホキシド含有水の処理方法。
- 請求項1に記載のジメチルスルホキシド含有水の処理方法であって、
前記原水におけるジメチルスルホキシドのTOC比率が50%以下であることを特徴とするジメチルスルホキシド含有水の処理方法。 - ジメチルスルホキシドを含有する原水を活性汚泥処理する生物処理槽と、
前記生物処理槽または膜分離槽に浸漬されて、前記活性汚泥処理された生物反応水を固液分離して処理水を得るための分離膜と、
を有し、
前記生物処理槽におけるBOD負荷が1.5〜5kgBOD/m 3 /dayの範囲内となることを特徴とするジメチルスルホキシド含有水の処理装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007203480A JP4996388B2 (ja) | 2007-08-03 | 2007-08-03 | ジメチルスルホキシド含有水の処理方法及びジメチルスルホキシド含有水の処理装置 |
KR1020080071668A KR20090014096A (ko) | 2007-08-03 | 2008-07-23 | 유기 유황 화합물 함유수의 처리 방법 및 유기 유황 화합물함유수의 처리 장치 |
TW097128481A TWI424968B (zh) | 2007-08-03 | 2008-07-25 | Process and treatment device containing organic sulfur compound water |
CN2008101444574A CN101357803B (zh) | 2007-08-03 | 2008-07-31 | 含有机硫化合物的水的处理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007203480A JP4996388B2 (ja) | 2007-08-03 | 2007-08-03 | ジメチルスルホキシド含有水の処理方法及びジメチルスルホキシド含有水の処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009034649A JP2009034649A (ja) | 2009-02-19 |
JP4996388B2 true JP4996388B2 (ja) | 2012-08-08 |
Family
ID=40330421
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007203480A Active JP4996388B2 (ja) | 2007-08-03 | 2007-08-03 | ジメチルスルホキシド含有水の処理方法及びジメチルスルホキシド含有水の処理装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4996388B2 (ja) |
KR (1) | KR20090014096A (ja) |
CN (1) | CN101357803B (ja) |
TW (1) | TWI424968B (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5488166B2 (ja) * | 2010-04-26 | 2014-05-14 | Jfeスチール株式会社 | 硫黄系cod成分含有廃水の生物処理方法および装置 |
KR20130056246A (ko) * | 2010-04-30 | 2013-05-29 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | 수처리 방법 및 초순수 제조 방법 |
JP6742069B2 (ja) * | 2014-12-19 | 2020-08-19 | 日鉄環境株式会社 | 有機物含有水の生物処理方法 |
JP6281652B1 (ja) * | 2017-03-16 | 2018-02-21 | 栗田工業株式会社 | 好気性生物処理装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2769973B2 (ja) * | 1994-03-29 | 1998-06-25 | シャープ株式会社 | 有機硫黄化合物を含有する被処理水の処理方法とその装置 |
US6517723B1 (en) * | 2000-07-27 | 2003-02-11 | Ch2M Hill, Inc. | Method and apparatus for treating wastewater using membrane filters |
CN2496859Y (zh) * | 2001-09-07 | 2002-06-26 | 天津市津南区环保产业协会 | 中空纤维膜分离生物反应污水再用处理装置 |
JP4709467B2 (ja) * | 2002-07-08 | 2011-06-22 | 株式会社神鋼環境ソリューション | 有機性薬品含有排水の処理方法とその装置 |
JP2005021865A (ja) * | 2003-07-03 | 2005-01-27 | Japan Organo Co Ltd | 含硫黄有機化合物含有排水の処理方法 |
KR101162474B1 (ko) * | 2004-02-02 | 2012-07-03 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | 유기성 배수의 생물 처리 방법 및 장치 |
JP4670322B2 (ja) * | 2004-11-18 | 2011-04-13 | 栗田工業株式会社 | 有機硫黄化合物含有排水の処理装置 |
JP2006289344A (ja) * | 2005-03-17 | 2006-10-26 | Sharp Corp | 排ガス処理装置および排ガス処理方法 |
JP4490908B2 (ja) * | 2005-03-17 | 2010-06-30 | シャープ株式会社 | 排水処理装置 |
JP4862361B2 (ja) * | 2005-11-08 | 2012-01-25 | 栗田工業株式会社 | 排水処理装置及び排水処理方法 |
-
2007
- 2007-08-03 JP JP2007203480A patent/JP4996388B2/ja active Active
-
2008
- 2008-07-23 KR KR1020080071668A patent/KR20090014096A/ko not_active Application Discontinuation
- 2008-07-25 TW TW097128481A patent/TWI424968B/zh active
- 2008-07-31 CN CN2008101444574A patent/CN101357803B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200906738A (en) | 2009-02-16 |
CN101357803B (zh) | 2012-10-10 |
TWI424968B (zh) | 2014-02-01 |
CN101357803A (zh) | 2009-02-04 |
KR20090014096A (ko) | 2009-02-06 |
JP2009034649A (ja) | 2009-02-19 |
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