JP4985183B2 - 基板処理装置及び基板処理方法並びに記憶媒体 - Google Patents
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- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 270
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 49
- 238000003860 storage Methods 0.000 title claims description 7
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 5
- 238000010926 purge Methods 0.000 claims description 94
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 65
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 61
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 59
- 238000013459 approach Methods 0.000 claims description 4
- 238000004590 computer program Methods 0.000 claims description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 2
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 268
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 99
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 40
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 33
- 239000010408 film Substances 0.000 description 17
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 14
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 13
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 8
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 101100221835 Arabidopsis thaliana CPL2 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100221836 Arabidopsis thaliana CPL3 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100221837 Arabidopsis thaliana CPL4 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100065702 Arabidopsis thaliana ETC3 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100536545 Arabidopsis thaliana TCL2 gene Proteins 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/20—Deposition of semiconductor materials on a substrate, e.g. epitaxial growth solid phase epitaxy
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- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
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Description
この容器本体の周縁部にその周縁部が隙間を介して接近した状態または接触した状態で当該容器本体を覆うことにより基板の処理室を区画形成する蓋体と、
前記処理室の中央上部から前記載置台上の基板に処理ガスを供給する処理ガス供給部と、
この処理ガス供給部から処理ガスが処理室内に供給されているときに、前記載置台上の基板よりも外側から処理室内を排気するための処理ガス排気路と、
前記容器本体の周縁部と前記蓋体の周縁部との間に、前記処理室の周方向に沿って開口したパージガス供給路と、
このパージガス供給路から前記周縁部間に供給されたパージガスが処理室の外に流れ出すように、処理室の周方向に沿って形成された流出路と、
前記容器本体の周縁部と蓋体の周縁部との間において、前記パージガス供給路の開口部から処理室内に亘って、かつ処理室の周方向に沿って形成されたガスの通流用の隙間と、
前記処理ガス供給部からの処理ガスの供給流量は、処理ガス排気路における排気流量よりも小さく、これらの流量の差により生じた処理室内の負圧により、前記パージガス供給路から供給されたパージガスが前記ガスの通流用の隙間を介して処理室内に引き込まれることを特徴とする。
次いで前記容器本体の周縁部に、その周縁部が隙間を介して接近した状態または接触した状態で、蓋体により前記容器本体を覆うことにより基板の処理室を区画形成する工程と、
次いで前記処理室の中央上部から前記載置台上の基板に処理ガスを供給する工程と、
処理ガスが前記処理室内に供給されているときに、前記載置台上の基板よりも外側に設けられた処理ガス排気路から処理室内を排気する工程と、
前記容器本体の周縁部と前記蓋体の周縁部との間に、当該容器本体の周方向に沿って開口したパージガス供給路からパージガスを供給する工程と、を含み、
前記処理室内へ処理ガスが供給されているときには、処理室内への処理ガスの供給流量を、処理ガス排気路における排気流量よりも小さくして、これらの流量の差により生じた処理室内の負圧により、前記パージガス供給路から供給されたパージガスが、前記容器本体の周縁部と蓋体の周縁部との間において、前記パージガス供給路の開口部から処理室内に亘って、かつ処理室の周方向に沿って形成されたガスの通流用の隙間を介して処理室内に引き込まれる状態を形成することを特徴とする。
前記プログラムは、前記基板処理方法を実行するようにステップ群が組まれていることを特徴とする。
一方、前記蓋体3には、前記処理ガス供給部5から処理室20内に処理ガスが供給されているときに、前記載置台4上のウエハWよりも外側から処理室20内を排気するための排気路81が形成されている。この排気路81は、例えば直径が1〜2mm程度に設定され、その上流端が前記載置台4上のウエハWの外方に開口するように、例えば側壁部31の内部に、その上流端が前記ガス供給孔74に開口する状態で、蓋体3の周方向に沿って環状に等間隔に形成されている。ここで前記排気路81の開口部と載置台4上のウエハWの外縁との距離は例えば20mm〜40mm程度に設定することが好ましい。
また前記蓋体3の上壁部32の内部には、前記ガス供給部5が設けられる中央領域以外の領域に面状に伸び、例えば平面形状がリング形状であって、厚さが
1mm〜3mm程度の大きさの極めて扁平な空洞部82が形成されている。前記排気路81の下流端はこの空洞部82に接続されている。さらにこの空洞部82には、例えば蓋体3の中央近傍領域にて、複数本例えば6本の排気管83が接続されており、この排気管83の下流端は排気流量調整バルブV4を介して排気手段84をなすエジェクターに接続されている。図2中83aは、排気管83に接続される排気口である。この例では処理ガス排気路は、蓋体3の内部に形成された排気路81と空洞部82とにより構成されている。
20 処理室
3 蓋体
4 載置台
5 処理ガス供給部
61 処理ガス供給路
7 バッファ室
71 パージガス供給路
74 パージガス供給孔
75 流出路
81 排気路
84 排気ポンプ
9 制御部
V1〜V3 流量調整バルブ
V4 排気流量調整バルブ
W 半導体ウエハ
Claims (8)
- 基板の載置台を備え、上部側が開口している容器本体と、
この容器本体の周縁部にその周縁部が隙間を介して接近した状態または接触した状態で当該容器本体を覆うことにより基板の処理室を区画形成する蓋体と、
前記処理室の中央上部から前記載置台上の基板に処理ガスを供給する処理ガス供給部と、
この処理ガス供給部から処理ガスが処理室内に供給されているときに、前記載置台上の基板よりも外側から処理室内を排気するための処理ガス排気路と、
前記容器本体の周縁部と前記蓋体の周縁部との間に、前記処理室の周方向に沿って開口したパージガス供給路と、
このパージガス供給路から前記周縁部間に供給されたパージガスが処理室の外に流れ出すように、処理室の周方向に沿って形成された流出路と、
前記容器本体の周縁部と蓋体の周縁部との間において、前記パージガス供給路の開口部から処理室内に亘って、かつ処理室の周方向に沿って形成されたガスの通流用の隙間と、
前記処理ガス供給部からの処理ガスの供給流量は、処理ガス排気路における排気流量よりも小さく、これらの流量の差により生じた処理室内の負圧により、前記パージガス供給路から供給されたパージガスが前記ガスの通流用の隙間を介して処理室内に引き込まれることを特徴とする基板処理装置。 - 前記容器本体の周縁部と蓋体の周縁部との間において、前記パージガス供給路の開口部に臨むように、かつ処理室の周方向に沿って設けられ、パージガスが一旦溜められるバッファ室を備えたことを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 前記流出路は、容器本体または蓋体に設けられ、前記ガスの通流用の隙間に開口していることを特徴とする請求項1または2記載の基板処理装置。
- 前記流出路は、容器本体または蓋体に設けられ、前記ガスの通流用の隙間に開口すると共に、前記バッファ室に開口していることを特徴とする請求項2または3のいずれか一に記載の基板処理装置。
- 前記流出路は、前記パージガス供給路の開口部から外側位置にて容器本体の周縁部と蓋体の周縁部との間に形成された隙間であることを特徴とする請求項1又は2記載の基板処理装置。
- 前記処理ガス排気路は、前記載置台上の基板よりも上方側の外側から処理室内を排気することを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一に記載の基板処理装置。
- 上部側が開口している容器本体の内部に設けられた載置台に基板を載置する工程と、
次いで前記容器本体の周縁部に、その周縁部が隙間を介して接近した状態または接触した状態で、蓋体により前記容器本体を覆うことにより基板の処理室を区画形成する工程と、
次いで前記処理室の中央上部から前記載置台上の基板に処理ガスを供給する工程と、
処理ガスが前記処理室内に供給されているときに、前記載置台上の基板よりも外側に設けられた処理ガス排気路から処理室内を排気する工程と、
前記容器本体の周縁部と前記蓋体の周縁部との間に、当該容器本体の周方向に沿って開口したパージガス供給路からパージガスを供給する工程と、を含み、
前記処理室内へ処理ガスが供給されているときには、処理室内への処理ガスの供給流量を、処理ガス排気路における排気流量よりも小さくして、これらの流量の差により生じた処理室内の負圧により、前記パージガス供給路から供給されたパージガスが、前記容器本体の周縁部と蓋体の周縁部との間において、前記パージガス供給路の開口部から処理室内に亘って、かつ処理室の周方向に沿って形成されたガスの通流用の隙間を介して処理室内に引き込まれる状態を形成することを特徴とする基板処理方法。 - 処理室内において基板に処理ガスを供給する基板処理装置に用いられるコンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記プログラムは、請求項7に記載された基板処理方法を実行するようにステップ群が組まれていることを特徴とする記憶媒体。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007194833A JP4985183B2 (ja) | 2007-07-26 | 2007-07-26 | 基板処理装置及び基板処理方法並びに記憶媒体 |
KR1020080052573A KR101197813B1 (ko) | 2007-07-26 | 2008-06-04 | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체 |
US12/163,163 US20090029046A1 (en) | 2007-07-26 | 2008-06-27 | Substrate processing apparatus, method for processing substrate, and storage medium |
TW097124490A TWI379370B (en) | 2007-07-26 | 2008-06-30 | Substrate processing device, substrate processing method and storage medium |
CN2008101686145A CN101359590B (zh) | 2007-07-26 | 2008-07-25 | 基板处理装置和基板处理方法及存储介质 |
US13/218,983 US8992687B2 (en) | 2007-07-26 | 2011-08-26 | Substrate processing apparatus, method for processing substrate, and storage medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007194833A JP4985183B2 (ja) | 2007-07-26 | 2007-07-26 | 基板処理装置及び基板処理方法並びに記憶媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009032878A JP2009032878A (ja) | 2009-02-12 |
JP4985183B2 true JP4985183B2 (ja) | 2012-07-25 |
Family
ID=40295634
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007194833A Active JP4985183B2 (ja) | 2007-07-26 | 2007-07-26 | 基板処理装置及び基板処理方法並びに記憶媒体 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20090029046A1 (ja) |
JP (1) | JP4985183B2 (ja) |
KR (1) | KR101197813B1 (ja) |
CN (1) | CN101359590B (ja) |
TW (1) | TWI379370B (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP3323797B2 (ja) | 1998-01-21 | 2002-09-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 疎水化処理装置 |
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JP4907310B2 (ja) * | 2006-11-24 | 2012-03-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置、処理方法及び記録媒体 |
-
2007
- 2007-07-26 JP JP2007194833A patent/JP4985183B2/ja active Active
-
2008
- 2008-06-04 KR KR1020080052573A patent/KR101197813B1/ko active IP Right Grant
- 2008-06-27 US US12/163,163 patent/US20090029046A1/en not_active Abandoned
- 2008-06-30 TW TW097124490A patent/TWI379370B/zh active
- 2008-07-25 CN CN2008101686145A patent/CN101359590B/zh active Active
-
2011
- 2011-08-26 US US13/218,983 patent/US8992687B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20090029046A1 (en) | 2009-01-29 |
KR101197813B1 (ko) | 2012-11-05 |
US20110308464A1 (en) | 2011-12-22 |
US8992687B2 (en) | 2015-03-31 |
CN101359590A (zh) | 2009-02-04 |
KR20090012049A (ko) | 2009-02-02 |
TW200917406A (en) | 2009-04-16 |
CN101359590B (zh) | 2010-08-18 |
TWI379370B (en) | 2012-12-11 |
JP2009032878A (ja) | 2009-02-12 |
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A621 | Written request for application examination |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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