JP4981396B2 - 半導体メモリ素子の温度情報出力装置及びその実行方法 - Google Patents

半導体メモリ素子の温度情報出力装置及びその実行方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4981396B2
JP4981396B2 JP2006269942A JP2006269942A JP4981396B2 JP 4981396 B2 JP4981396 B2 JP 4981396B2 JP 2006269942 A JP2006269942 A JP 2006269942A JP 2006269942 A JP2006269942 A JP 2006269942A JP 4981396 B2 JP4981396 B2 JP 4981396B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
voltage
code
potential level
adjustment
unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2006269942A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007093607A (ja
Inventor
椿錫 鄭
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SK Hynix Inc
Original Assignee
SK Hynix Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020060051145A external-priority patent/KR100772560B1/ko
Application filed by SK Hynix Inc filed Critical SK Hynix Inc
Publication of JP2007093607A publication Critical patent/JP2007093607A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4981396B2 publication Critical patent/JP4981396B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/02Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/02Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters
    • G11C29/021Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters in voltage or current generators
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/02Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters
    • G11C29/028Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters with adaption or trimming of parameters
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/14Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
    • G11C5/147Voltage reference generators, voltage or current regulators; Internally lowered supply levels; Compensation for voltage drops
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/50Marginal testing, e.g. race, voltage or current testing
    • G11C2029/5002Characteristic

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Measuring Temperature Or Quantity Of Heat (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)

Description

本発明は、メモリ装置の温度情報出力装置(On Die Thermal Sensor;ODTS)の自動補償構造に関し、特に工程の変化などにより発生した電圧の誤差を温度情報出力装置の自動補償を介して調整する回路及び方法に関する。
DRAMセルは、スイッチとして機能するトランジスタと、電荷(データ)を格納するキャパシタとからなっている。メモリセル内のキャパシタに電荷があるか否かに応じて、すなわちキャパシタの端子電圧の高低に応じて、データを「ハイ」または「ロー」に区分する。
データの保管は、キャパシタに電荷が蓄積された形態になっているので、原理的には電力の消費がない。しかしながら、MOSトランジスタのPN結合などによる漏れ電流があるため、格納された初期の電荷量が消滅してデータの消失が発生することもある。これを防止するために、データの消失前にメモリセル内のデータを読み出し、その読み出した情報に合せて正常的な電荷量で再充電しなければならない。
データの記憶を維持するためには、この動作を周期的に繰り返さなければならない。このようなセル電荷の再充電過程はリフレッシュ動作と呼ばれ、リフレッシュ制御は、通常、DRAM制御機で行われる。このように、リフレッシュ動作が必要なため、DRAMではリフレッシュ電力が消費される。より低電力が要求されるバッテリー動作システム(battery operated system)において、電力消費を低減させることは極めて重要であり、かつクリティカルな問題である。
リフレッシュに必要な電力消費を低減させるための試みとして、リフレッシュ周期を温度に応じて変化させることがある。DRAMでのデータ格納時間は、温度が低くなるほど長くなる。したがって、温度領域を複数の領域に分割し、リフレッシュクロックの周波数を低い温度領域で相対的に低くすれば、電力の消費は低減するであろう。したがって、DRAMの内部に温度を正確に感知し、リフレッシュクロックの周波数を下げることのできる装置が必要である。
また、半導体メモリ素子は、その集積レベル及び動作速度が増加するほど、半導体メモリ素子自体から多くの熱を発生する。このように発生した熱は、半導体メモリ素子の内部温度を上昇させて正常な動作を妨害し、これは半導体メモリ素子の不良を引き起こすおそれがある。したがって、半導体メモリ素子の温度を正確に感知し、感知した温度の情報を出力できる装置が必要である。
特開2005−31077号公報
本発明は、上述の問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、半導体メモリ素子チップの内部で温度補正過程を行う半導体メモリ素子の温度情報出力装置及び方法を提供することにある。
上記の目的を達成すべく、本発明に係る半導体メモリ素子の温度情報出力装置によれば、温度の変化に応答して、第1電圧の電位レベルを変動させて出力する温度感知部と、前記第1電圧を第2電圧の電位レベルと比較した値に応答し、設定されたデジタルコード値を増加又は減少させて調整コードとして出力する比較部と、温度制御コード及び前記調整コードに応答して、前記第2電圧が最大に変動し得る電位レベルと最小に変動し得る電位レベルを決定し、それに応じて前記第2電圧の電位レベルを調整して出力する電位レベル調整部とを備える。
さらに、設定された温度コードをデコードして温度制御コードとして出力するデコード部をさらに備えることを特徴とする。
さらに、前記電位レベル調整部が、前記調整コードに応答し、設定された基準電圧に応じて前記第2電圧が最大に変動し得る電位レベルを有する最大変動電圧、及び最小に変動し得る電位レベルを有する最小変動電圧を生成する調整部と、前記設定された温度コード又は前記温度制御コードに応答して、アナログ値である前記第2電圧の電位レベルを調整し、前記第2電圧の電位レベルが、前記最小電位レベルと前記最大電位レベルとの間で調整されるデジタル−アナログ変換調整部とを備えることを特徴とする。
さらに、前記調整部が、前記調整コードを受信してデコードすることにより、変動調整コードを生成するデコード部と、前記変動調整コードに応答して、前記最大変動電圧及び最小変動電圧の電位レベルを調整し、前記最大変動電圧及び最小変動電圧の電位レベルに対応して分配電圧の電位レベルを調整する電位調整部と、前記基準電圧と分配電圧とを比較して、その結果に応じて前記電位調整部を制御する比較制御部とを備えることを特徴とする。
さらに、前記電位調整部が、前記比較制御部の出力信号に応答して、前記最大変動電圧及び最小変動電圧の生成を制御する出力制御部と、前記変動調整コードに応答して、前記最大変動電圧及び最小変動電圧の電位レベルを調整する変動電圧調整部と、前記最大変動電圧及び最小変動電圧の電位レベルに対応して、前記分配電圧の電位レベルを調整する分配電圧調整部とを備えることを特徴とする。
さらに、前記出力制御部が、ゲートで受信した前記比較制御部の出力信号に応答して、ドレイン・ソース経路に接続した電源電圧と、前記変動電圧調整部とが接続されることを制御するトランジスタを備えることを特徴とする。
さらに、前記変動電圧調整部が、直列に接続した複数の抵抗と、前記変動調整コードに応答してオン/オフ制御され、前記複数の抵抗と一対一で並列接続した複数のスイッチング部とを備えることを特徴とする。
さらに、前記デジタル−アナログ変換調整部が、第1出力電圧の電位レベルと前記最小変動電圧の電位レベルとを比較し、その値に応じて第1バイアス電圧の電位レベルを決定し、前記第1出力電圧の電位レベルが、前記第1バイアス電圧の電位レベルに応じて変動する第1バイアス決定部と、第2出力電圧の電位レベルと前記最大変動電圧の電位レベルとを比較し、その値に応じて第2バイアス電圧の電位レベルを決定し、前記第2出力電圧の電位レベルが、前記第2バイアス電圧の電位レベルに応じて変動する第2バイアス決定部と、前記温度コード又は前記温度制御コードに応答して、前記第2電圧の電位レベルを調整し、前記第1バイアス電圧及び前記第2バイアス電圧に応じて、第2電圧の電位レベルを決定する第2電圧決定部とを備えることを特徴とする。
さらに、前記第1バイアス決定部が、前記第1バイアス電圧の電位レベルに応答して、前記第1出力電圧の電位レベルを変動させる第1電流ミラー回路と、前記第1出力電圧の電位レベルと前記最小変動電圧の電位レベルとを比較し、その値に応じて前記第1バイアス電圧の電位レベルを変動させる第1比較器とを備えることを特徴とする。
さらに、前記第2バイアス決定部が、前記第2バイアス電圧の電位レベルに応答して、前記第2出力電圧の電位レベルを変動させる第2電流ミラー回路と、前記第2出力電圧の電位レベルと前記最大変動電圧の電位レベルとを比較し、その値に応じて前記第2バイアス電圧の電位レベルを変動させる第2比較器とを備えることを特徴とする。
さらに、前記第2電圧決定部が、前記第1バイアス電圧及び前記第2バイアス電圧に応じて決定された変動可能な電位レベル内で前記温度コード又は前記温度制御コードに応答して、前記第2電圧の電位レベルを調整する第3電流ミラー回路を備えることを特徴とする。
さらに、前記比較部が、前記第1電圧の電位レベルと前記第2電圧の電位レベルとを比較した値に応答して、コード制御信号を出力する電圧比較部と、前記コード制御信号に応答して設定されたデジタルコード値を減少又は増加させることにより、調整コードとして出力するコードカウンタ部とを備えることを特徴とする。
また、上記の目的を達成すべく、本発明に係る半導体メモリ素子の温度情報出力装置によれば、温度の変化に応答して、第1電圧の電位レベルを変動させて出力する温度感知部と、前記第1電圧を第2電圧の電位レベルと比較した値に応答し、設定されたデジタルコード値を変動させて、第1テストモード時に第1調整コードとして出力するか、または第2テストモード時に温度情報コードとして出力する比較部と、前記第1テストモード時に前記第1調整コードに応答するか、または前記第2テストモード時に設定された第2調整コードに応答して、前記第2電圧が最大に変動し得る電位レベル及び最小に変動し得る電位レベルを決定し、それに応じて前記第2電圧の電位レベルを調整して出力する電位レベル調整部と、前記第1テストモード時に設定された温度コードをデコードするか、または前記第2テストモード時に前記温度情報コードを選択してデコードして、温度制御コードとして出力するデコード選択部とを備える。
さらに、前記電位レベル調節部が、第1テストモード時に前記第1調整コードに応答するか、または第2テストモード時に前記第2調整コードに応答して、設定された基準電圧に応じて前記第1電圧をトラッキングするために、前記第2電圧が最大に変動し得る電位レベルを有する最大変動電圧、及び最小に変動し得る電位レベルを有する最小変動電圧を生成する調整部と、前記温度制御コードに応答して、前記第2電圧の電位レベルを調整し、前記第2電圧の電位レベルが、前記最小電位レベルと前記最大電位レベルとの間で調整されるデジタル−アナログ変換調整部とを備えることを特徴とする。
さらに、前記調整部が、第1テストモード時に前記第1調整コードをデコードするか、または第2テストモード時に前記第2調整コードをデコードして、変動調整コードを生成するデコード部と、前記変動調整コードに応答して、前記最大変動電圧及び最小変動電圧の電位レベルを調整し、前記最大変動電圧及び最小変動電圧の電位レベルに対応して、分配電圧の電位レベルを調整する電位調整部と、前記基準電圧と分配電圧とを比較して、その結果に応じて前記電位調整部を制御する比較制御部とを備えることを特徴とする。
さらに、前記電位調整部が、前記比較制御部の出力信号に応答して、前記最大変動電圧及び最小変動電圧の生成を制御する出力制御部と、前記変動調整コードに応答して、前記最大変動電圧及び最小変動電圧の電位レベルを調整する変動電圧調整部と、前記最大変動電圧及び最小変動電圧の電位レベルに対応して、前記分配電圧の電位レベルを調整する分配電圧調整部とを備えることを特徴とする。
さらに、前記出力制御部が、ゲートで受信した前記比較制御部の出力信号に応答して、ドレイン・ソース経路に接続した電源電圧と、前記変動電圧調整部とが接続されることを制御するPMOSトランジスタを備えることを特徴とする。
さらに、前記変動電圧調整部が、直列に接続した複数の抵抗と、前記変動調整コードに応答してオン/オフ制御され、前記複数の抵抗と一対一で並列接続した複数のスイッチング部とを備えることを特徴とする。
さらに、前記デジタル−アナログ変換調整部が、第1出力電圧の電位レベルと前記最小変動電圧の電位レベルとを比較し、その値に応じて第1バイアス電圧の電位レベルを決定し、前記第1出力電圧の電位レベルが、前記第1バイアス電圧の電位レベルに応じて変動する第1バイアス決定部と、第2出力電圧の電位レベルと前記最大変動電圧の電位レベルとを比較し、その値に応じて第2バイアス電圧の電位レベルを決定し、前記第2出力電圧の電位レベルが、前記第2バイアス電圧の電位レベルに応じて変動する第2バイアス決定部と、前記温度制御コードに応答して、前記第2電圧の電位レベルを調整し、前記第1バイアス電圧及び前記第2バイアス電圧に応じて変動可能な電位レベルを決定する第2電圧決定部とを備えることを特徴とする。
さらに、前記第1バイアス決定部が、前記第1バイアス電圧の電位レベルに応答して、前記第1出力電圧の電位レベルを変動させる第1電流ミラー回路と、前記第1出力電圧の電位レベルと前記最小変動電圧の電位レベルとを比較し、その値に応じて前記第1バイアス電圧の電位レベルを変動させる第1比較器とを備えることを特徴とする。
さらに、前記第2バイアス決定部が、前記第2バイアス電圧の電位レベルに応答して、前記第2出力電圧の電位レベルを変動させる第2電流ミラー回路と、前記第2出力電圧の電位レベルと前記最大電位レベルとを比較し、その値に応じて前記第2バイアス電圧の電位レベルを変動させる第2比較器とを備えることを特徴とする。
さらに、前記第2電圧決定部が、前記第1バイアス電圧及び前記第2バイアス電圧に応じて決定された変動可能な電位レベル内で前記温度制御コードに応答して、前記第2電圧の電位レベルを調整する第3電流ミラー回路とを備えることを特徴とする。
さらに、前記比較部が、前記第1電圧の電位レベルと前記第2電圧の電位レベルとを比較した値に応答して、コード制御信号を出力する電圧比較部と、前記コード制御信号に応答して、設定されたデジタルコード値を減少又は増加させることにより、第1テストモード時に第1調整コードとして出力するか、または第2テストモード時に温度情報コードとして出力するコードカウンタ部とを備えることを特徴とする。
さらに、前記デコード選択部が、選択信号に応答して、設定された温度コード又は前記温度情報コードのうちのいずれかのコードを選択して出力するマルチプレクス部と、前記選択信号に応答して、第1テストモード時に前記第1調整コードを前記電位レベル調節部に出力するか、または第2テストモード時に前記温度情報コードを前記マルチプレクス部に出力するデマルチプレクス部と、前記マルチプレクス部から出力されるコードをデコードして、前記温度制御コードとして出力するデコード部とを備えることを特徴とする。
さらに、前記選択信号が、第1テストモード時にアクティブになり、第2テストモード時に非アクティブになることを特徴とする。
また、上記の目的を達成すべく、本発明に係る半導体メモリ素子の温度情報出力方法によれば、温度が変わることを感知した値に応答して、第1電圧の電位レベルを変動させて出力する第1ステップと、前記第1電圧の電位レベルと第2電圧の電位レベルとを比較し、その値に応答して設定されたデジタルコード値を増加又は減少させて調整コードとして出力する第2ステップと、前記調整コードに応答して、前記第2電圧が最大に変動し得る電位レベルを有する最大変動電圧、及び最小に変動し得る電位レベルを有する最小変動電圧を生成する第3ステップと、前記最大変動電圧及び前記最小変動電圧に応じて、前記第2電圧の電位レベルが前記第1電圧の電位レベルと等しくなるように前記第2電圧の電位レベルを変動させる第4ステップとを含む。
さらに、前記第1ステップと第2ステップとの間に、設定された温度コードをデコードしたコードに応答して、第2電圧の初期電位レベルを決定して出力するステップをさらに含むことを特徴とする。
さらに、前記第2ステップないし第4ステップが、前記第1電圧と前記第2電圧とが同じ電位レベルになるまで繰り返されることを特徴とする。
ここで前記半導体素子とは、半導体メモリ素子やメモリ装置であっても良い。
本発明では半導体メモリ素子の生産過程で各ダイ(die)ごとに、温度に対するバイポーラ接合トランジスタ(Bipolar Junction Transistor;BJT)のベース・エミッタ間電圧(VBE)の電圧の範囲が異なることを挽回し、半導体温度情報出力回路において温度補償の正確度を高めるためにチップ内部の電位レベルを外部から調整コードを入力して制御しなければならない場合に、チップ内部から発生するデジタルコードを調整コードとして代用することによって、チップ内部の電位レベルを外部で測定し、調整コードを入力する過程を省略できる。このためには、従来の半導体温度情報出力回路の内部から発生するデジタルコードを調整コードとして用いる構造が必要となる。
温度情報出力装置を備える半導体メモリ素子を生産するとき、各ダイごとに温度に対してバイポーラ接合トランジスタのベース・エミッタ間電圧(VBE)範囲が異なるようになる。そのため、本発明は、温度情報出力装置において、温度補償の正確度を高めるために予め設定された温度コードを温度情報出力装置に適用することによって、調整コードをチップ内部で作って使用する。このような場合、調整コードを外部から入力するとき、外部装備の使用により発生する電圧の誤差を低減させることができる。同様に、外部装備を利用して内部の電圧を測定しながら生じる電圧の誤差を低減させることができる。
以下、本発明の好ましい実施の形態を、添付図面に基づき詳細に説明する。
図1は、本発明の第1実施形態に係る半導体メモリ素子の温度情報出力装置を示すブロック図である。
本発明の第1実施形態に係る半導体メモリ素子の温度情報出力装置(ODTS)100は、温度感知部10、デジタル−アナログ変換部DAC20、電圧比較部30、コードカウンタ部40、調整部50、及びデコード部60で構成されている。
具体的に、温度感知部10は、半導体メモリ素子の温度や電源電圧の変化に影響されないバンドギャップ回路の中で、バイポーラ接合トランジスタのベース・エミッタ間電圧(VBE)の変化が約−1.8mV/℃であることを利用することによって、半導体メモリ素子の温度を感知する。そして、微細に変動するバイポーラ接合トランジスタのベース・エミッタ間電圧(VBE)を増幅することによって、温度に一対一で対応する第1電圧VPTATを出力する。すなわち、半導体メモリ素子の温度が高いほど、低いバイポーラ接合トランジスタのベース・エミッタ間電圧(VBE)を出力する。
また、デジタル−アナログ変換部20は、調整部50から出力される最大変動電圧DAC_HI及び最小変動電圧DAC_LOWを受信してデジタル−アナログ変換するデジタル−アナログ変換器であって、デコード部60から出力されるデジタル値である温度制御コードTEMP_CODEに応答して、アナログ値である第2電圧VPDACに変換して出力する。
そして、電圧比較部30は、第1電圧VPTATと第2電圧VPDACとを比較して、制御信号INC_DEC_CONを出力する。このとき、第1電圧VPTATの電位レベルが第2電圧VPDACの電位レベルより小さな場合、コードカウンタ部40の予め設定されたデジタルコードを減少させる制御信号INC_DEC_CONを出力し、第1電圧VPTATの電位レベルが第2電圧VPDACの電位レベルより大きい場合、コードカウンタ部40の予め設定されたデジタルコードを増加させる制御信号INC_DEC_CONを出力する。
また、コードカウンタ部40は、電圧比較部30から制御信号INC_DEC_CONを受信して、内部に予め設定されたデジタル値を増加又は減少させることにより、温度情報を有している温度情報コードTHERMAL_CODEを出力する。
そして、調整部50は、半導体メモリ素子の温度や電源電圧の変化に影響されないバンドギャップ回路から出力される基準電圧VREFを受信して、半導体メモリ素子の温度や電源電圧の変化に影響されない最大変動電圧DAC_HI及び最小変動電圧DAC_LOWを出力する。このとき、半導体メモリ素子は、生産過程において、各ダイごとに温度に対するバイポーラ接合トランジスタのベース・エミッタ間電圧(VBE)の電圧範囲が異なるため、温度補償の正確度を高めるために、調整コードTRIM_CODE_EXTが外部から入力されて、最大変動電圧DAC_HIの電位レベル及び最小変動電圧DAC_LOWの電位レベルを制御する。ここで、最大変動電圧DAC_HIの電位レベルと最小変動電圧DAC_LOWの電位レベルは、一定の電圧差をもって共に変化する。
また、デコード部60は、コードカウンタ部40から出力される温度情報コードTHERMAL_CODEを、フィードバックを介して再びデジタル−アナログ変換部20に伝達する。このとき、伝送の時間差によって発生し得るエラーを除去するため、温度情報コードTHERMAL_CODEをデコードして、温度制御コードTEMP_CODEとして出力する。ここで、伝送の時間差によって発生し得るエラーとは、デジタル−アナログ変換部20が伝送の時間差より敏感に反応して第2電圧VPDACを出力する場合、誤った情報が電圧比較部30に入力されるエラーなどを意味する。
図2Aは、温度感知部10における工程別温度に応じるバイポーラ接合トランジスタのベース・エミッタ間電圧(VBE)を示す図であり、図2Bは、温度に応じるバイポーラ接合トランジスタのベース・エミッタ間電圧(VBE)変化を示す図である。
図2A及び図2Bに示すように、上述した温度感知部10のバイポーラ接合トランジスタのベース・エミッタ間電圧(VBE)が半導体メモリ素子の温度に応じて線形的に変わることが分かる。
ところが、上記のような半導体メモリ素子の温度情報出力装置100は、半導体メモリ素子の生産過程において、各ダイごとに温度に対するバイポーラ接合トランジスタのベース・エミッタ間電圧(VBE)の電圧範囲が異なることを挽回し、温度補償の正確度を高めるために、デジタル−アナログ変換部20から出力される第2電圧VPDACの電位レベルを制御する調整部50の最大変動電圧DAC_HIの電位レベル及び最小変動電圧DAC_LOWの電位レベルを、外部から調整コードTRIM_CODE_EXTを入力して制御するが、次のような問題を有する。
温度補償の正確度を高めるためには、温度感知部10から出力される第1電圧VPTATの電位レベルと、デジタル−アナログ変換部20から出力される第2電圧VPDACの電位レベルとが、どの程度なのかが分からなければならないが、通常、外部において電圧を測定する装備を利用して測定する。ところが、このように外部で測定すると、測定する装備のオフセットによってエラーが発生するおそれがある。
また、測定装備を利用して測定した内部の電位レベルに応じて、外部から調整コードTRIM_CODE_EXTを入力して内部の電圧を調整し、それにより内部で正確な電位レベルが出力されたかを確認する作業が必要であり、このときにも外部で内部電圧の電位レベルを測定しなければならないため、測定する装備のオフセットによりエラーが発生するおそれがある。
例えば、半導体メモリ素子と測定装備との間に発生するオフセットにより、温度感知部10から出力される第1電圧VPTATの電位レベルと、デジタル−アナログ変換部20から出力される第2電圧VPDACの電位レベルとのオフセット電圧差が20mVになれば、実際に出力される温度情報信号では、約10℃の温度エラー値を有するようになる。
図3は、本発明の第2実施形態に係る半導体メモリ素子の温度情報出力装置を示すブロック図である。
本発明の第2実施形態に係る半導体メモリ素子の温度情報出力装置1000は、温度の変化に応答して第1電圧VPTATの電位レベルを変動させて出力する温度感知部1200と、第1電圧VPTATの電位レベルと第2電圧VPDACの電位レベルとを比較した値に応答して、設定されたデジタルコード値を増加又は減少させて調整コードTRIM_CODE_INとして出力する比較部1400、及び調整コードTRIM_CODE_INに応答し、基準電圧VREFに応じて第2電圧VPDACが最大に変動し得る電位レベル及び最小に変動し得る電位レベルを決定し、それに応じて第2電圧VPDACの電位レベルを調整して出力する電位レベル調整部1600を備える。
また、設定された温度コードTCAL_CODEをデコードして、温度制御コードTEMP_CODEとして出力する第1デコード部1700をさらに備える。
具体的に、比較部1400は、第1電圧VPTATと第2電圧VPDACとを比較して、制御信号INC_DEC_CONを出力する電圧比較部1420、及び電圧比較部1420から制御信号INC_DEC_CONを受信して、内部に予め設定されたデジタル値を増加又は減少させて調整コードTRIM_CODE_INとして出力するコードカウンタ部1440を備える。このとき、第1電圧VPTATの電位レベルが、第2電圧VPDACの電位レベルより小さな場合、コードカウンタ部1440の予め設定されたデジタルコードを減少させる制御信号INC_DEC_CONが出力され、第1電圧VPTATの電位レベルが第2電圧VPDACの電位レベルより大きい場合、コードカウンタ部1440の予め設定されたデジタルコードを増加させる制御信号INC_DEC_CONが出力される。
電位レベル調整部1600は、前記コードカウンタ部1440から出力される調整コードTRIM_CODE_INに応答し、基準電圧VREFに応じて第2電圧VPDACが最大に変動し得る電位レベルを有する最大変動電圧DAC_HI、及び最小に変動し得る電位レベルを有する最小変動電圧DAC_LOWを決定して出力する調整部1620、及び設定された温度コードTCAL_CODE又は温度制御コードTEMP_CODEに応答し、最大変動電圧DAC_HI及び最小変動電圧DAC_LOWに応じて第2電圧VPDACの電位レベルを決定するデジタル−アナログ変換部DAC1640を備える。
ここで、デジタル−アナログ変換部DAC1640は、設定された温度コードTCAL_CODE又は温度制御コードTEMP_CODEを受信して、第2電圧VPDACの電位レベルを決定できるが、これはデジタル−アナログ変換部1640に入力されるコードは、第1デコード部1700を経由せず、入力されても構わないという意味である。
図4は、図3に示す半導体メモリ素子の温度情報出力装置におけるデジタル−アナログ変換部1640の実施形態を示す詳細回路図である。
本発明の実施形態に係るデジタル−アナログ変換部1640は、第1出力電圧OUT_1の電位レベルと最小変動電圧DAC_LOWの電位レベルとを比較し、その値に応じて第1バイアス電圧BIAS1の電位レベルを決定する第1バイアス決定部1642と、第2出力電圧OUT_2の電位レベルと最大変動電圧DAC_HIの電位レベルとを比較し、その値に応じて第2バイアス電圧BIAS2の電位レベルを決定する第2バイアス決定部1644、及び温度コードTCAL_CODE:SW<0>、…、SW<N>又は温度制御コードTEMP_CODE:SW<0>、…、SW<N>に応答してイネーブルされ、第1バイアス電圧BIAS1及び第2バイアス電圧BIAS2に応じて第2電圧VPDACの電位レベルを調整する第2電圧決定部1646を備える。
ここで、第1出力電圧OUT_1の電位レベルは、第1バイアス電圧BIAS1の電位レベルに応じて変動し、第2出力電圧OUT_2の電位レベルは、第2バイアス電圧BIAS2の電位レベルに応じて変動する。
さらに詳細に、第1バイアス決定部1642は、第1バイアス電圧BIAS1に応答して、第1出力電圧OUT_1の電位レベルを変動させる第1電流ミラー回路1642B、及び第1出力電圧OUT_1の電位レベルと最小変動電圧DAC_LOWの電位レベルとを比較し、その値に応じて第1バイアス電圧BIAS1の電位レベルを変動させる第1比較器1642Aを備える。
また、第2バイアス決定部1644は、第2バイアス電圧BIAS2の電位レベルに応答して、第2出力電圧OUT_2の電位レベルを変動させる第2電流ミラー回路1644B、及び第2出力電圧OUT_2の電位レベルと最大変動電圧DAC_HIの電位レベルとを比較して、その値に応じて第2バイアス電圧BIAS2の電位レベルを変動させる第2比較器1644Aを備える。
また、第2電圧決定部1646は、第1バイアス電圧BIAS1及び第2バイアス電圧BIAS2に応じて決定された変動可能な電位レベル内で、温度コードTCAL_CODE:SW<0>、…、SW<N>又は温度制御コードTEMP_CODE:SW<0>、…、SW<N>に応答して、第2電圧VPDACの電位レベルを調整する第3電流ミラー回路を備える。
すなわち、温度コードTCAL_CODE:SW<0>、…、SW<N>又は温度制御コードTEMP_CODE:SW<0>、…、SW<N>の値が全て「1」であれば、最大変動電圧DAC_HIと等しい電位レベルを有する第2電圧VPDACが出力される。同様に、温度コードTCAL_CODE:SW<0>、…、SW<N>又は温度制御コードTEMP_CODE:SW<0>、…、SW<N>の値が全て「0」であれば、最小変動電圧DAC_LOWと等しい電位レベルを有する第2電圧VPDACが出力される。したがって、第2電圧VPDACの電位レベルは、温度コードTCAL_CODE又は温度制御コードTEMP_CODEに応じて、最大変動電圧DAC_HIと最小変動電圧DAC_LOWとの間の値に変わる。
図5は、図3に示す半導体メモリ素子の温度情報出力装置における調整部1620を示す詳細回路図である。
調整部1620は、調整コードTRIM_CODE_INを受信してデコードすることにより変動調整コードD0〜DN−1を生成する第2デコード部1622と、変動調整コードD0〜DN−1に応答して最大変動電圧DAC_HI及び最小変動電圧DAC_LOWの電位レベルを調整し、最大変動電圧DAC_HI及び最小変動電圧DAC_LOWの電位レベルに対応して、分配電圧DIVI_VOLの電位レベルを調整する電位調整部1626、及び基準電圧VREFと分配電圧DIVI_VOLとを比較して、その結果に応じて電位調整部1626を制御する比較制御部1624を備える。
ここで、電位調整部1626は、比較制御部1624の出力信号に応答して、最大変動電圧DAC_HI及び最小変動電圧DAC_LOWの生成を制御する出力制御部1626Aと、変動調整コードD0〜DN−1に応答して、最大変動電圧DAC_HI及び最小変動電圧DAC_LOWの電位レベルを調整する変動電圧調整部1626B、及び最大変動電圧DAC_HIの電位レベル及び最小変動電圧DAC_LOWの電位レベルに対応して、分配電圧DIVI_VOLの電位レベルを調整する分配電圧調整部1626Cを備える。
出力制御部1626Aは、ゲートで受信した比較制御部1624の出力信号に応答して、ソース・ドレイン経路に接続した電源電圧(VDD)と変動電圧調整部1626Bとが接続されることを制御するPMOSトランジスタP1を備える。
変動電圧調整部1626Bは、直列に接続した複数の抵抗R_21,R_22,...,R_2N、および変動調整コードD0〜DN−1に応答してオン/オフ制御され、複数の抵抗R_21,R_22,...,R_2Nと一対一で並列接続したトランスファーゲートで構成された複数のスイッチング部SW_21,SW_22,...,SW_2Nを備える。
分配電圧調整部1626Cは、複数の抵抗R_21,R_22,...,R_2Nにより可変抵抗の効果を示す変動電圧調整部1626Bに対応して設定された固定抵抗を備えることによって、分配電圧DIVI_VOLの電位レベルを調整する。
上記のように、本発明に係る調整部1620は、調整コードTRIM_CODE_INの値に応じて、複数の抵抗R_21,R_22,...,R_2Nが負荷として機能することを制御することによって、最小変動電圧DAC_LOWの電位レベルを決定し、最小変動電圧DAC_LOWと一定の差を有する最大変動電圧DAC_HIの電位レベルを決定する。
そして、最小変動電圧DAC_LOW及び最大変動電圧DAC_HIの電位レベルを決定するために必要な基準電圧VREFは、バンドギャップ回路から出力される電圧であって、PVT(プロセス、電圧、温度)の変動による影響をほとんど受けない。しかしながら、上述した温度情報出力装置は、バイポーラ接合トランジスタのベース・エミッタ間電圧(VBE)の変化が約−1.8mV/℃であることを利用して温度を感知するため、すなわち極めて敏感なため、半導体工程の変化により発生する僅かな差(例:10mV程度)でも、温度を感知した値と実際の出力値との間には多くの差が発生する。そのため、本発明では詳細に説明していないが、本発明において用いられた基準電圧VREFは、外部装置を介してバンドギャップ回路の工程の変化により発生する差を予め調整した電圧である。
しかしながら、外部装備を利用してバンドギャップ回路の工程の変化により発生する電圧差を調整したとしても、バンドギャップ回路を除外した残りの部分の工程の変化により発生する電圧差は残っている。したがって、本発明の自動補償構造は、出力される温度情報の正確性を高めるため、後者(バンドギャップ回路を除外した残りの部分の工程の変化により発生する電圧差)の電圧差を温度情報回路の自動補償を介して調整する。
以上で説明したように、本実施形態を適用すれば、半導体メモリ素子の生産過程において、各ダイごとに温度に対するバイポーラ接合トランジスタのベース・エミッタ間電圧(VBE)の電圧範囲が異なることについて、予め設定された温度コードTCAL_CODEを温度情報出力装置に適用することによって、温度補償の正確度を高めるための調整コードTRIM_CODE_INをチップ内部で作って使用するため、従来の技術のように、外部装備を利用して内部の電圧を測定しなくても正確な温度補償を可能にすることができる。すなわち、従来の技術の問題となっていた外部で測定する装備のオフセットによるエラーの発生を防止することができる。
図3〜図5を参照して、上述した本発明の第2実施形態に係る半導体メモリ素子の温度情報出力方法を説明すれば、次の通りである。
温度が変わることを感知した値に応答して、第1電圧VPTATの電位レベルを変動させて出力する第1ステップと、設定された温度コードTCAL_CODEをデコードしたコードTEMP_CODEに応答して、第2電圧VPDACの初期電位レベルを決定して出力する第2ステップと、第1電圧VPTATと第2電圧VPDACの電位レベルとを比較し、その値に応答して設定されたデジタルコード値を増加又は減少させて調整コードTRIM_CODE_INとして出力する第3ステップと、調整コードTRIM_CODE_INに応答して、第2電圧VPDACが最大に変動し得る電位レベルを有する最大変動電圧DAC_HI及び最小に変動し得る最小変動電圧DAC_LOWを出力する第4ステップと、最大変動電圧DAC_HI及び最小変動電圧DAC_LOWに応じて、第2電圧VPDACの電位レベルが第1電圧VPTATと等しくなるように第2電圧VPDACの電位レベルを変動させる第5ステップとを含む。
また、上述した第3ステップ〜第5ステップは、第1電圧VPTATと第2電圧VPDACとが等しい電位レベルになるまで繰り返される。
また、上述した第2ステップは省略可能である。すなわち、設定された温度コードTCAL_CODEに応答して、第2電圧VPDACの初期電位レベルを決定することもできる。
図6は、本発明の第2実施形態によって構成した回路のシミュレーション波形を示す図である。
同図に示すように、温度感知部から出力された第1電圧VPTATに応じて、温度情報出力装置内部から出力される第2電圧VPDACが、温度感知部から出力された第1電圧VPTATと等しい電圧になるまで増加することを示す。
そして、温度情報出力装置内部から出力される第2電圧VPDACの電位レベルが、温度感知部から出力された第1電圧VPTATの電位レベルと等しくなれば、内部から生成されて出力されたデジタルコードTRIM_CODE<0>,TRIM_CODE<1>,TRIM_CODE<2>,TRIM_CODE<3>,TRIM_CODE<4>を有効な調整コード(TRIM_CODE is valid)として認定し、調整作業を経て温度情報を有する信号として出力する。
図7は、本発明の第3実施形態に係る半導体メモリ素子の温度情報出力装置を示すブロック図である。
本発明の第3実施形態に係る半導体メモリ素子の温度情報出力装置2000は、温度の変化に応答して第1電圧VPTATの電位レベルを変動させて出力する温度感知部2200と、第1電圧VPTATの電位レベルと第2電圧VPDACの電位レベルとを比較した値に応答して、設定されたデジタルコード値を増加又は減少させて第1テストモード時に第1調整コードTRIM_CODE_INとして出力するか、または第2テストモード時に温度情報コードTHERMAL_CODEとして出力する比較部2400、第1テストモード時に第1調整コードTRIM_CODE_INに応答するか、または第2テストモード時に設定された第2調整コードTRIM_CODE_EXTに応答して、第2電圧VPDACが最大に変動し得る電位レベル及び最小に変動し得る電位レベルを決定し、それに応じて第2電圧VPDACの電位レベルを調節して出力する電位レベル調節部2600、及び第1テストモード時に設定された温度コードTCAL_CODEをデコードしたり、または第2テストモード時に温度情報コードTHERMAL_CODEをデコードして、温度制御コードTEMP_CODEとして出力するデコード選択部2700を備える。
本発明の第3実施形態に係る半導体メモリ素子の温度情報出力装置2000は、第1テストモード時に本発明の第2実施形態に係る半導体メモリ素子の温度情報出力装置1000と同様な動作を行い、第2テストモード時に第1実施形態に係る半導体メモリ素子の温度情報出力装置100と同様な動作を行う。
本発明の第3実施形態に係る半導体メモリ素子の温度情報出力装置2000に対しては、第1及び第2実施形態に係る温度情報出力装置と異なる構成を有する部分のみを具体的に説明する。
まず、本発明の第3実施形態に係る電位レベル調節部2600の調整部2620は、第1テストモード時に第1調整コードTRIM_CODE_INを受信して、最大変動電圧DAC_HI及び最小変動電圧DAC_LOWの電位レベルを決定したり、または第2テストモード時に第2調整コードTRIM_CODE_EXTを受信して、最大変動電圧DAC_HIと最小変動電圧DAC_LOWの電位レベルを決定する。すなわち、温度補償の正確度を高めるための調整コードTRIM_CODEを、第1テストモードでは回路内部から出力されるコードを利用したり、または第2テストモードでは外部から入力されるコードを利用する方式である。
そして、本発明の第3実施形態に係るデコード選択部2700は、選択信号SELに応答して、設定された温度コードTCAL_CODE又は温度情報コードTHERMAL_CODEのうちのいずれかのコードを選択して出力するマルチプレクス部2720、選択信号SELに応答して、第1テストモード時に第1調整コードTRIM_CODE_INを出力するか、第2テストモード時に温度情報コードTHERMAL_CODEを出力するデマルチプレクス部2740、及びマルチプレクス部2720から出力されるコードをデコードして、温度制御コードTEMP_CODEとして出力するデコード部2760を備える。
ここで、デマルチプレクス部2740は、比較部2400の出力コードを受信して、第1テストモード時に第1調整コードTRIM_CODE_INを電位レベル調節部2600に出力するか、または第2テストモード時に温度情報コードTHERMAL_CODEをマルチプレクス部2720に出力する。
また、選択信号SELは、第1テストモード時にアクティブになるか、または第2テストモード時に非アクティブになる。
すなわち、上述した第2実施形態では、設定された温度コードを温度情報出力装置に適用することによって、温度補償の正確度を高めるための調整コードTRIM_CODEをチップ内部で作る方法のみを使用したが、第3実施形態では、第1テストモードと第2テストモードとに分け、第1テストモードは、設定された温度コードを温度情報出力装置に適用することによって、温度補償の正確度を高めるための第1調整コードTRIM_CODE_INをチップ内部で作って使用する本発明の第2実施形態で使用した方法と同じであり、第2テストモードは、外部で第2調整コードTRIM_CODE_EXTを使用する従来の技術で使用した方法と同様に構成して、選択信号SELを制御することによって、第1テストモードと第2テストモードをユーザが選択して使用できるようにした。
以上説明したように、本実施形態を適用すれば、半導体メモリ素子の生産過程において各ダイごとに温度に対するバイポーラ接合トランジスタのベース・エミッタ間電圧(VBE)の電圧範囲が異なることに対して、予め設定された温度コードを温度情報出力装置に適用することによって、温度補償の正確度を高めるための第1調整コードTRIM_CODE_INをチップ内部で作って使用するため、従来の技術と同様に、外部装備を利用して内部の電圧を測定しなくても正確な温度補償を可能にすることができるだけでなく、従来の技術と本発明をユーザが選択して使用することもできる。すなわち、従来の技術で問題となっていた外部で測定する装備のオフセットによってエラーが発生することを防止できる。
上述した本発明の好ましい実施の形態は、例示の目的のために開示されたものであり、本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で、様々な置換、変形、及び変更が可能であり、このような置換、変更などは、特許請求の範囲に属するものである。
例えば、上述した実施形態で例示した論理ゲート及びトランジスタは、入力される信号の極性に応じてその位置及び種類が異なるように具現されるべきである。
本発明の第1実施形態に係る半導体メモリ素子の温度情報出力装置を示すブロック図である。 図1の温度感知部における工程別温度に対する出力電圧の変化、及び温度の変化に対する出力電圧を示す図である。 本発明の第2実施形態に係る半導体メモリ素子の温度情報出力装置を示すブロック図である。 図3に示す半導体メモリ素子の温度情報出力装置におけるデジタル−アナログ変換部を示す詳細回路図である。 図3に示す半導体メモリ素子の温度情報出力装置における調整部を示す詳細回路図である。 本発明の第2実施形態に係る回路のシミュレーション波形を示す図である。 本発明の第3実施形態に係る半導体メモリ素子の温度情報出力装置を示すブロック図である。
符号の説明
1000 温度情報出力装置
1200 温度感知部
1400 比較部
1420 電圧比較部
1440 コードカウンタ部
1600 電位レベル調整部
1620 調整部
1640 デジタル−アナログ変換部
1700 第1デコード部

Claims (20)

  1. 温度の変化に応答して、第1電圧の電位レベルを変動させて出力する温度感知部と、
    前記第1電圧を第2電圧の電位レベルと比較した値に応答し、設定されたデジタルコード値を増加又は減少させて調整コードとして出力する比較部と、
    前記調整コードに応答して、前記第2電圧が最大に変動し得る電位レベルと最小に変動し得る電位レベルを決定し、決定された前記第2電圧が最大に変動し得る電位レベルと温度制御コードとに応じて前記第2電圧の電位レベルを調整して出力する電位レベル調整部と
    を備えることを特徴とする半導体素子の温度情報出力装置。
  2. 設定された温度コードをデコードして温度制御コードとして出力するデコード部をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子の温度情報出力装置。
  3. 前記電位レベル調整部が、
    前記調整コードに応答し、設定された基準電圧に応じて前記第2電圧が最大に変動し得る電位レベルを有する最大変動電圧、及び最小に変動し得る電位レベルを有する最小変動電圧を生成する調整部と、
    前記温度制御コードに応答して、アナログ値である前記第2電圧の電位レベルを調整し、前記第2電圧の電位レベルが、前記最小電位レベルと前記最大電位レベルとの間で調整されるデジタル−アナログ変換調整部と
    を備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体素子の温度情報出力装置。
  4. 前記調整部が、
    前記調整コードを受信してデコードすることにより、変動調整コードを生成するデコード部と、
    前記変動調整コードに応答して、前記最大変動電圧及び最小変動電圧の電位レベルを調整し、前記最大変動電圧及び最小変動電圧の電位レベルに対応して分配電圧の電位レベルを調整する電位調整部と、
    前記基準電圧と分配電圧とを比較して、その結果に応じて前記電位調整部を制御する比較制御部と
    を備えることを特徴とする請求項3に記載の半導体素子の温度情報出力装置。
  5. 前記電位調整部が、
    前記比較制御部の出力信号に応答して、前記最大変動電圧及び最小変動電圧の生成を制御する出力制御部と、
    前記変動調整コードに応答して、前記最大変動電圧及び最小変動電圧の電位レベルを調整する変動電圧調整部と、
    前記最大変動電圧及び最小変動電圧の電位レベルに対応して、前記分配電圧の電位レベルを調整する分配電圧調整部と
    を備えることを特徴とする請求項4に記載の半導体素子の温度情報出力装置。
  6. 前記出力制御部が、
    ゲートで受信した前記比較制御部の出力信号に応答して、ドレイン・ソース経路に接続した電源電圧と、前記変動電圧調整部とが接続されることを制御するトランジスタを備えることを特徴とする請求項5に記載の半導体素子の温度情報出力装置。
  7. 前記変動電圧調整部が、
    直列に接続した複数の抵抗と、
    前記変動調整コードに応答してオン/オフ制御され、前記複数の抵抗と一対一で並列接続した複数のスイッチング部と
    を備えることを特徴とする請求項5に記載の半導体素子の温度情報出力装置。
  8. 前記比較部が、
    前記第1電圧の電位レベルと前記第2電圧の電位レベルとを比較した値に応答して、コード制御信号を出力する電圧比較部と、
    前記コード制御信号に応答して設定されたデジタルコード値を減少又は増加させることにより、調整コードとして出力するコードカウンタ部と
    を備えることを特徴とする請求項3に記載の半導体素子の温度情報出力装置。
  9. 温度の変化に応答して、第1電圧の電位レベルを変動させて出力する温度感知部と、
    前記第1電圧を第2電圧の電位レベルと比較した値に応答し、設定されたデジタルコード値を変動させて、第1テストモード時に第1調整コードとして出力するか、または第2テストモード時に温度情報コードとして出力する比較部と、
    前記第1テストモード時に設定された温度コードをデコードするか、または前記第2テストモード時に前記温度情報コードを選択してデコードして、温度制御コードとして出力するデコード選択部と、
    前記第1テストモード時に前記第1調整コードに応答するか、または前記第2テストモード時に設定された第2調整コードに応答して、前記第2電圧が最大に変動し得る電位レベル及び最小に変動し得る電位レベルを決定し、決定された前記第2電圧が最大に変動し得る電位レベルと最小に変動し得る電位レベルと前記温度制御コードとに応じて前記第2電圧の電位レベルを調整して出力する電位レベル調整部と、
    を備えることを特徴とする半導体素子の温度情報出力装置。
  10. 前記電位レベル調節部が、
    第1テストモード時に前記第1調整コードに応答するか、または第2テストモード時に前記第2調整コードに応答して、設定された基準電圧に応じて前記第1電圧をトラッキングするために、前記第2電圧が最大に変動し得る電位レベルを有する最大変動電圧、及び最小に変動し得る電位レベルを有する最小変動電圧を生成する調整部と、
    前記温度制御コードに応答して、前記第2電圧の電位レベルを調整し、前記第2電圧の電位レベルが、前記最小電位レベルと前記最大電位レベルとの間で調整されるデジタル−アナログ変換調整部と
    を備えることを特徴とする請求項9に記載の半導体素子の温度情報出力装置。
  11. 前記調整部が、
    第1テストモード時に前記第1調整コードをデコードするか、または第2テストモード時に前記第2調整コードをデコードして、変動調整コードを生成するデコード部と、
    前記変動調整コードに応答して、前記最大変動電圧及び最小変動電圧の電位レベルを調整し、前記最大変動電圧及び最小変動電圧の電位レベルに対応して、分配電圧の電位レベルを調整する電位調整部と、
    前記基準電圧と分配電圧とを比較して、その結果に応じて前記電位調整部を制御する比較制御部と
    を備えることを特徴とする請求項10に記載の半導体素子の温度情報出力装置。
  12. 前記電位調整部が、
    前記比較制御部の出力信号に応答して、前記最大変動電圧及び最小変動電圧の生成を制御する出力制御部と、
    前記変動調整コードに応答して、前記最大変動電圧及び最小変動電圧の電位レベルを調整する変動電圧調整部と、
    前記最大変動電圧及び最小変動電圧の電位レベルに対応して、前記分配電圧の電位レベルを調整する分配電圧調整部と
    を備えることを特徴とする請求項11に記載の半導体素子の温度情報出力装置。
  13. 前記出力制御部が、
    ゲートで受信した前記比較制御部の出力信号に応答して、ドレイン・ソース経路に接続した電源電圧と、前記変動電圧調整部とが接続されることを制御するPMOSトランジスタを備えることを特徴とする請求項12に記載の半導体素子の温度情報出力装置。
  14. 前記変動電圧調整部が、
    直列に接続した複数の抵抗と、
    前記変動調整コードに応答してオン/オフ制御され、前記複数の抵抗と一対一で並列接続した複数のスイッチング部と
    を備えることを特徴とする請求項12に記載の半導体素子の温度情報出力装置。
  15. 前記比較部が、
    前記第1電圧の電位レベルと前記第2電圧の電位レベルとを比較した値に応答して、コード制御信号を出力する電圧比較部と、
    前記コード制御信号に応答して、設定されたデジタルコード値を減少又は増加させることにより、第1テストモード時に第1調整コードとして出力するか、または第2テストモード時に温度情報コードとして出力するコードカウンタ部と
    を備えることを特徴とする請求項9に記載の半導体素子の温度情報出力装置。
  16. 前記デコード選択部が、
    選択信号に応答して、設定された温度コード又は前記温度情報コードのうちのいずれかのコードを選択して出力するマルチプレクス部と、
    前記選択信号に応答して、第1テストモード時に前記第1調整コードを前記電位レベル調節部に出力するか、または第2テストモード時に前記温度情報コードを前記マルチプレクス部に出力するデマルチプレクス部と、
    前記マルチプレクス部から出力されるコードをデコードして、前記温度制御コードとして出力するデコード部と
    を備えることを特徴とする請求項9に記載の半導体素子の温度情報出力装置。
  17. 前記選択信号が、
    第1テストモード時にアクティブになり、第2テストモード時に非アクティブになることを特徴とする請求項16に記載の半導体素子の温度情報出力装置。
  18. 温度が変わることを感知した値に応答して、第1電圧の電位レベルを変動させて出力する第1ステップと、
    前記第1電圧の電位レベルと第2電圧の電位レベルとを比較し、その値に応答して設定されたデジタルコード値を増加又は減少させて調整コードとして出力する第2ステップと、
    前記調整コードに応答して、前記第2電圧が最大に変動し得る電位レベルを有する最大変動電圧、及び最小に変動し得る電位レベルを有する最小変動電圧を生成する第3ステップと、
    前記最大変動電圧及び前記最小変動電圧に応じて、前記第2電圧の電位レベルが前記第1電圧の電位レベルと等しくなるように前記第2電圧の電位レベルを変動させる第4ステップと
    を含むことを特徴とする半導体素子の温度情報出力方法。
  19. 前記第1ステップと第2ステップとの間に、
    設定された温度コードをデコードしたコードに応答して、第2電圧の初期電位レベルを決定して出力するステップをさらに含むことを特徴とする請求項18に記載の半導体素子の温度情報出力方法。
  20. 前記第2ステップないし第4ステップが、前記第1電圧と前記第2電圧とが同じ電位レベルになるまで繰り返されることを特徴とする請求項19に記載の半導体素子の温度情報出力方法。
JP2006269942A 2005-09-29 2006-09-29 半導体メモリ素子の温度情報出力装置及びその実行方法 Active JP4981396B2 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2005-0091666 2005-09-29
KR20050091666 2005-09-29
KR1020060051145A KR100772560B1 (ko) 2005-09-29 2006-06-07 반도체 메모리 소자의 온도 정보 출력 장치 및 방법
KR10-2006-0051145 2006-06-07

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007093607A JP2007093607A (ja) 2007-04-12
JP4981396B2 true JP4981396B2 (ja) 2012-07-18

Family

ID=37979473

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006269942A Active JP4981396B2 (ja) 2005-09-29 2006-09-29 半導体メモリ素子の温度情報出力装置及びその実行方法

Country Status (2)

Country Link
US (2) US7451053B2 (ja)
JP (1) JP4981396B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10794776B2 (en) 2017-03-28 2020-10-06 Seiko Epson Corporation Failure determination circuit, physical quantity measurement device, electronic apparatus, and vehicle

Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100691374B1 (ko) * 2006-01-20 2007-03-12 삼성전자주식회사 오프셋 데이터의 제어가 용이한 반도체 장치의 디지털 온도검출회로
KR100846387B1 (ko) * 2006-05-31 2008-07-15 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 소자의 온도 정보 출력 장치
JP2007327932A (ja) * 2006-06-07 2007-12-20 Hynix Semiconductor Inc 半導体メモリ素子の温度情報出力装置及びその実行方法
KR100832029B1 (ko) * 2006-09-28 2008-05-26 주식회사 하이닉스반도체 온도 정보 출력 장치 및 그를 갖는 반도체 소자
US7646213B2 (en) * 2007-05-16 2010-01-12 Micron Technology, Inc. On-die system and method for controlling termination impedance of memory device data bus terminals
KR100861374B1 (ko) * 2007-06-27 2008-10-02 주식회사 하이닉스반도체 온도센서 및 이를 이용한 반도체 메모리 장치
KR100897274B1 (ko) * 2007-06-28 2009-05-14 주식회사 하이닉스반도체 테스트 제어 회로 및 이를 포함하는 기준 전압 생성 회로
KR100908814B1 (ko) * 2007-08-29 2009-07-21 주식회사 하이닉스반도체 코어전압 방전회로 및 이를 포함하는 반도체 메모리장치
KR100983700B1 (ko) * 2008-04-18 2010-09-24 주식회사 하이닉스반도체 Rfid 장치
KR100949271B1 (ko) * 2008-09-05 2010-03-25 주식회사 하이닉스반도체 오토 셀프 리프레시에 적합한 온도 정보 감지 장치, 그를 갖는 집적회로 및 온도 정보 감지 방법
KR101504340B1 (ko) 2008-11-04 2015-03-20 삼성전자주식회사 온도 보상 기능을 가지는 불휘발성 메모리 장치 및 그것을 포함하는 메모리 시스템
US8596864B2 (en) * 2008-11-18 2013-12-03 Toshiba America Electronic Components, Inc. Digital output temperature sensor and method of temperature sensing
KR101006091B1 (ko) * 2008-12-26 2011-01-06 주식회사 하이닉스반도체 온도감지회로
DE102009023354B3 (de) * 2009-05-29 2010-12-02 Austriamicrosystems Ag Schaltungsanordnung und Verfahren zur Temperaturmessung
KR20110097470A (ko) * 2010-02-25 2011-08-31 주식회사 하이닉스반도체 온도센서
TWI394377B (zh) * 2010-04-27 2013-04-21 Univ Nat Changhua Education 算盤式數碼轉換器、轉換單元及其製造方法
US9116049B2 (en) 2012-09-27 2015-08-25 Freescale Semiconductor, Inc. Thermal sensor system and method based on current ratio
US9316542B2 (en) 2012-09-27 2016-04-19 Freescale Semiconductor, Inc. Thermal sensor system and method based on current ratio
CN104796680B (zh) * 2014-01-17 2018-04-24 马维尔国际有限公司 音频或视频信号处理系统、方法和电子设备
KR20150104297A (ko) * 2014-03-05 2015-09-15 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 장치 및 반도체 시스템
US9528883B2 (en) 2014-04-22 2016-12-27 Freescale Semiconductor, Inc. Temperature sensor circuitry with scaled voltage signal
US9719861B2 (en) 2014-08-13 2017-08-01 Nxp Usa, Inc. Temperature sensor circuit
KR20160027350A (ko) * 2014-08-28 2016-03-10 에스케이하이닉스 주식회사 반도체장치 및 이를 포함하는 반도체시스템
KR102311916B1 (ko) 2015-08-17 2021-10-15 삼성전자주식회사 스토리지 장치
KR20180042014A (ko) 2016-10-17 2018-04-25 삼성전자주식회사 배관 구조체 및 배관 구조체를 포함하는 반도체 모듈 테스트 장치
US10348270B2 (en) 2016-12-09 2019-07-09 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods for calibrating adjustable impedances of a semiconductor device
US10193711B2 (en) 2017-06-22 2019-01-29 Micron Technology, Inc. Timing based arbitration methods and apparatuses for calibrating impedances of a semiconductor device
US10615798B2 (en) 2017-10-30 2020-04-07 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods for identifying memory devices of a semiconductor device sharing an external resistance
KR102477268B1 (ko) 2018-01-26 2022-12-13 삼성전자주식회사 메모리 모듈의 정보를 실시간으로 모니터링하는 방법 및 시스템
US20190378564A1 (en) * 2018-06-11 2019-12-12 Nanya Technology Corporation Memory device and operating method thereof
JP2019215944A (ja) 2018-06-12 2019-12-19 東芝メモリ株式会社 半導体集積回路および検査方法
US10747245B1 (en) 2019-11-19 2020-08-18 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods for ZQ calibration
JP2023536467A (ja) * 2020-07-31 2023-08-25 マイクロチップ テクノロジー インコーポレイテッド マルチバイアスモード電流コンベア、マルチバイアスモード電流コンベアを構成するステップ、マルチバイアスモード電流コンベアを含むタッチ検知システム、並びに関連するシステム、方法、及びデバイス
CN115440292B (zh) * 2022-11-02 2023-01-06 深圳市芯片测试技术有限公司 存储芯片的测试方法、装置、设备及存储介质

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59171822A (ja) * 1983-03-18 1984-09-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 温度検出回路
JPH03293530A (ja) * 1990-04-11 1991-12-25 Sanyo Electric Co Ltd デジタル校正装置
KR940004962B1 (ko) 1991-01-05 1994-06-07 삼성전자 주식회사 선로점검이 가능한 2선식 양방향 데이타 통신회로
US5282685A (en) * 1992-01-10 1994-02-01 Anderson Instrument Company, Inc. Electronic thermometer with redundant measuring circuits and error detection circuits
KR950009922B1 (ko) 1992-08-24 1995-09-01 현대중공업주식회사 감지장치의 신호 보정장치
US5784328A (en) * 1996-12-23 1998-07-21 Lsi Logic Corporation Memory system including an on-chip temperature sensor for regulating the refresh rate of a DRAM array
KR19990048860A (ko) 1997-12-11 1999-07-05 김영환 반도체 메모리 소자의 온도 감지 회로
US6006169A (en) * 1997-12-31 1999-12-21 Intel Corporation Method and apparatus for trimming an integrated circuit
US6078208A (en) * 1998-05-28 2000-06-20 Microchip Technology Incorporated Precision temperature sensor integrated circuit
US6281760B1 (en) * 1998-07-23 2001-08-28 Texas Instruments Incorporated On-chip temperature sensor and oscillator for reduced self-refresh current for dynamic random access memory
KR100372249B1 (ko) 2000-11-09 2003-02-19 삼성전자주식회사 분할 워드라인 액티베이션을 갖는 리프레쉬 타입 반도체메모리 장치
KR100413761B1 (ko) * 2001-05-31 2003-12-31 삼성전자주식회사 온도와 공정에 따라 리프레시 사이클이 조절되는 반도체메모리 장치 및 방법
US6438057B1 (en) * 2001-07-06 2002-08-20 Infineon Technologies Ag DRAM refresh timing adjustment device, system and method
JP4249412B2 (ja) 2001-12-27 2009-04-02 Necエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置
KR100475736B1 (ko) 2002-08-09 2005-03-10 삼성전자주식회사 고속 테스트에 적합한 편이온도 검출회로를 갖는온도감지기 및 편이온도 검출방법
KR100553681B1 (ko) * 2003-03-06 2006-02-24 삼성전자주식회사 전압 레귤레이터 회로 및 그것을 이용한 불 휘발성 반도체메모리 장치
KR100532445B1 (ko) * 2003-07-04 2005-11-30 삼성전자주식회사 온도 측정 회로 및 방법
KR100546384B1 (ko) * 2003-09-30 2006-01-26 삼성전자주식회사 현재의 온도를 감지하여 이에 상응하는 디지털 데이터를 출력하는 온도 감지기
US6976782B1 (en) * 2003-11-24 2005-12-20 Lam Research Corporation Methods and apparatus for in situ substrate temperature monitoring
US7031863B2 (en) * 2003-12-22 2006-04-18 Texas Instruments Incorporated Variable condition responsive sense system and method
US7356426B2 (en) * 2004-09-30 2008-04-08 Intel Corporation Calibration of thermal sensors for semiconductor dies
US7138823B2 (en) * 2005-01-20 2006-11-21 Micron Technology, Inc. Apparatus and method for independent control of on-die termination for output buffers of a memory device
US7260007B2 (en) * 2005-03-30 2007-08-21 Intel Corporation Temperature determination and communication for multiple devices of a memory module
JP2007327932A (ja) * 2006-06-07 2007-12-20 Hynix Semiconductor Inc 半導体メモリ素子の温度情報出力装置及びその実行方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10794776B2 (en) 2017-03-28 2020-10-06 Seiko Epson Corporation Failure determination circuit, physical quantity measurement device, electronic apparatus, and vehicle

Also Published As

Publication number Publication date
US20070126471A1 (en) 2007-06-07
US7953569B2 (en) 2011-05-31
US20090072882A1 (en) 2009-03-19
US7451053B2 (en) 2008-11-11
JP2007093607A (ja) 2007-04-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4981396B2 (ja) 半導体メモリ素子の温度情報出力装置及びその実行方法
JP4982678B2 (ja) 半導体メモリ素子の温度情報出力装置
KR100832029B1 (ko) 온도 정보 출력 장치 및 그를 갖는 반도체 소자
KR100772560B1 (ko) 반도체 메모리 소자의 온도 정보 출력 장치 및 방법
KR100807594B1 (ko) 온도 정보 출력장치 및 그를 구비하는 반도체소자
US8169764B2 (en) Temperature compensation in integrated circuit
JP4982688B2 (ja) 温度依存性を有する内部電源発生装置
KR101585231B1 (ko) 전원 전압 및 온도 변화에 상관없이 일정한 오실레이션신호를 공급할 수 있는 오실레이터, 및 상기 오실레이터를 포함하는 신호처리장치
KR102418651B1 (ko) 전압생성회로 및 이를 이용한 반도체 장치
US8283609B2 (en) On die thermal sensor in semiconductor memory device
US20060138582A1 (en) Digital temperature sensing device using temperature depending characteristic of contact resistance
ITRM20060675A1 (it) Sensore di temperatura su chip
KR20190068952A (ko) 밴드갭 기준전압 발생회로
KR20080002527A (ko) 반도체 메모리 장치
JP5591294B2 (ja) 温度情報出力装置及びこれを含むメモリ装置
KR100816150B1 (ko) 온도 감지 장치
US20090323764A1 (en) Temperature sensing circuit, on die thermal sensor including the same, and method for sensing temperature
JP2007327932A (ja) 半導体メモリ素子の温度情報出力装置及びその実行方法
JP2023106298A (ja) 温度変化においても基準電流または基準電圧を生成する半導体装置
JP2005301410A (ja) 定電流源、その定電流源を使用した増幅回路及び定電圧回路
US20180052481A1 (en) Method for ultra-low-power and high-precision reference generation
KR20040087152A (ko) 반도체 온도 검출기, 이를 구비하여 셀프 리프레쉬 전류를감소시키는 반도체 메모리 장치, 및 그 셀프 리프레쉬 방법
KR101664346B1 (ko) 전압 스큐를 조정하는 비휘발성 메모리 장치 및 그의 제어 방법
KR20090047700A (ko) 기준전압 발생회로
KR100610443B1 (ko) 내부 전압 발생 회로

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090626

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110715

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110721

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111019

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111207

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120306

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20120322

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120402

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20120402

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120420

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150427

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4981396

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150427

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250