JP4975169B1 - ガラス基板の製造方法及びその装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ガラス基板GLを水平方向に搬送する搬送路と、搬送路を移動中のガラス基板に対して、化学研磨液を噴射してガラス基板を薄型化する研磨処理部16,22と、研磨処理部22を通過して薄型化されたガラス基板に洗浄液を噴射して洗浄する洗浄処理部24と、を有して構成され、研磨処理部16へのガラス基板の導入部には、ガラス基板の表面を軽く保持して回転する回転ローラ43と、研磨処理部16の外側から回転ローラ43に向けて水を噴射する噴射部NZ1,NZ2とが設けられている。
【選択図】図1
Description
16,22 研磨処理部
24 洗浄処理部
10 化学研磨装置
43 回転ローラ
NZ1,NZ2 噴射部
Claims (10)
- ガラス基板を水平方向に搬送する搬送路と、
搬送路を移動中のガラス基板に対して、化学研磨液を噴射してガラス基板を薄型化する研磨処理部と、
研磨処理部を通過して薄型化されたガラス基板に洗浄液を噴射して洗浄する洗浄処理部と、を有して構成され、
前記研磨処理部へのガラス基板の導入部には、ガラス基板の表面を軽く保持して回転する回転ローラと、研磨処理部の外側から前記回転ローラに向けて水を噴射する噴射部とが設けられていることを特徴とするガラス基板の化学研磨装置。 - 前記研磨処理部には、ガラス基板の搬送方向に延びる一群の噴射パイプが配置され、各噴射パイプに形成された噴出口からガラス基板に向けて化学研磨液が噴出されている請求項1に記載の化学研磨装置。
- 前記一群の噴射パイプは、ガラス基板の上部と下部に配置されている請求項2に記載の化学研磨装置。
- 前記一群の噴射パイプは、その軸方向長さが2.5m以下に設定されている請求項3に記載の化学研磨装置。
- 前記一群の噴射パイプは、前記搬送方向に直交するガラス基板の幅方向に配置され、中央位置の噴射パイプには、周辺位置の噴射パイプより高圧の化学研磨液が供給されるよう構成されている請求項3又は4に記載の化学研磨装置。
- 前記一群の噴射パイプは回転可能に保持されて、噴射パイプの円周方向に揺動するよう構成されている請求項2〜5の何れかに記載の化学研磨装置。
- 前記研磨処理部は、ほぼ同一構成の複数の処理チャンバに区分されて構成され、同一組成の研磨液によってガラス基板が複数回研磨されるよう構成された請求項1〜6の何れかに記載の化学研磨装置。
- 前記複数の処理チャンバは、中継チャンバを経由して接続されている請求項7に記載の化学研磨装置。
- 前記中継チャンバでは、処理チャンバと同一組成の化学研磨液がガラス基板に噴出されている請求項1〜8の何れかに記載の化学研磨装置。
- ガラス基板を水平方向に搬送する搬送路と、搬送路を移動中のガラス基板に対して、化学研磨液を噴射してガラス基板を薄型化する研磨処理部と、研磨処理部を通過して薄型化されたガラス基板に洗浄液を噴射して洗浄する洗浄処理部と、を有し、前記研磨処理部へのガラス基板の導入部には、ガラス基板の表面を軽く保持して回転する回転ローラと、研磨処理部の外側から前記回転ローラに向けて水を噴射する噴射部とが設けられた化学研磨装置を使用して、板厚を薄型化するガラス基板の製造方法。
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