JP4963934B2 - 光学記録材料 - Google Patents
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Description
本発明の光学記録材料は、上記一般式(I)で表されるシアニン化合物(イ)を少なくとも一種及び有機塩基性化合物(ロ)を少なくとも一種含有する。
先ず、本発明の光学記録材料に含有される上記一般式(I)で表されるシアニン化合物(イ)について説明する。
上記一般式(I)において、X 1 及びX 2 中の基であるR 21 及びR 22 で表される炭素原子数1〜30の有機基は、上記のアルキル基、アルケニル基、アルキルアリール基若しくはアリールアルキル基又はこれらの炭化水素基がエーテル結合若しくはチオエーテル結合で中断された基である。
これら、Anm-で表されるフッ素原子を有するアニオンの中でも、六フッ化リン酸アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ビストリフルオロメチルスルホニルイミドアニオンが分解特性に優れるため好ましい。
R6とR8とが連結して形成する環構造としては、上記一般式(I)の説明で例示したものが挙げられる。
上記一般式(III)において、Zで表される置換基を有してもよい炭素原子数1〜8のアルキレン基としては、メチレン、エチレン、プロピレン、メチルエチレン、ブチレン、1−メチルプロピレン、2−メチルプロピレン、1,2−ジメチルプロピレン、1,3−ジメチルプロピレン、1−メチルブチレン、2−メチルブチレン、3−メチルブチレン、4−メチルブチレン、2,4−ジメチルブチレン、1,3−ジメチルブチレン、ペンチレン、へキシレン、ヘプチレン、オクチレン、エタン−1,1−ジイル、プロパン−2,2−ジイル等が挙げられ、該アルキレン基中のメチレン基が−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−SO2−、−NH−、−CONH−、−NHCO−、−N=CH−又は−CH=CH−で置換された基としては、メチレンオキシ、エチレンオキシ、オキシメチレン、チオメチレン、カルボニルメチレン、カルボニルオキシメチレン、メチレンカルボニルオキシ、スルホニルメチレン、アミノメチレン、アセチルアミノ、エチレンカルボキシアミド、エタンイミドイル、エテニレン、プロペニレン等が挙げられる。
例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、シクロペンチル、ヘキシル、2−ヘキシル、3−ヘキシル、シクロヘキシル、ビシクロヘキシル、1−メチルシクロヘキシル、ヘプチル、2−ヘプチル、3−ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル等のアルキル基;メチルオキシ、エチルオキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、第二ブチルオキシ、第三ブチルオキシ、イソブチルオキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ、第三アミルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、イソヘプチルオキシ、第三ヘプチルオキシ、n−オクチルオキシ、イソオクチルオキシ、第三オクチルオキシ、2−エチルヘキシルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ等のアルコキシ基;メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、第二ブチルチオ、第三ブチルチオ、イソブチルチオ、アミルチオ、イソアミルチオ、第三アミルチオ、ヘキシルチオ、シクロヘキシルチオ、ヘプチルチオ、イソヘプチルチオ、第三ヘプチルチオ、n−オクチルチオ、イソオクチルチオ、第三オクチルチオ、2−エチルヘキシルチオ等のアルキルチオ基;ビニル、1−メチルエテニル、2−メチルエテニル、2−プロペニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−ブテニル、イソブテニル、3−ペンテニル、4−ヘキセニル、シクロヘキセニル、ビシクロヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、デセニル、ぺンタデセニル、エイコセニル、トリコセニル等のアルケニル基;ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等のアリールアルキル基;フェニル、ナフチル等のアリール基;フェノキシ、ナフチルオキシ等のアリールオキシ基;フェニルチオ、ナフチルチオ等のアリールチオ基;ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ピペリジル、ピラニル、ピラゾリル、トリアジル、ピロリル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、2−ピロリジノン−1−イル、2−ピペリドン−1−イル、2,4−ジオキシイミダゾリジン−3−イル、2,4−ジオキシオキサゾリジン−3−イル等の複素環基;フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子;アセチル、2−クロロアセチル、プロピオニル、オクタノイル、アクリロイル、メタクリロイル、フェニルカルボニル(ベンゾイル)、フタロイル、4−トリフルオロメチルベンゾイル、ピバロイル、サリチロイル、オキザロイル、ステアロイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、n−オクタデシルオキシカルボニル、カルバモイル等のアシル基;アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等のアシルオキシ基;アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、2−エチルヘキシルアミノ、ドデシルアミノ、アニリノ、クロロフェニルアミノ、トルイジノ、アニシジノ、N−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ,ナフチルアミノ、2−ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、ホルミルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、カルバモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ、N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、t−ブトキシカルボニルアミノ、n−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、N−メチル−メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、スルファモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノスルホニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ等の置換アミノ基;スルホンアミド基、スルホニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホ基、水酸基、ニトロ基、メルカプト基、トリアルキルシリル基、イミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基等が挙げられ、これらの基は更に置換されていてもよい。また、カルボキシル基及びスルホ基は無機塩基又は有機塩基と塩、錯体又は複合体を形成していてもよい。
る。)
これらの有機塩基性化合物(ロ)は、単独又は複数種で用いられる。有機塩基性化合物の使用量は、本発明の光学記録材料中、0.01〜10質量%、好ましくは0.1〜5質量%である。0.01質量%未満では上記塩基性化合物の添加の効果が得られず、10質量%より多いとシアニン化合物(イ)が分解する恐れがある。
本発明の光学記録材料の調製、及び本発明の基体上に、該光学記録材料からなる光学記録層を形成したことを特徴とする光学記録媒体を製造する方法については、特に制限を受けない。一般には、メタノール、エタノール等の低級アルコール類;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルジグリコール等のエーテルアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシエチル等のエステル類;アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル等のアクリル酸エステル類、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール等のフッ化アルコール類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類;メチレンジクロライド、ジクロロエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素類等の有機溶媒に、本発明に係るシアニン化合物(イ)、有機塩基性化合物(ロ)及び必要に応じて後述の各種化合物を溶解して溶解して溶液状の光学記録材料を作製し、該光学記録材料を基体上にスピンコート、スプレー、ディッピング等で塗布する湿式塗布法が用いられ、蒸着法、スパッタリング法等も用いられる。
下記実施例1〜4は、化合物No.1及び有機塩基化合物をそれぞれ含有する光学記録材料No.1〜No.4の調製及び該光学記録材料を用いた光学記録媒体No.1〜No.4の製造例を示し、下記比較例1は、化合物No.1を含有するが有機塩基化合物を含まない比較光学記録材料No.1の調製及び該比較光学記録材料を用いた比較光学記録媒体No.1の製造例を示す。
下記実施例1〜4は、化合物No.1及び有機塩基化合物をそれぞれ含有する光学記録材料No.1〜No.4の調製及び該光学記録材料を用いた光学記録媒体No.1〜No.4の製造例を示し、下記比較例1は、化合物No.1を含有するが有機塩基化合物を含まない比較光学記録材料No.1の調製及び該比較光学記録材料を用いた比較光学記録媒体No.1の製造例を示す。
シアニン化合物No.1の濃度が1.0質量%、有機塩基化合物の濃度が5.0質量%となるように2,2,3,3−テトラフルオロプロパノールに溶解して、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール溶液として光学記録材料を得た。チタンキレート化合物(T−50:日本曹達社製)を塗布、加水分解して下地層(0.01μm)を設けた直径12cmのポリカーボネートディスク基板上に、上記の光学記録材料をスピンコーティング法にて塗布して、厚さ100nmの光学記録層を形成し光学記録媒体No.1〜No.4をそれぞれ得た。
有機塩基化合物を用いなかった以外は、上記実施例1〜4と同様にして比較光学記録材料を作製し、該光学記録材料を用いて比較光学記録媒体No.1を得た。
化合物No.1及び有機塩基性化合物を含有する光学記録材料の熱安定性の評価を行なった。評価は、それぞれシアニン化合物濃度が1.0質量%、有機塩基化合物濃度が〔表1〕記載の濃度となるように2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール溶液を調製し、得られた2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール溶液を80℃で24時間放置したときのTOF質量スペクトルの変化で評価した。評価結果を以下の〔表1〕に示す。尚、比較はネガティブモードでm/z値がPF6 -の質量である144となるピークの相対強度で行なった。
光学記録媒体の製造において、光学記録材料をスピンコーティング法にて塗布した後、残存した光学記録材料を回収して再利用することがあるが、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール溶媒を留去する際に70〜80℃に加熱する必要がある。本発明に係るシアニン化合物は、熱安定性が高いため、光学記録材料を再利用した場合においても光学記録媒体の光学記録層の形成に好適に使用することができる。
化合物No.1及び有機塩基性化合物を含有する光学記録材料の耐光性評価を行なった。まず、化合物No.1の濃度が1.0質量%、有機塩基化合物の濃度が〔表2〕記載の濃度となるように2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール溶液を調製し、得られた溶液を、20×20mmのポリカーボネート板上に2000rpm、60秒でスピンコーティング法により塗布して、試験片を作成した。評価は、該試験片に55000ルクスの光を照射し、5時間及び20時間照射した後、照射前のUV吸収スペクトルのλmaxでの吸光度残率を測定することにより行なった。結果を〔表2〕に示す。
Claims (4)
- 下記一般式(I)で表されるシアニン化合物(イ)を少なくとも一種及び有機塩基性化合物(ロ)である2,2,6,6−テトラメチルピペリジノール、N−メチルピペリジノール、又はピリジンを少なくとも一種含有することを特徴とする光学記録材料。
- 上記シアニン化合物(イ)の含有量が0.1〜10質量%であり、上記有機塩基性化合物(ロ)の含有量が0.01〜10質量%である請求項1又は2記載の光学記録材料。
- 基体上に、請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学記録材料から形成された光学記録層を有することを特徴とする光学記録媒体。
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