JP4514699B2 - 光学記録材料 - Google Patents
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上記置換基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、シクロペンチル、ヘキシル、2−ヘキシル、3−ヘキシル、シクロヘキシル、ビシクロヘキシル、1−メチルシクロヘキシル、ヘプチル、2−ヘプチル、3−ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル等のアルキル基;メチルオキシ、エチルオキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、第二ブチルオキシ、第三ブチルオキシ、イソブチルオキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ、第三アミルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、イソヘプチルオキシ、第三ヘプチルオキシ、n−オクチルオキシ、イソオクチルオキシ、第三オクチルオキシ、2−エチルヘキシルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ等のアルコキシ基;メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、第二ブチルチオ、第三ブチルチオ、イソブチルチオ、アミルチオ、イソアミルチオ、第三アミルチオ、ヘキシルチオ、シクロヘキシルチオ、ヘプチルチオ、イソヘプチルチオ、第三ヘプチルチオ、n−オクチルチオ、イソオクチルチオ、第三オクチルチオ、2−エチルヘキシルチオ等のアルキルチオ基;ビニル、1−メチルエテニル、2−メチルエテニル、2−プロペニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−ブテニル、イソブテニル、3−ペンテニル、4−ヘキセニル、シクロヘキセニル、ビシクロヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、デセニル、ぺンタデセニル、エイコセニル、トリコセニル等のアルケニル基;ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等のアリールアルキル基;フェニル、ナフチル等のアリール基;フェノキシ、ナフチルオキシ等のアリールオキシ基;フェニルチオ、ナフチルチオ等のアリールチオ基;ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ピペリジル、ピラニル、ピラゾリル、トリアジル、ピロリル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、2−ピロリジノン−1−イル、2−ピペリドン−1−イル、2,4−ジオキシイミダゾリジン−3−イル、2,4−ジオキシオキサゾリジン−3−イル等の複素環基;フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子;アセチル、2−クロロアセチル、プロピオニル、オクタノイル、アクリロイル、メタクリロイル、フェニルカルボニル(ベンゾイル)、フタロイル、4−トリフルオロメチルベンゾイル、ピバロイル、サリチロイル、オキザロイル、ステアロイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、n−オクタデシルオキシカルボニル、カルバモイル等のアシル基;アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等のアシルオキシ基;アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、2−エチルヘキシルアミノ、ドデシルアミノ、アニリノ、クロロフェニルアミノ、トルイジノ、アニシジノ、N−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ,ナフチルアミノ、2−ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、ホルミルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、カルバモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ、N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、t−ブトキシカルボニルアミノ、n−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、N−メチル−メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、スルファモイルアミノ、N,N−ジメチルアミノスルホニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ等の置換アミノ基;スルホンアミド基、スルホニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホ基、水酸基、ニトロ基、メルカプト基、イミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基等が挙げられ、これらの基は更に置換されていてもよい。また、カルボキシル基及びスルホ基は、塩を形成していてもよい。
下記製造例1〜10は、シアニン化合物の製造例を示す。また、下記実施例1〜10は、製造例1〜10で得られたシアニン化合物を用いた光学記録材料及び光学記録媒体の実施例を示し、比較例1、2は、本発明に係るシアニン化合物とは異なる構造のシアニン化合物を用いた光学記録材料及び光学記録媒体の例を示す。また、下記評価例1〜3では、実施例及び比較例で得られた光学記録媒体について、短波長レーザによる記録及び再生の適否並びに耐光性の評価をそれぞれ行った。
尚、下記製造例4〜7が本発明に係るシアニン化合物の製造例であり、製造例4〜7で得られたシアニン化合物を用いた実施例4〜7が本発明の実施例である。実施例1〜3及び実施例8〜10は参考例である。
以下に示す合成方法1又は2を用いて、化合物No.1〜10を合成した。得られた化合物の同定は、IR分析及び1H−NMR分析により行なった(表2及び3参照)。表1に、得られた化合物の収率並びに特性値〔溶液状態での光吸収特性(λmax、及びλmaxにおけるε)、融点及び分解点〕の測定結果を示す。
なお、表1において、分解点は10℃/分の昇温速度における示差熱分析の質量減少開始温度である。
インドレニン四級塩50.0mmol及びホルミルインドール誘導体50.0mmolを25gのエタノールに溶かした溶液を仕込み、72℃でトルエンスルホン酸一水和物60.0mmolを加え、72℃で3.5時間撹拌した。室温まで冷却し、クロロホルム100g及び水100gを加えて洗浄を行なった後、六フッ化リンカリウム0.100molを100gの水に溶かした溶液に注いで30分撹拌した。水100gを加えて洗浄し、析出物をろ別し、洗浄又は再結晶により精製して目的のシアニン化合物を得た。
インドレニンの六フッ化リン塩5.00mmol及びインドールのイミニウム塩5.00mmolを30mlのメタノールに溶かした溶液を仕込み、50℃でトリエチルアミン5.00mmolを加え、3時間加熱還流した。室温まで冷却し、溶液を留去して再結晶を行なうか、又は析出物をろ別した後、洗浄若しくは再結晶により精製して、目的のシアニン化合物を得た。
上記の製造例1〜10で得たシアニン化合物それぞれを、シアニン化合物濃度が濃度1.0質量%となるように2,2,3,3−テトラフルオロプロパノールに溶解して、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール溶液として実施例1〜10の光学記録材料をそれぞれ得た。チタンキレート化合物(T−50:日本曹達社製)を塗布、加水分解して下地層(0.01μm)を設けた直径12cmのポリカーボネートディスク基板上に、上記の光学記録材料をスピンコーティング法にて塗布して、厚さ100nmの光学記録層を形成し、実施例1〜10の光学記録媒体をそれぞれ得た。
シアニン化合物として下記比較化合物No.1又はNo.2を用いた以外は、上記実施例1〜10と同様にして、比較例1〜2の光学記録材料をそれぞれ作製し、該光学記録材料を用いて比較例1〜2の光学記録媒体をそれぞれ得た。
実施例1〜10及び比較例1〜2の光学記録媒体について、UVスペクトル吸収を測定した。結果を表4に示す。
実施例1〜10及び比較例1〜2の光学記録媒体について、薄膜(光学記録層)の入射角5°の反射光のUVスペクトルを測定した。結果を表5に記す。なお、表5において、反射光の405nmの強度は、反射光のλmaxの強度に対する相対強度である。
光ディスクに代表される光学記録媒体の再生モードでは、レーザ光を光学記録媒体に反射させた反射光について、レーザ波長の光量の差で記録の有無を検出するので、光学記録媒体は、反射光の吸収スペクトルにおいて、レーザ光の波長に近いところで大きい吸収強度を示すものほど好ましい。
従って、前記一般式(I)で表されるシアニン化合物を含有する本発明の光学記録材料は、短波長レーザ用光ディスク等の光学記録媒体、例えば405nmのレーザ光を用いる光学記録媒体の光学記録層の形成に用いる光学記録材料として好適である。
実施例3〜10及び比較例1〜2の光学記録媒体について、耐光性評価を行なった。評価は、該光学記録媒体に55000ルクスの光を照射し、照射開始から24時間経過後及び48時間経過後それぞれにおいて、照射前のUV吸収スペクトルのλmaxでの吸光度残存率を測定することにより行なった。結果を表6に示す。
Claims (4)
- 下記一般式(I)で表されるシアニン化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする光学記録材料。
- 基体上に、請求項1〜3のいずれかに記載の光学記録材料からなる光学記録層を形成したことを特徴とする光学記録媒体。
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