JP2008284876A - 光学記録材料 - Google Patents

Abstract

【課題】高速の光学記録用途に好適な熱分解特性を有する化合物を含有する光学記録材料を提供すること。
【解決手段】基板上に、塗布あるいはスパッタリング等の手段によって、特定の構造を有するシアニン化合物を少なくとも一種含有する記録層を設けた光学記録材料。
【選択図】なし

Description

本発明は、主として情報をレーザ等による情報パターンとして付与することにより記録する光学記録媒体に使用される光学記録材料に関し、詳しくは、紫外及び可視領域の波長を有し且つ低エネルギーのレーザ等による高密度の光学記録及び再生が可能な光学記録媒体に使用される光学記録材料に関する。

光学記録媒体は、一般に、記録容量が大きく、記録又は再生が非接触で行なわれること等の優れた特徴を有することから、広く普及している。ＷＯＲＭ、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ±Ｒ、ＨＤ−ＤＶＤ−Ｒ、ＢＤ−Ｒ等の追記型の光ディスクでは、記録層の微小面積にレーザを集光させ、光学記録層の性状を変えて記録し、記録部分と未記録部分との反射光量の違いによって再生を行なっている。

光ディスクに代表される光学記録媒体の光学記録層には、光学記録層を形成するのが容易なので有機系の色素が使用されており、特にシアニン系化合物が感度が高く、高速化に対応できることから検討されている。

短波長記録光用の光学記録媒体において、光学記録層の形成には、各種化合物が使用されている。例えば、特許文献１〜３には特定の構造を持つシアニン化合物を含有する光学記録材料が報告されている。しかし、これらの化合物は、光学記録層の形成に用いられる光学記録材料としては、熱分解特性に問題がある。高速記録には熱干渉が小さいことが必要であり、光学記録材料としては、分解温度が低いもの及び熱分解が緩やかであるものが適合するが、上記報告の各シアニン系化合物は、この点で充分な特性を有しているものではなかった。

特開２００１−３０１３３３号公報 特開２００６−８９４３４号公報 特表２００４−５２５８００号公報

従って、本発明の目的は、高速の光学記録用途に好適な熱分解特性を有する化合物を含有する光学記録材料を提供することにある。

本発明者等は、検討を重ねた結果、特定の構造を有する化合物が、熱分解特性に優れることを知見し、これを使用することにより、上記課題を解決し得ることを知見した。

本発明は、上記知見に基づいてなされたもので、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする光学記録材料を提供することで、上記目的を達成したものである。

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁶及びＲ⁷は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜４０のアリール基、炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜４０の複素環基又はアミノ基を表し、Ｒ³は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜４０のアリール基、炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基又は下記一般式（III）で表される基を表し、Ｒ⁴は、下記一般式（II）又は下記一般式（II’）で表される基を表し、Ｒ⁵は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜４０のアリール基、炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基、下記一般式（II）、（II’）又は（III）で表される基を表し、Ｒ⁸及びＲ⁹は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数６〜４０のアリール基、炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜４０の複素環基を表し、Ｒ¹〜Ｒ⁹のうち隣接する置換基は、互いに連結して環構造を形成していてもよく、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷で表される炭素原子数１〜１０のアルキル基、及びＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹で表される炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基中のメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−Ｎ＝ＣＨ−又は−ＣＨ＝ＣＨ―で置換されていてもよい。ｓは１〜３の整数であり、Ａｎ^q-はｑ価のアニオンを表し、ｑは１又は２であり、ｐは電荷を中性に保つ係数を表す。）

（上記一般式（II）において、ＬとＴとの間の結合は二重結合、共役二重結合又は三重結合であり、Ｌは炭素原子を表し、Ｔは炭素原子、酸素原子又は窒素原子を表し、ｘ、ｙ及びｚは、それぞれ独立に、０又は１を表し、ａは０〜４の数を表し、Ｒ¹⁰は、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｒ¹¹、Ｒ¹²及びＲ¹³は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ¹¹とＲ¹³とは、結合して環構造を形成していてもよい。上記一般式（II’）において、Ｌ’とＴ’との間の結合は二重結合又は共役二重結合であり、Ｌ’は炭素原子を表し、Ｔ’は、炭素原子、酸素原子又は窒素原子を表し、ａ’は０〜４の数を表し、Ｌ’とＴ’とを含む環は、ヘテロ原子を含んでもよい五員環、ヘテロ原子を含んでもよい六員環、ナフタレン環、キノリン環、イソキノリン環、アントラセン環又はアントラキノン環を表し、これらＬ’とＴ’とを含む環は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基又はアルコキシ基で置換されていてもよい。）

（式中、Ｒ^a〜Ｒⁱは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１〜４のアルキル基を表し、該アルキル基中のメチレン基は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置換されていてもよく、Ｚ¹は、直接結合又は炭素原子数１〜８のアルキレン基を表し、該アルキレン基中のメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−Ｎ＝ＣＨ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されていてもよく、Ｍは、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｍｎ、Ｒｕ、Ｓｎ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｐｔ又はＩｒを表す。）

また、本発明は、下記一般式（Ｖ）で表される化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする光学記録材料を提供することで、上記目的を達成したものである。

（式中、Ｒ¹¹⁴は、下記一般式（VI）で表される置換基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びｓは、上記一般式（Ｉ）と同じである。）

（式中、Ｌ’’とＴ’’との間の結合は二重結合又は三重結合であり、Ｌ’’は炭素原子を表し、Ｔ’’は、炭素原子、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を表し、ｘ’’、ｙ’’及びｚ’’は、それぞれ独立に、０又は１を表し、ｓ’’は０〜４の数を表し、Ｒ¹¹⁰は、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｒ¹¹¹、Ｒ¹¹²及びＲ¹¹³は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルキル基又は炭素原子数６〜１２のアリール基を表す。）

また、本発明は、下記一般式（VII）で表される化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする光学記録材料を提供することで、上記目的を達成したものである。

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁹は、上記一般式（Ｉ）と同じである。）

また、本発明は、下記一般式（IX）で表される化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする光学記録材料を提供することで、上記目的を達成したものである。

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びｓは、上記一般式（Ｉ）と同じであり、Ｒ¹¹⁴は、上記一般式（V）と同じである。）

また、本発明は、基体上に、上記光学記録材料から形成された光学記録層を有することを特徴とする光学記録媒体を提供することで、上記目的を達成したものである。

本発明によれば、高速の光学記録用途に好適な熱分解特性を有する化合物を含有する光学記録材料を提供することができる。また、該光学記録材料は、光学記録媒体の光学記録層の形成に好適に用いられる。

以下、本発明の光学記録材料について好ましい実施形態に基づき詳細に説明する。
本発明の光学記録材料は、必須成分として、シアニン化合物である上記一般式（Ｉ）、（Ｖ）、（VII）又は（IX）で表される化合物を少なくとも一種含有する。
先ず、これらの本発明に係る化合物について説明する。

上記一般式（Ｉ）におけるＲ¹、Ｒ²、Ｒ⁶及びＲ⁷で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
上記一般式（Ｉ）におけるＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷で表される炭素原子数１〜１０のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、モノフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、テトラフルオロエチル、トリフルオロエチル、ジフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ヘキサフルオロプロピル、ペンタフルオロプロピル、テトラフルオロプロピル、トリフルオロプロピル、パーフルオロブチル等が挙げられ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹で表される炭素原子数６〜４０のアリール基としては、例えば、フェニル、ナフチル、アントラセン−１−イル、フェナントレン−１−イル、テトラセニル、ペンタセニル、クリセニル、トリフェニレニル、ピレニル、ピセニル、ペリレニル等が挙げられ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹で表される炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基としては、ベンジル、フェネチル、２−フェニルプロパン、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等が挙げられる。

上記一般式（Ｉ）におけるＲ¹、Ｒ²、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹で表される炭素原子数２〜４０の複素環基としては、例えば、ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ピペラジル、ピペリジル、ピラニル、ピラゾリル、トリアジル、ピロリジル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、ユロリジル、モルフォリニル、チオモルフォリニル、２−ピロリジノン−１−イル、２−ピペリドン−１−イル、２，４−ジオキシイミダゾリジン−３−イル、２，４−ジオキシオキサゾリジン−３−イル等が挙げられ、上記一般式（Ｉ）におけるＲ¹、Ｒ²、Ｒ⁶及びＲ⁷で表されるアミノ基としては、例えば、アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、２−エチルヘキシルアミノ、ドデシルアミノ、アニリノ、クロロフェニルアミノ、トルイジノ、アニシジノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ，ナフチルアミノ、２−ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、ホルミルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、トリメチルアンモニオ、トリエチルアンモニオ等が挙げられ、前記の四級窒素を持つアミノ基はアニオンと塩を形成していてもよい。

上記一般式（Ｉ）におけるＲ¹〜Ｒ⁹のうち隣接する置換基が連結して形成する環構造としては、例えば、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、ベンゼン環、ナフタレン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、テトラヒドロピラン環、ピペリジン環、ピペラジン環、ピロリジン環、モルフォリン環、チオモルフォリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、チアゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、イミダゾリジン環、ピラゾリジン環、イソオキサゾリジン環、イソチアゾリジン環等が挙げられ、これらの環は他の環と縮合されていたり、置換されていたりしてもよい。

上記一般式（Ｉ）におけるＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹で表される炭素原子数１〜１０のアルキル基、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹で表される炭素原子数６〜４０のアリール基、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹で表される炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基、及びＲ¹、Ｒ²、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹で表される炭素原子数２〜４０の複素環基は、置換基を有してもよい。該置換基としては、以下のものが挙げられる。
例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、シクロペンチル、ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、シクロヘキシル、ビシクロヘキシル、１−メチルシクロヘキシル、ヘプチル、２−ヘプチル、３−ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル等のアルキル基；メチルオキシ、エチルオキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、第二ブチルオキシ、第三ブチルオキシ、イソブチルオキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ、第三アミルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、イソヘプチルオキシ、第三ヘプチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ、イソオクチルオキシ、第三オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ等のアルコキシ基；メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、第二ブチルチオ、第三ブチルチオ、イソブチルチオ、アミルチオ、イソアミルチオ、第三アミルチオ、ヘキシルチオ、シクロヘキシルチオ、ヘプチルチオ、イソヘプチルチオ、第三ヘプチルチオ、ｎ−オクチルチオ、イソオクチルチオ、第三オクチルチオ、２−エチルヘキシルチオ等のアルキルチオ基；ビニル、１−メチルエテニル、２−メチルエテニル、２−プロペニル、１−メチル−３−プロペニル、３−ブテニル、１−メチル−３−ブテニル、イソブテニル、３−ペンテニル、４−ヘキセニル、シクロヘキセニル、ビシクロヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、デセニル、ぺンタデセニル、エイコセニル、トリコセニル等のアルケニル基；ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等のアリールアルキル基；フェニル、ナフチル等のアリール基；フェノキシ、ナフチルオキシ等のアリールオキシ基；フェニルチオ、ナフチルチオ等のアリールチオ基；ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ピペリジル、ピラニル、ピラゾリル、トリアジル、ピロリル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、２−ピロリジノン−１−イル、２−ピペリドン−１−イル、２，４−ジオキシイミダゾリジン−３−イル、２，４−ジオキシオキサゾリジン−３−イル等の複素環基；フェロセニル、ニッケロセニル、コバルトニル、フェロセンアルキル、フェロセンアルコキシ等のメタロセン基；フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；アセチル、２−クロロアセチル、プロピオニル、オクタノイル、アクリロイル、メタクリロイル、フェニルカルボニル（ベンゾイル）、フタロイル、４−トリフルオロメチルベンゾイル、ピバロイル、サリチロイル、オキザロイル、ステアロイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル、カルバモイル等のアシル基；アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等のアシルオキシ基；アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、２−エチルヘキシルアミノ、ドデシルアミノ、アニリノ、クロロフェニルアミノ、トルイジノ、アニシジノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ，ナフチルアミノ、２−ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、ホルミルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ等の置換アミノ基；スルホンアミド基、スルホニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホ基、水酸基、ニトロ基、メルカプト基、トリアルキルシリル基、イミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、リン酸基等が挙げられ、これらの基は更に置換されていてもよい。また、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基等の酸性基は、無機塩基又は有機塩基と塩、錯体又は複合体を形成していてもよい。

上記一般式（I）において、Ａｎ^q-で表されるアニオンとしては、例えば、一価のものとして、塩素アニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオン、フッ素アニオン等のハロゲンアニオン；過塩素酸アニオン、塩素酸アニオン、チオシアン酸アニオン、六フッ化リン酸アニオン、六フッ化アンチモンアニオン、四フッ化ホウ素アニオン等の無機系アニオン；ベンゼンスルホン酸アニオン、トルエンスルホン酸アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ジフェニルアミン−４−スルホン酸アニオン、２−アミノ−４−メチル−５−クロロベンゼンスルホン酸アニオン、２−アミノ−５−ニトロベンゼンスルホン酸アニオン、特開平８−２５３７０５号公報、特表２００４−５０３３７９号公報、特開２００５−３３６１５０号公報、国際公開２００６／２８００６号公報等に記載されたスルホン酸アニオン等の有機スルホン酸アニオン；オクチルリン酸アニオン、ドデシルリン酸アニオン、オクタデシルリン酸アニオン、フェニルリン酸アニオン、ノニルフェニルリン酸アニオン、２，２'−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）ホスホン酸アニオン等の有機リン酸系アニオン、ビストリフルオロメチルスルホニルイミドアニオン、ビスパーフルオロブタンスルホニルイミドアニオン、パーフルオロ−４−エチルシクロヘキサンスルホネートアニオン、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸アニオン、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ガリウムアニオン、トリス（フルオロアルキルスルホニル）カルボアニオン、ジベンゾイル酒石酸アニオン等が挙げられ、二価のものとしては、例えば、ベンゼンジスルホン酸アニオン、ナフタレンジスルホン酸アニオン等が挙げられる。また、励起状態にある活性分子を脱励起させる（クエンチングさせる）機能を有するクエンチャーアニオンやシクロペンタジエニル環にカルボキシル基やホスホン酸基、スルホン酸基等のアニオン性基を有するフェロセン、ルテオセン等のメタロセン化合物アニオン等も、必要に応じて用いることができる。

上記のクエンチャーアニオンとしては、例えば、下記一般式（Ａ）、（Ｂ）又は下記式（Ｃ）〜（Ｌ）で表されるもの、特開昭６０−２３４８９２号公報、特開平５−４３８１４号公報、特開平５−３０５７７０号公報、特開平６−２３９０２８号公報、特開平９−３０９８８６号公報、特開平９−３２３４７８号公報、特開平１０−４５７６７号公報、特開平１１−２０８１１８号公報、特開２０００−１６８２３７号公報、特開２００２−２０１３７３号公報、特開２００２−２０６０６１号公報、特開２００５−２９７４０７号公報、特公平７−９６３３４号公報、国際公開９８／２９２５７号公報等に記載されたようなアニオンが挙げられる。

（式中、Ｍは、ニッケル原子、コバルト原子又は銅原子を表し、Ｒ¹⁶及びＲ¹⁷は、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基又は−ＳＯ₂−Ｇ基を表し、Ｇは、アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいアリール基、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、ピペリジノ基又はモルフォリノ基を表し、ｗ及びｔは、それぞれ独立に、０〜４の数を表す。また、Ｒ¹⁸、Ｒ¹⁹、Ｒ²⁰及びＲ²¹は、各々独立にアルキル基、アルキルフェニル基、アルコキシフェニル基又はハロゲン化フェニル基を表す。）

上記一般式（II）におけるＲ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²及びＲ¹³で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられ、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²及びＲ¹³で表されるハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル等が挙げられ、該アルキル基中のメチレン基が−Ｏ−で置換された基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、メトキシメチル、エトキシメチル、２−メトキシエチル等が挙げられ、該アルキル基中のメチレン基が−ＣＯ−で置換された基としては、例えば、アセチル、１−カルボニルエチル、アセチルメチル、１−カルボニルプロピル、２−オキソブチル、２−アセチルエチル、１−カルボニルイソプロピル等が挙げられる。
Ｒ¹⁰で表されるハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルコキシ基としては、例えば、メチルオキシ、エチルオキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、第二ブチルオキシ、第三ブチルオキシ、イソブチルオキシ等が挙げられ、Ｒ¹¹とＲ¹³とが連結して形成する環構造としては、上記一般式（Ｉ）におけるＲ¹〜Ｒ⁹のうち隣接する置換基が連結して形成する環構造として例示したものが挙げられる。

上記一般式（II’）におけるヘテロ原子を含んでもよい５員環としては、例えば、シクロペンテン環、シクロペンタジエン環、イミダゾール環、チアゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、イソキサゾール環、チオフェン環、フラン環、ピロール環等が挙げられ、ヘテロ原子を含んでもよい６員環としては、例えば、ベンゼン環、ピリジン環、ピペラジン環、ピペリジン環、モルフォリン環、ピラジン環、ピロン環、ピロリジン環等が挙げられる。

上記一般式（III）におけるＲ^a〜Ｒⁱで表される炭素原子数１〜４のアルキル基としては、上記一般式（II）の説明で例示した基が挙げられる。
上記一般式(III)におけるＺ¹で表される炭素原子数１〜８のアルキレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、メチルエチレン、ブチレン、１−メチルプロピレン、２−メチルプロピレン、１，２−ジメチルプロピレン、１，３−ジメチルプロピレン、１−メチルブチレン、２−メチルブチレン、３−メチルブチレン、４−メチルブチレン、２，４−ジメチルブチレン、１，３−ジメチルブチレン、ペンチレン、へキシレン、ヘプチレン、オクチレン、エタン−１，１−ジイル、プロパン−２，２−ジイル等が挙げられ、該アルキレン基中のメチレン基が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−Ｎ＝ＣＨ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換された基としては、メチレンオキシ、エチレンオキシ、オキシメチレン、チオメチレン、カルボニルメチレン、カルボニルオキシメチレン、メチレンカルボニルオキシ、スルホニルメチレン、アミノメチレン、アセチルアミノ、エチレンカルボキシアミド、エタンイミドイル、エテニレン、プロペニレン等が挙げられる。

本発明に係る上記一般式（Ｉ）で表される化合物としては、製造コストが低く、吸収波長特性及び分解特性に優れているので、上記一般式（Ｉ）において、Ｒ³が、上記一般式（III）で表される置換基である化合物；上記一般式（Ｉ）において、Ａｎ^q-が、アゾ結合を含まないｑ価のアニオンである化合物；下記一般式（IV）で表される化合物が好ましく、特に下記一般式（X）で表される化合物；下記一般式（XII）で表される化合物が好ましい。

（式中、環Ｄは、置換基を有していてもよい五員又は六員の芳香環又は複素環を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びｓは、上記一般式（Ｉ）と同じである。

上記一般式（IV）における環Ｄで表される置換基を有していてもよい五員の複素環としては、例えば、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾリジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、イミダゾリジン環、オキサゾール環、イソキサゾール環、イソオキサゾリジン環、チアゾール環、イソチアゾリジン環等が挙げられ、環Ｄで表される置換基を有していてもよい六員の複素環としては、例えば、ピペラジン環、モルフォリン環、チオモルフォリン環、ユロリジン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環等が挙げられ、環Ｄで表される五員又は六員の複素環は、他の環と縮合されていたり置換されていたりしていてもよく、例えば、キノリン環、イソキノリン環、インドール環、ユロリジン環、ベンゾチオフェン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾトリアゾール環、アズレン環、フタルイミド環等が挙げられる。

（式中、環Ａはベンゼン環又はナフタレン環を表し、Ｒ¹⁵は、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜４０のアリール基、炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜４０の複素環基又はアミノ基を表し、ｍは、１〜５の数を表し、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びｓは、上記一般式（Ｉ）と同じであり、環Ｄは、上記一般式（IV）と同じである。）

上記一般式（X）におけるＲ¹⁵で表されるハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜４０のアリール基、炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜４０の複素環基又はアミノ基としては、上記一般式（Ｉ）の説明で例示した基が挙げられる。

（式中、Ｒ³¹、Ｒ³²及びＲ³³は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びｓは、上記一般式（Ｉ）と同じであり、環Ａ及び環Ｄは、上記一般式（IV）と同じである。）

上記一般式（XII）におけるＲ³¹、Ｒ³²及びＲ³³で表されるハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルキル基としては、上記一般式（II）の説明で例示した基が挙げられる。

上記一般式（VI）におけるＲ¹¹⁰、Ｒ¹¹¹、Ｒ¹¹²及びＲ¹¹³で表されるハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルキル基、Ｒ¹¹⁰で表されるハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルコキシ基としては、上記一般式（II）の説明で例示した基が挙げられる。
上記一般式（VI）におけるＲ¹¹¹、Ｒ¹¹²及びＲ¹¹³で表される炭素原子数６〜１２のアリール基としては、上記一般式（Ｉ）において、炭素原子数６〜４０のアリール基として例示した基の中で、炭素原子数が所定の範囲を満足するものが挙げられる。

本発明に係る上記一般式（VII）で表される化合物としては、製造コストが低く、吸収波長特性及び分解特性に優れているので、上記一般式（VII）において、Ｒ³が、上記一般式（III）で表される置換基である化合物；下記一般式（VIII）で表される化合物が好ましく、特に下記一般式（XI）で表される化合物；下記一般式（XIII）で表される化合物が好ましい。

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びｓは、上記一般式（Ｉ）と同じであり、環Ｄは、上記一般式（IV）と同じである。）

（式中、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びｓは、上記一般式（Ｉ）と同じであり、環Ａ、Ｒ¹⁵及びｍは、上記一般式（X）と同じであり、環Ｄは、上記一般式（IV）と同じである。）

（式中、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びｓは、上記一般式（Ｉ）と同じであり、環Ａ及び環Ｄは、上記一般式（IV）と同じであり、Ｒ³¹、Ｒ³²及びＲ³³は、上記一般式（XII）と同じである。）

本発明に係る上記一般式（I）、（V）、（VII）又は（IX）で表される化合物の具体例としては、下記化合物Ｎｏ．１〜３５が挙げられる。尚、以下の例示において、一般式（Ｉ）又は（V）で表される化合物については、アニオンを省いたカチオンで示している。本発明に係る化合物において、二重結合は共鳴構造をとっていてもよい。

本発明に係る上記一般式（Ｉ）及び（VII）で表される化合物には、Ｒ⁴及びＲ⁵で表される基が結合する不斉原子をキラル中心とするエナンチオマー、ジアステレオマー又はラセミ体等の光学異性体が存在する場合がある（上記一般式（V）及び（IX）で表される化合物の場合、Ｒ¹¹⁴及びＲ⁵で表される基が結合する不斉原子がキラル中心となる）が、これらのうち、いかなる光学異性体を単離して用いても、あるいはそれらの混合物として用いてもよい。

上記一般式（Ｉ）、（V）、（VII）及び（IX）で表わされる化合物の製造方法は、特に限定されないが、例えば、上記一般式（I）で表される化合物は、ｓ＝１であるとき、下記〔化１９〕に示すように、原料となる四級塩とアミジン化合物とを反応させることによって得られる。また、上記一般式（VII）で表される化合物は、下記〔化２０〕に示すように、上記一般式（Ｉ）で表される化合物に塩基を作用させることによって得られる。尚、上記一般式（Ｉ）又は（VII）で表される化合物において、ｓ＝２又は３である場合や、上記一般式（V）及び（IX）で表される化合物を製造する場合も、下記製造方法に準じて製造することができる。

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹は、上記一般式（Ｉ）と同じである。）

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びｓは、上記一般式（Ｉ）と同じである。）

次に、基体上に光学記録層が形成された光学記録媒体の該光学記録層に用いられる、上記化合物を含有してなる本発明の光学記録材料について、以下に説明する。
本発明の光学記録材料は、上記一般式（Ｉ）、（V）、（VII）又は（IX）で表される化合物を少なくとも一種含有し、該化合物と後述する有機溶媒や各種化合物との混合物として用いられる。
また、本発明の光学記録材料において、上記一般式（Ｉ）、（V）、（VII）又は（IX）で表される化合物は、単独又は複数種を組み合わせて用いることができる。
また、本発明の光学記録媒体は、基体上に、該光学記録材料からなる光学記録層を形成して得られる。

本発明の光学記録材料の調製、及び本発明の基体上に、該光学記録材料から形成された光学記録層を有することを特徴とする光学記録媒体を製造する方法については、特に制限を受けない。一般には、メタノール、エタノール等の低級アルコール類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルジグリコール等のエーテルアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシエチル等のエステル類；アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル等のアクリル酸エステル類、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ化アルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類；メチレンジクロライド、ジクロロエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素類等の有機溶媒に、本発明に係る化合物及び必要に応じて後述の各種化合物を溶解して溶液状の光学記録材料を調製し、該光学記録材料を基体上にスピンコート、スプレー、ディッピング等で塗布する湿式塗布法を用いて本発明の光学記録媒体を製造する。上記有機溶媒を使用する場合、その使用量は、本発明の光学記録材料中における上記化合物の含有量が０．１〜１０質量％となる量にするのが好ましい。

また、本発明の光学記録材料として、本発明に係る化合物又は該化合物と後述の各種化合物との混合物を単体として用いて、本発明の光学記録媒体を製造する場合には、蒸着法、スパッタリング法等が用いられる。

上記光学記録層は薄膜として形成され、その厚さは、通常、０．００１〜１０μｍが適当であり、好ましくは０．０１〜５μｍの範囲である。

本発明の光学記録材料において、本発明に係る上記一般式（I）、（V)、（VII）又は（IX）で表される化合物を、それぞれ本発明の光学記録材料に含まれる固形分中、１０〜１００質量％含有するが好ましい。上記光学記録層は、光学記録層中に上記一般式（I）、（V)、（VII）又は（IX）で表される化合物を５０〜１００質量％含有するように形成されることが好ましく、このような化合物含有量の光学記録層を形成するために、本発明の光学記録材料は、上記一般式（I）、（V)、（VII）又は（IX）で表される化合物を、本発明の光学記録材料に含まれる固形分中、５０〜１００質量％含有するのがさらに好ましい。

本発明の光学記録材料は、本発明に係る化合物の他に、必要に応じて、シアニン化合物、アゾ系化合物、フタロシアニン系化合物、オキソノール系化合物、スクアリリウム系化合物、インドール化合物、スチリル系化合物、ポルフィン系化合物、アズレニウム系化合物、クロコニックメチン系化合物、ピリリウム系化合物、チオピリリウム系化合物、トリアリールメタン系化合物、ジフェニルメタン系化合物、テトラヒドロコリン系化合物、インドフェノール系化合物、アントラキノン系化合物、ナフトキノン系化合物、キサンテン系化合物、チアジン系化合物、アクリジン系化合物、オキサジン系化合物、スピロピラン系化合物、フルオレン系化合物、ローダミン系化合物等の、通常光学記録層に用いられる化合物；ポリエチレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート等の樹脂類；界面活性剤；帯電防止剤；滑剤；難燃剤；ヒンダードアミン等のラジカル捕捉剤；フェロセン誘導体等のピット形成促進剤；分散剤；酸化防止剤；架橋剤；耐光性付与剤等を含有してもよい。さらに、本発明の光学記録材料は、一重項酸素等のクエンチャーとして芳香族ニトロソ化合物、アミニウム化合物、イミニウム化合物、ビスイミニウム化合物、遷移金属キレート化合物等を含有してもよい。本発明の光学記録材料において、これらの各種化合物は、本発明の光学記録材料に含まれる固形分中、０〜５０質量％の範囲となる量で使用されることが好ましい。

本発明の光学記録材料には、ジイモニウム化合物を含有させてもよい。該ジイモニウム化合物を含有させることにより、本発明の光学記録媒体の経時的な吸光度残存率の低下をより効果的に防ぐことができる。また該ジイモニウム化合物を含有させる場合の含有量は、本発明の光学記録材料に含まれる固形分中、０〜９９質量％の範囲となる量が好ましく、より好ましくは、５〜５０質量％である。

このような光学記録層を設層する上記基体の材質は、書き込み（記録）光および読み出し（再生）光に対して実質的に透明なものであれば特に制限はなく、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネートなどの樹脂、ガラスなどが用いられる。また、その形状は、用途に応じ、テープ、ドラム、ベルト、ディスク等の任意の形状のものを使用できる。

また、上記光学記録層上には、金、銀、アルミニウム、銅等を用いて蒸着法あるいはスパッタリング法により反射膜を形成することもできるし、アクリル樹脂、紫外線硬化性樹脂等により保護層を形成することもできる。

本発明の光学記録材料は、記録、再生に半導体レーザを用いる光学記録媒体に好適であり、特に高速記録タイプのＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ±Ｒ、ＨＤ−ＤＶＤ―Ｒ、ＢＤ−Ｒ等の公知の単層式、二層式、多層式光ディスクに好適である。

以下、実施例、比較例及び評価例をもって本発明を更に詳細に説明する。しかしながら、本発明は以下の実施例等によって何ら制限を受けるものではない。
下記製造例１及び２は、それぞれ本発明に係る上記一般式（Ｉ）で表される化合物Ｎｏ．１、及び上記一般式（VII）で表される化合物Ｎｏ．２の製造例を示し、下記実施例１〜６は、上記一般式（Ｉ）で表される化合物Ｎｏ．１、上記一般式（VII）で表される化合物Ｎｏ．２、上記一般式（Ｉ）で表される化合物Ｎｏ．１９〜Ｎｏ．２２をそれぞれ含有する光学記録材料Ｎｏ．１〜Ｎｏ．６の調製例及び該光学記録材料を用いた光学記録媒体Ｎｏ．１〜Ｎｏ．６の製造例を示す。

下記評価例１−１〜１−６並びに比較評価例１−１及び１−２では、上記一般式（Ｉ）で表される化合物Ｎｏ．１、上記一般式（VII）で表される化合物Ｎｏ．２、上記一般式（Ｉ）で表される化合物Ｎｏ．１９〜Ｎｏ．２２並びに比較化合物Ｎｏ．１及びＮｏ．２についての熱分解挙動を、窒素気流中、１０℃／分の昇温速度における示差熱分析測定により評価を行った。それらの結果を〔表４〕に示す。

下記評価例２−１〜２−６では、実施例１〜６で得られた光学記録媒体Ｎｏ．１〜Ｎｏ．６について、短波長レーザによる記録及び再生の適否の評価を行った。

〔製造例１〕化合物Ｎｏ．１の六フッ化リン酸塩の製造
＜ステップ１＞四級塩の製造
窒素置換した反応フラスコに２−ナフチルヒドラジン７９．１ｇ及びエタノール２７４．１ｇを仕込み、窒素気流下、５５℃で４−フェニルブタン−２−オン８８．９ｇを滴下した。３０分撹拌した後、発熱に注意しながら硫酸４９ｇを滴下して、１時間還流した。冷却後にトルエン１０００ｇ及び水１０００ｇを加え、続いて５０％水酸化ナトリウム水溶液を加えて、ｐＨを８以上にして油水分離を行った。油層を温水５００ｇで３回洗浄し、脱水、脱溶媒を行った。得られた残渣をトルエン１３７ｇから晶析を行い、得られた結晶を濾取し、８０℃で真空乾燥を行い、白色結晶を７２．４ｇ（収率５３．４％）を得た。得られた白色結晶１３．６ｇ、ヨウ化メチル２８．４ｇ及びメタノール２１．４ｇを反応フラスコに仕込み、オートクレーブ中１００℃で１５時間反応させた。脱溶媒後、酢酸エチル１００ｇとメタノール６．０ｇの混合溶媒で晶析した。結晶を濾取し、１４０℃で真空乾燥を行い、目的物の粗結晶（ＨＰＬＣ純度６０％）を６．９ｇ（収率：３２．３％）得た。

＜ステップ２＞化合物Ｎｏ．１の六フッ化リン酸塩の製造
窒素置換した反応フラスコに、ステップ１で得られた四級塩４４．４ｇ、ジフェニルホルムアミジン塩酸塩３１．０ｇ、ピリジン７．９ｇ及びジメチルアセトアミド１１５ｇを仕込み、６０℃で１１時間撹拌した。室温に冷却後、クロロホルム１２０ｇ及び六フッ化リン酸カリウム２２．１ｇを水３５０ｇに溶解させたものを加えて塩交換を行なった。油層を洗浄後、油層を分離し、溶媒を留去した。得られた残さをメタノール１５０ｇから再結晶を行った。ろ過、洗浄、乾燥を経て、目的物である化合物Ｎｏ．１の六フッ化リン酸塩を得た（収率４８％）。得られた化合物の同定は、λｍａｘ、ε、分解点、ＩＲ分析及び¹Ｈ−ＮＭＲ分析により行った。それらの結果を〔表１〕〜〔表３〕に示す。

〔製造例２〕化合物Ｎｏ．２の製造
製造例１のステップ１で得られた四級塩１１０ｇ、水酸化ナトリウム２４．７ｇ及びトルエン１６１ｇを仕込み、室温で撹拌し、水１６１ｇを加えた。室温で１．５時間撹拌後、クロロホルム２００ｇ及び水２００ｇを加えて油水分離を行い、油層から溶媒を留去した。メタノール／水混合溶媒から再結晶を行い、ろ過、洗浄、乾燥を経て、目的物を得た（収率６８％）。得られた化合物の同定は、λｍａｘ、ε、分解点、ＩＲ分析及び¹Ｈ−ＮＭＲ分析により行った。それらの結果を〔表１〕〜〔表３〕に示す。

〔実施例１〜６〕
上記一般式（Ｉ）で表される化合物Ｎｏ．１、上記一般式（VII）で表される化合物Ｎｏ．２及び上記一般式（Ｉ）で表される化合物Ｎｏ．１９〜Ｎｏ．２２を、それぞれ化合物濃度が濃度１．０質量％となるように２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールに溶解して、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール溶液として光学記録材料Ｎｏ．１〜Ｎｏ．６を得た。チタンキレート化合物（Ｔ−５０：日本曹達社製）を塗布、加水分解して下地層（０．０１μｍ）を設けた直径１２ｃｍのポリカーボネートディスク基板上に、上記の光学記録材料Ｎｏ．１〜Ｎｏ．６をスピンコーティング法にて塗布して、厚さ１００ｎｍの光学記録層を形成し光学記録媒体Ｎｏ．１〜Ｎｏ．６をそれぞれ得た。

〔評価例１−１〜１−６並びに比較評価例１−１及び１−２〕
上記一般式（Ｉ）で表される化合物Ｎｏ．１、上記一般式（VII）で表される化合物Ｎｏ．２及び上記一般式（Ｉ）で表される化合物Ｎｏ．１９〜Ｎｏ．２２並びに比較化合物Ｎｏ．１及びＮｏ．２について、熱分解挙動の評価を行なった。評価は、窒素気流中及び空気中、１０℃／分の昇温速度における示差熱分析測定により行い、熱分解温度を、ＤＴＡの発熱のピークトップ温度で比較評価し、急峻性を、ＤＴＡの発熱のピークトップ温度と４０％質量減少時点の温度の幅で評価した。評価結果を以下の〔表４〕に示す。

〔表４〕から明らかなように、本発明に係る化合物は、低温で分解し、熱分解が緩やかにおこる、すなわち蓄熱性が低く熱干渉がおさえられるため、高速記録に適することが確認できた。一方、比較化合物は、分解点が高く、蓄熱性が高く、良好な熱分解挙動を示さなかった。

〔評価例２−１〜２−６〕
実施例１〜６で得られた光学記録媒体Ｎｏ．１〜Ｎｏ．６について、ＵＶスペクトル吸収を測定した。測定結果を〔表５〕に示す。

〔表５〕から明らかなように、本発明の光学記録材料により形成された光学記録層を有する光学記録材媒体は、ＵＶスペクトル吸収において３８０〜６２０ｎｍ近くにλｍａｘを示し、いずれの光学記録媒体も、３８０〜６２０ｎｍのレーザ光により記録が可能であることが確認できた。

Claims (14)

1. 下記一般式（Ｉ）で表される化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする光学記録材料。
   

   

   （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁶及びＲ⁷は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜４０のアリール基、炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜４０の複素環基又はアミノ基を表し、Ｒ³は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜４０のアリール基、炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基又は下記一般式（III）で表される基を表し、Ｒ⁴は、下記一般式（II）又は下記一般式（II’）で表される基を表し、Ｒ⁵は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜４０のアリール基、炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基、下記一般式（II）、（II’）又は（III）で表される基を表し、Ｒ⁸及びＲ⁹は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数６〜４０のアリール基、炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜４０の複素環基を表し、Ｒ¹〜Ｒ⁹のうち隣接する置換基は、互いに連結して環構造を形成していてもよく、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷で表される炭素原子数１〜１０のアルキル基、及びＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹で表される炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基中のメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−Ｎ＝ＣＨ−又は−ＣＨ＝ＣＨ―で置換されていてもよい。ｓは１〜３の整数であり、Ａｎ^q-はｑ価のアニオンを表し、ｑは１又は２であり、ｐは電荷を中性に保つ係数を表す。）
   

   

   （上記一般式（II）において、ＬとＴとの間の結合は二重結合、共役二重結合又は三重結合であり、Ｌは炭素原子を表し、Ｔは炭素原子、酸素原子又は窒素原子を表し、ｘ、ｙ及びｚは、それぞれ独立に、０又は１を表し、ａは０〜４の数を表し、Ｒ¹⁰は、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｒ¹¹、Ｒ¹²及びＲ¹³は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ¹¹とＲ¹³とは、結合して環構造を形成していてもよい。上記一般式（II’）において、Ｌ’とＴ’との間の結合は二重結合又は共役二重結合であり、Ｌ’は炭素原子を表し、Ｔ’は、炭素原子、酸素原子又は窒素原子を表し、ａ’は０〜４の数を表し、Ｌ’とＴ’とを含む環は、ヘテロ原子を含んでもよい五員環、ヘテロ原子を含んでもよい六員環、ナフタレン環、キノリン環、イソキノリン環、アントラセン環又はアントラキノン環を表し、これらＬ’とＴ’とを含む環は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基又はアルコキシ基で置換されていてもよい。）
   

   

   （式中、Ｒ^a〜Ｒⁱは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１〜４のアルキル基を表し、該アルキル基中のメチレン基は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置換されていてもよく、Ｚ¹は、直接結合又は炭素原子数１〜８のアルキレン基を表し、該アルキレン基中のメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−Ｎ＝ＣＨ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されていてもよく、Ｍは、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｏｓ、Ｍｎ、Ｒｕ、Ｓｎ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｐｔ又はＩｒを表す。）
2. 上記一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（IV）で表される化合物である
   請求項１記載の光学記録材料。
   

   

   （式中、環Ｄは、置換基を有していてもよい五員又は六員の芳香環又は複素環を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びｓは、上記一般式（Ｉ）と同じである。）
3. 下記一般式（Ｖ）で表される化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする光学記録材料。
   

   

   （式中、Ｒ¹¹⁴は、下記一般式（VI）で表される置換基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びｓは、上記一般式（Ｉ）と同じである。）
   

   

   （式中、Ｌ’’とＴ’’との間の結合は二重結合又は三重結合であり、Ｌ’’は炭素原子を表し、Ｔ’’は、炭素原子、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を表し、ｘ’’、ｙ’’及びｚ’’は、それぞれ独立に、０又は１を表し、ｓ’’は０〜４の数を表し、Ｒ¹¹⁰は、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルコキシ基を表し、Ｒ¹¹¹、Ｒ¹¹²及びＲ¹¹³は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルキル基又は炭素原子数６〜１２のアリール基を表す。）
4. 上記一般式（Ｉ）中、Ｒ³が、上記一般式（III）で表される置換基である請求項１記載の光学記録材料。
5. 上記一般式（Ｉ）中、Ａｎ^q-が、アゾ結合を含まないｑ価のアニオンである請求項１記載の光学記録材料。
6. 下記一般式（VII）で表される化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする光学記録材料。
   

   

   （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁹及びｓは、上記一般式（Ｉ）と同じである。）
7. 上記一般式（VII）で表される化合物が、下記一般式（VIII）で表される化合物である請求項６記載の光学記録材料。
   

   

   （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びｓは、上記一般式（Ｉ）と同じであり、環Ｄは、上記一般式（IV）と同じである。）
8. 下記一般式（IX）で表される化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする光学記録材料。
   

   

   （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びｓは、上記一般式（Ｉ）と同じであり、Ｒ¹¹⁴は、上記一般式（V）と同じである。）
9. 上記一般式（VII）中、Ｒ³が、上記一般式（III）で表される置換基である請求項６記載の光学記録材料。
10. 上記一般式（IV）で表される化合物が、下記一般式（Ｘ）で表される化合物である請求項２記載の光学記録材料。
    

    

    （式中、環Ａはベンゼン環又はナフタレン環を表し、Ｒ¹⁵は、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜４０のアリール基、炭素原子数７〜４０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜４０の複素環基又はアミノ基を表し、ｍは、１〜５の数を表し、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びｓは、上記一般式（Ｉ）と同じであり、環Ｄは、上記一般式（IV）と同じである。）
11. 上記一般式（VIII）で表される化合物が、下記一般式（XI）で表される化合物である請求項７記載の光学記録材料。
    

    

    （式中、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びｓは、上記一般式（Ｉ）と同じであり、環Ａ、Ｒ¹⁵及びｍは、上記一般式（X）と同じであり、環Ｄは、上記一般式（IV）と同じである。）
12. 上記一般式（IV）で表される化合物が、下記一般式（XII）で表される化合物である請求項２記載の光学記録材料。
    

    

    （式中、Ｒ³¹、Ｒ³²及びＲ³³は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子で置換されてもよい炭素原子数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びｓは、上記一般式（Ｉ）と同じであり、環Ａ及び環Ｄは、上記一般式（IV）と同じである。）
13. 上記一般式（VIII）で表される化合物が、下記一般式（XIII）で表される化合物である請求項７記載の光学記録材料。
    

    

    （式中、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びｓは、上記一般式（Ｉ）と同じであり、環Ａ及び環Ｄは、上記一般式（IV）と同じであり、Ｒ³¹、Ｒ³²及びＲ³³は、上記一般式（XII）と同じである。）
14. 基体上に、請求項１〜１３のいずれかに記載の光学記録材料から形成された光学記録層を有することを特徴とする光学記録媒体。