JP4953819B2 - 塩化エチルの精製方法およびそれを用いるフルオロエタンの製造方法 - Google Patents
塩化エチルの精製方法およびそれを用いるフルオロエタンの製造方法 Download PDFInfo
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Description
【0001】
本発明は塩化エチルの精製方法およびその方法を用いるフルオロエタンの製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
塩化エチル(CH3CH2Cl)の製造方法としては、例えば、(1)エチルアルコールと塩化亜鉛の混合物に塩化水素を熱時吹き込む方法や、(2)塩化アルミニウムを触媒としてエチレンに塩化水素を付加する方法(化学大辞典1(共立出版))等が知られている。
【0003】
また、例えば、粗塩化エチルの精製方法としては、粗塩化エチルを濃硫酸および水で洗浄後、アルコールに吸収させ、これを微熱すると容易に塩化エチルが離脱し、これを濃硫酸で乾燥して塩化エチルを得る方法(化学大辞典1(共立出版))等が知られている。
【0004】
得られた塩化エチルは安定性や品質を確保するため、一般的には安定剤が添加され、安定剤が数百質量ppm程度添加される。また、塩化エチルは水分やアルコールにより加水分解されることが知られている。
【0005】
ところで、例えば、塩化エチルを原料として製造されるフルオロエタン(CH3CH2F)は、例えば、低温用冷媒やエッチングガスとして注目されている。
【0006】
フルオロエタンの製造方法としては、従来より次のような方法が知られている。
【0007】
(1)塩素化フッ素化炭化水素を触媒の存在下、水素で還元して製造する方法(特開平7−126197号)等、(2)エチレンにフッ化水素を付加する方法(化学大辞典7(共立出版))等が知られている。一方、塩化エチルとフッ化水素を気相でフッ素化触媒を用いるフルオロエタンの製造法に関しては殆ど知られていない。
【0008】
例えば、上記(1)を用いる製造方法は、原料である塩素化フッ素化炭化水素と水素の反応による過剰水素化反応や分解反応により、ハイドロカーボン(HC)類、ハイドロクロロカーボン(HCC)類、クロロフルオロカーボン(CFC)類、ハイドロクロロフルオロカーボン(HCFC)類等の飽和化合物や不飽和化合物等の様々な不純物が生成し、分離精製が極めて困難である。
【0009】
上記(2)の方法は引火性、爆発範囲を有するエチレンを原料とするため、安全性を確保するための設備費が多額になり、経済的な問題を有する。
【0010】
また、原料として塩化エチルとフッ化水素をフッ素化触媒の存在下で反応させる方法は、例えば、三価の酸化クロムを主成分とする触媒を用いた場合、脱ハロゲン反応や脱水素反応等によりアセチレンやエチレン等が生成し、安全性や経済性に問題があり、技術的課題を残している。
【0011】
前述のごとく、反応原料の1つである塩化エチル中には分解による酸分発生等を抑えるために安定剤が含まれる。例えば、安定剤としては、ニトロ基を有する化合物として、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロクレゾール、ニトロトルエン、ニトロフェノール等が、また水酸基を有する化合物としては、フェノール、クレゾール、2,6−ジ−ブチル−p−クレゾール、アミノメチルフェノール等が挙げられ、これらの安定剤が含まれない場合は、塩化エチルは安定性に欠け、分解による酸分の発生等が進行し、また含有される水分により加水分解が生じる。
【0012】
しかしながら、塩化エチル中に含まれる安定剤や水分は、例えば、フルオロエタンを製造する際に用いられるフッ素化触媒の活性劣化の原因となり、触媒寿命が短くなる等の故に好ましくなく、安定剤や水分が含まれないことが望ましい。
【0013】
そこで、反応前に安定剤を除去すればよいが、例えば従来の分別蒸留等による除去方法では、操作が煩雑であり、多額の費用を要するという問題がある。
【特許文献】
【0014】
【特許文献1】
特開平7−126197号
【非特許文献】
【0015】
【非特許文献1】
化学大辞典1(共立出版)
【非特許文献2】
化学大辞典7(共立出版)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0016】
本発明は、このような背景の下になされたものであって、塩化エチル中に含まれる安定剤や水分を除去することができ、操作が容易で工業的に実施可能な塩化エチルの精製方法と、この精製方法により得られた塩化エチルを用いるフルオロエタンの製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0017】
本発明者は、前記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、安定剤および/または水分を含む粗塩化エチルを平均細孔径が3〜11Åの範囲であるゼオライトおよび/または平均細孔径が3.4〜11Åの範囲である炭素質吸着剤と液相で接触させることにより、含まれる安定剤および/または水分を低減することができることを見出した。さらに、安定剤が低減された塩化エチルをフッ化水素と気相でフッ素化触媒の存在下に反応させることにより、効率的な、かつ、触媒寿命を長くする等の利点を有する経済的なフルオロエタンの製造方法が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0018】
よって、本発明は、例えば、以下の[1]〜[14]に示される事項からなる。
【0019】
[1]安定剤および/または水分を含む粗塩化エチルを平均細孔径が3〜11Åの範囲であるゼオライトおよび/または平均細孔径が3.4〜11Åの範囲である炭素質吸着剤と液相で接触させ、粗塩化エチル中に含まれる安定剤および/水分を低減させることを特徴とする塩化エチルの精製方法であって、前記安定剤が、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロクレゾール、ニトロトルエンおよびニトロフェノールから選ばれるニトロ基を有する化合物、並びにフェノール、クレゾール、2,6−ジ−ブチル−p−クレゾールおよびアミノメチルフェノールから選ばれる水酸基を有する化合物のうちの少なくとも1つである、塩化エチルの精製方法。
【0020】
[2]前記安定剤が、ニトロメタンおよびクレゾールから選ばれる化合物である上記[1]に記載の塩化エチルの精製方法。
【0021】
[3]前記ゼオライトのSi/Al比が2以下である上記[1]または[2]に記載の塩化エチルの精製方法。
【0022】
[4]前記ゼオライトが、モレキュラーシーブス4A、モレキュラーシーブス5A、モレキュラーシーブス10Aおよびモレキュラーシーブス13Xからなる群より選ばれる少なくとも1種である上記[1]〜[3]のいずれかに記載の塩化エチルの精製方法。
【0023】
[5]前記炭素質吸着剤が、モレキュラーシービングカーボン4Aおよび/またはモレキュラーシービングカーボン5Aである上記[1]または[2]に記載の塩化エチルの精製方法。
【0024】
[6]安定剤および/または水分を含む粗塩化エチルを前記ゼオライトおよび/または炭素質吸着剤と接触させる温度が−20〜+60℃の範囲である上記[1]〜[5]のいずれかに記載の塩化エチルの精製方法。
【0025】
[7]安定剤および/または水分を含む粗塩化エチルを前記ゼオライトおよび/または炭素質吸着剤と接触させる圧力が0〜1MPaの範囲である上記[1]〜[6]のいずれかに記載の塩化エチルの精製方法。
【0026】
[8]上記[1]〜[7]のいずれかに記載の精製方法により得られる安定剤および/または水分が低減された塩化エチルを原料として用いることを特徴とするフルオロエタンの製造方法。
【0027】
[9]次の3つの工程を含むことを特徴とするフルオロエタンの製造方法。
【0028】
(1)上記[1]〜[7]のいずれかに記載の精製方法により粗塩化エチル中の安定剤および/または水分を低減する工程、
(2)(1)の工程を経た塩化エチルを、フッ素化触媒の存在下に、気相で、フッ化水素と反応させて主としてフルオロエタンを得る工程、
(3)(2)で得られたフルオロエタンを含む混合ガスを分離し、未反応物の少なくとも一部を反応工程(2)に循環する工程。
【0029】
[10]前記(1)の工程を経て塩化エチル中に含まれる安定剤の総量が20質量ppm以下に低減された塩化エチルを用いて工程(2)を行なう上記[9]に記載のフルオロエタンの製造方法。
【0030】
[11]前記(1)の工程を経て塩化エチル中に含まれる安定剤の総量が10質量ppm以下に低減された塩化エチルを用いる上記[10]に記載のフルオロエタンの製造方法。
【0031】
[12]前記(1)の工程を経て塩化エチル中に含まれる水分が20質量ppm以下に低減された塩化エチルを用いて工程(2)を行なう上記[9]〜[11]のいずれかに記載のフルオロエタンの製造方法。
【0032】
[13]前記(2)に用いる工程のフッ素化触媒が、Cu、Mn、Zn、Pb、Ag、Bi、Co、Fe、NiおよびCからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を含み、反応温度が100〜300℃の範囲である上記[9]〜[12]のいずれかに記載のフルオロエタンの製造方法。
【0033】
[14]前記(2)の工程に用いるフッ素化触媒が活性炭に担持された担持型触媒である上記[9]〜[13]のいずれかに記載のフルオロエタンの製造方法。
【発明の効果】
【0034】
本発明によれば、安定剤および/または水分を含む塩化エチルから簡便な方法で効率よく安定剤および水分を除去し、触媒の劣化等を防止して、経済的にフルオロエタンを製造することができ、得られたフルオロエタンは低温用冷媒やエッチングガスとして使用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0035】
以下、本発明の好ましい態様について詳しく説明する。
【0036】
前述したように、塩化エチルの製造方法としては、例えば、(1)エチルアルコールと塩化亜鉛の混合物に塩化水素を熱時吹き込む方法や、(2)塩化アルミニウムを触媒としてエチレンに塩化水素を付加する方法等が知られているが、前述の理由等により数百質量ppm程度の安定剤が含まれており、安定剤は微量であっても触媒活性劣化原因となるため、フッ素化反応を行なう前にこれをできる限り低減することが望ましい。
【0037】
本発明者は、操作が容易で経済的で工業的に実施可能である塩化エチル中に含まれる安定剤を低減する方法を開発すべく鋭意検討した結果、安定剤を含む塩化エチルを平均細孔径が3〜11Åであるゼオライトおよび/または平均細孔径が3.4〜11Åである炭素質吸着剤と液相で接触させることにより、安定剤の量を低減することができることを見出した。
【0038】
本発明の塩化エチルの精製方法に用いられるゼオライトは、3〜11Åの平均細孔径、好ましくは3.4〜10Åの平均細孔径を有するものであるのがよい。平均細孔径が11Åより大きいゼオライトでは、塩化エチルの吸着量が多くなり、平均細孔径が3Åより小さいゼオライトは安定剤を吸着する能力が小さくなり、好ましくない。
【0039】
また、ゼオライトのSi/Al比は2以下であることが好ましく、Si/Al比が2より大きい場合には、安定剤が選択的に吸着されないことがある。ゼオライトとしては、モレキュラーシーブス4A(MS−4A)、モレキュラーシーブス5A(MS−5A)、モレキュラーシーブス10A(MS−10A)およびモレキュラーシーブス13X(MS−13X)からなる群より選ばれる少なくとも1種であるのが好ましい。これらのゼオライトを用いることにより、塩化エチル中の水分も同時に低減することができる。水分を含有するまま加熱すると加水分解を起こすため、水分も低減することが好ましく、具体的には塩化エチル中の水分は20質量ppm以下が好ましい。
【0040】
炭素質吸着剤は、3.4〜11Åの平均細孔径を有するものがよく、平均細孔径が11Åより大きい炭素質吸着剤は、塩化エチルの吸着量が多くなり、平均細孔径が3.4Åより小さい炭素質吸着剤は安定剤を吸着する能力が小さくなり、好ましくない。炭素質吸着剤としては、モレキュラーシービングカーボン4Aおよび/またはモレキュラーシービングカーボン5Aが好ましい。
【0041】
吸着剤の再生を考慮するとゼオライトと炭素質吸着剤はそれぞれ単独で使用することが好ましいが、混合して使用することもできる。ゼオライトと炭素質吸着剤を混合する割合は、特に制限はないが、塩化エチル中の水分をも低減することを考慮すると、混合比はゼオライトに富む比率が好ましい。
【0042】
安定剤を含む塩化エチルを、ゼオライトおよび/または炭素質吸着剤と液相で接触させる方法としては、回分式または連続式の公知の方法を用いることができる。工業的には吸着剤を固定床にて連続的に流通させる方法が好ましく、液体基準の空間速度(LHSV)は安定剤の濃度および塩化エチルの処理量により適宣選択できるが、通常は1〜80Hr−1の範囲が好ましい。また、塩化エチル中の安定剤を低減する方法を工業的に実施するためには、吸着塔を2塔設け、2塔を切り替えて連続的に精製を行なう方法を用いてもよい。
【0043】
塩化エチルを液相で精製する際の処理温度としては、−20〜+60℃の範囲が好ましく、0〜50℃の範囲がより好ましい。処理温度が60℃より高いと、装置の加熱や耐圧等の点で設備費が増大することや分解反応等が起こることがあり、−20℃より低い温度では、冷却設備等が必要となることがあり、好ましくない。また、圧力は0〜1MPaの範囲が好ましく、より好ましくは0〜0.6MPaの範囲がよい。圧力が1MPaより大きい場合には、設備の耐圧等の点で経済的でない。
【0044】
以上に説明したように、本発明の精製方法を用いることにより、塩化エチル中に含まれる安定剤および/または水分を低減することができる。本発明の精製方法は、特に、安定剤がニトロ基または水酸基を有する化合物である場合に好ましく用いられ、ニトロ基を有する化合物としては、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロクレゾール、ニトロトルエンおよびニトロフェノール等が挙げられる。また、水酸基を有する化合物としては、フェノール、クレゾール、2,6−ジ−ブチル−p−クレゾールおよびアミノメチルフェノール等が挙げられる。
【0045】
安定剤を含む塩化エチルを前記のゼオライトおよび/または前記の炭素質吸着剤と液相で、前記の条件下で接触させ、安定剤の総量が20質量ppm以下に低減された塩化エチルを得ることができる。好ましくは、安定剤の総量が10質量ppm以下に低減された塩化エチル、さらに安定剤の総量が5質量ppm以下に低減された塩化エチルを得ることも可能である。
【0046】
次に、本発明のフルオロエタンの製造方法について説明する。
【0047】
本発明のフルオロエタンの製造方法は、次の3つの工程を含むことを特徴とする。
【0048】
(1)前記の精製方法により粗塩化エチル中の安定剤および/または水分を低減する工程、
(2)(1)の工程を経た塩化エチルを、フッ素化触媒の存在下に、気相で、フッ化水素と反応させて主としてフルオロエタンを得る工程、
(3)(2)で得られたフルオロエタンを含む混合ガスを分離し、未反応物の少なくとも一部を反応工程(2)に循環する工程。
【0049】
(1)の工程を経て得られた塩化エチルは、前記ニトロ基または水酸基を有する化合物の総量が20質量ppm以下に低減された塩化エチルであることが好ましく、さらに好ましくは前記ニトロ基または水酸基を有する化合物の総量が10質量ppm以下に低減されていることがよく、特に好ましくは前記ニトロ基または水酸基を有する化合物の総量が5質量ppm以下に低減されていることがよい。ニトロ基および水酸基を有する化合物の総量が20質量ppm以下に低減された塩化エチルを原料としてフルオロエタンを製造すると、製造工程で使用する触媒の長寿命化が図れ、より効率的かつ経済的に主としてフルオロエタンを含む混合物を製造することができる。
【0050】
製造工程で使用する触媒は、Cu、Mn、Zn、Pb、Ag、Bi、Co、Fe、NiおよびCからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を含むフッ素化触媒であって、これらは担持型触媒または塊状型触媒であるのが好ましい。例えば、一般にハロゲン交換反応に用いられる触媒である、三価の酸化クロムを主成分とする塊状型触媒や担持型触媒(例えば、担体としてアルミナ、フッ化アルミ等を用いたもの)を本反応に用いた場合、前述のごとく脱ハロゲン反応や脱水素反応等によりアセチレンやエチレンが生成し、安全性や経済上の問題があるため、好ましくない。本発明では、特に活性炭を担体に用いてこれに上記の金属を担持した担持型触媒を用いるのが好ましく、金属の担持率としては1質量%以上が好ましい。かかる触媒の調製例としては、通常の方法が適用できるが、一例を示すと、活性炭に塩化コバルト水溶液を含浸したのち、乾燥し、不活性ガス中で熱処理を行なって調製し、反応を行なう前にフッ化水素で活性化するのが好ましい。反応温度は100〜350℃が好ましく、150〜300℃がより好ましい。反応温度が350℃より高いと副生物であるアセチレン等の生成量が増大することがあり、100℃より低いと目的とする反応が進行しないことがある。反応圧力は0〜1MPaが好ましく、1MPaを超えると装置の耐圧等の設備費増大で経済的でない。フッ化水素と塩化エチルのモル比(HF/CH3CH2Cl)は3〜20が好ましく、20を超えると循環フッ化水素が多くなって経済的でなく、3未満では触媒寿命が短くなって経済的でない。
【0051】
前記の反応工程で得られたフルオロエタンを含む混合物は蒸留精製工程に導かれ、蒸留精製工程では主として塩化水素とフルオロエタンの少なくとも90%以上が低沸留分として塔頂から分離され、主として未反応のフッ化水素と塩化エチルの少なくとも95%が高沸留分として塔底から分離される。塔頂から分離された塩化水素とフルオロエタンは別の蒸留塔にて分離され、塩化水素は別の用途で使用され、目的物のフルオロエタンは精製され、製品として回収される。フルオロエタンの精製には、例えば、モレキュラーシーブスや炭素質吸着剤を用いて水分や微量の有機不純物等を除去する工程を設けるのが好ましい。一方、塔底から分離されたフッ化水素と塩化エチルの少なくとも一部はそのまま反応工程に循環して再利用するのが経済的である。
【実施例】
【0052】
以下、実施例および比較例により本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【0053】
原料例1
市販の塩化エチルをガスクロマトグラフ(カラム:キャピラリー式/FID)で分析したところ、安定剤としてニトロメタン(CH3NO2)が212質量ppm含まれ、また水分計(カールフィシャー型)にて水分を分析したところ52質量ppm含まれており、塩化エチルの純度は99.95質量%であった。
【0054】
原料例2
市販の塩化エチルを原料例1と同様にして分析したところ、安定剤としてクレゾールが含まれ、その含有量は138質量ppmであり、また水分が59質量ppm含まれており、塩化エチルの純度は99.96質量%であった。
【0055】
触媒例1
触媒担体として、活性炭(クラレケミカル(株)製、クラレコール4GA)を使用。
【0056】
塩化第2鉄(FeCl3・6H2O)32.07gに純水28.5gを加えて、湯浴上で50〜60℃に加熱して溶解し、溶液を室温まで冷却した。これに、前処理として120℃で3時間真空乾燥処理を行なった前記の活性炭57.97gを浸漬して、活性炭に前記の溶液を全量吸収させた。次いで、濡れた状態の活性炭を90℃の湯浴上で乾燥し、乾固した。その後、乾固した触媒を乾燥器中で100℃で3時間乾燥した。次に、触媒をインコネル製反応器に充填し、窒素ガスを流しながら温度を230℃に保持し、窒素希釈したフッ化水素(HF)気流下で、次いで100%フッ化水素気流下でフッ素化処理(触媒の活性化)を行い、触媒の調製を行った。
【0057】
触媒例2
触媒担体として、活性炭(クラレケミカル(株)製、クラレコール4GA)を使用。
【0058】
塩化第2鉄(FeCl3・6H2O)24.28gと塩化第2銅(CuCl2)8.12gに純水28.5gを加えて、湯浴上で50〜60℃に加熱して溶解し、溶液を室温まで冷却した。これに、触媒例1に示した前処理を施した活性炭57.97gを浸漬して、活性炭に前記の溶液を全量吸収させた。次いで、濡れた状態の活性炭を90℃の湯浴上で乾燥し、乾固した。その後、乾固した触媒を乾燥器中で100℃で3時間乾燥した。次に、触媒をインコネル製反応器に充填し、触媒例1と同一の条件および操作で触媒の活性化を行い、触媒の調製を行った。
【0059】
実施例1
内容積200mlのステンレス製シリンダーに、ゼオライト[モレキュラーシーブス5A(ユニオン昭和(株)製:平均細孔径4.2Å、Si/Al比=1)]を30g充填し、真空乾燥後、シリンダーを冷却しながら、原料例1に示した塩化エチルを100g充填し、温度を23℃(室温)に保ちながら時々撹拌し、約6時間後に液相の一部を採取し、前記のガスクロマトグラフィーおよび水分計にて分析した。
【0060】
その結果、塩化エチル中の安定剤であるニトロメタンは2質量ppmに低減され、また含まれる水分は2質量ppm以下であることが認められた。
【0061】
実施例2
内容積200mlのステンレス製シリンダーに、炭素質吸着剤[モレキュラーシービングカーボン5A(武田薬品工業(株)製:平均細孔径5Å)]を20g充填し、真空乾燥後、シリンダーを冷却しながら原料例2に示した塩化エチルを80g充填し、温度を23℃(室温)に保ちながら時々撹拌し、約5時間後に液相の一部を採取し、前記のガスクロマトグラフィーにて分析した。
【0062】
その結果、塩化エチル中の安定剤であるクレゾールは3質量ppmに低減されたことが認められた。
【0063】
実施例3
内容積200mlのステンレス製シリンダーに、ゼオライト[モレキュラーシーブス13X(ユニオン昭和(株)製:平均細孔径10Å、Si/Al比=0.81)]15gと実施例2に記載したモレキュラーシービングカーボン5Aを10g混合して充填し、真空乾燥後、シリンダーを冷却しながら原料例1に示した塩化エチルを100g充填し、温度を24℃(室温)に保ちながら時々撹拌し、約6時間後に液相の一部を採取し、前記のガスクロマトグラフィーにて分析した。
【0064】
その結果、塩化エチル中の安定剤であるニトロメタンは3質量ppmに低減されたことが認められた。
【0065】
比較例1
吸着剤として炭素質吸着剤[活性炭:粒状白さぎKL(武田薬品工業(株)製:平均細孔径35Å)]を20g充填した以外は実施例2と同一の操作および条件で処理し、分析を行った。
【0066】
その結果、塩化エチル中の安定剤であるクレゾールは128質量ppmであり、低減効果はほとんど認められなかった。
【0067】
実施例4
内容積2Lのステンレス製シリンダーに前記のモレキュラーシーブス13Xを1.9L充填し、原料例1に示した塩化エチルを23℃、圧力0.2MPaの条件下に液相で2L/hrの線速で連続供給した。供給開始後、約3時間後の出口液中の分析を行ったところ、安定剤であるニトロメタンは2質量ppmに低減され、水分も2質量ppm以下であった。この出口液を別容器に捕集した。
【0068】
実施例5
内径1インチ、長さ1mのインコネル600型反応器に触媒例1で示した触媒60mlを充填し、窒素ガスを流しながら温度180℃、圧力0.2MPaに保持し、次いでHFを55.38NL/hrで供給し、窒素ガスの供給を停止した。その後、実施例4で得られた塩化エチルを4.62NL/hrで供給し、反応を開始した。反応開始後、約6時間後に出口ガス中の酸分をアルカリ水溶液で洗浄し、ガスクロマトグラフィーにて分析した。結果を下記に示す。
【0069】
CH3CH2F 19.2247 CH≡CH 0.0526
CH3CH2Cl 80.7175 その他 0.0052
(単位:vol%)
その後、反応を継続し、約100時間後および200時間後に前記と同様に分析したところ、塩化エチルの転化率、フルオロエタンの収率、選択率ともほとんど上記の結果と変わらず、触媒の劣化はほとんど認められなかった。
【0070】
実施例6
触媒として触媒例2で示した触媒80mlを充填した以外は実施例5と同一の操作および条件で反応を行い、反応開始後、約5時間後に出口ガスをアルカリ水溶液で洗浄し、ガスクロマトグラフィーにて分析した。結果を下記に示す。
【0071】
CH3CH2F 19.4261 CH≡CH 0.0487
CH3CH2Cl 80.5197 その他 0.0055
(単位:vol%)
【0072】
比較例2
内径1インチ、長さ1mのインコネル600型反応器に触媒例1で示した触媒60mlを充填し、窒素ガスを流しながら温度180℃、圧力0.2MPaに保持し、次いでHFを55.38NL/hrで供給し、窒素ガスの供給を停止した。その後、原料例1で示した塩化エチル(安定剤:212質量ppm含有)を4.62NL/hrで供給し、反応を開始した。反応開始後、約6時間後に出口ガスをアルカリ水溶液で洗浄し、ガスクロマトグラフィーにて分析した。結果を下記に示す。
【0073】
CH3CH2F 19.0878 CH≡CH 0.0546
CH3CH2Cl 80.8468 その他 0.0108
(単位:vol%)
さらに反応を継続し、約100時間後に前記と同様に分析した。結果を下記に示す。
【0074】
CH3CH2F 15.7568 CH≡CH 0.0478
CH3CH2Cl 84.1792 その他 0.0162
(単位:vol%)
上記の結果から明らかなように、触媒には安定剤による劣化が認められる。
【産業上の利用可能性】
【0075】
本発明は、高純度のフルオロエタンを経済的に製造し、得られたフルオロエタンを低温用冷媒やエッチングガスとして使用することを可能にするので、産業上有用である。
Claims (14)
- 安定剤および/または水分を含む粗塩化エチルを平均細孔径が3〜11Åの範囲であるゼオライトおよび/または平均細孔径が3.4〜11Åの範囲である炭素質吸着剤と液相で接触させ、粗塩化エチル中に含まれる安定剤および/または水分を低減させることを特徴とする塩化エチルの精製方法であって、前記安定剤が、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロクレゾール、ニトロトルエンおよびニトロフェノールから選ばれるニトロ基を有する化合物、並びにフェノール、クレゾール、2,6−ジ−ブチル−p−クレゾールおよびアミノメチルフェノールから選ばれる水酸基を有する化合物のうちの少なくとも1つである、塩化エチルの精製方法。
- 前記安定剤が、ニトロメタンおよびクレゾールから選ばれる化合物である請求項1に記載の塩化エチルの精製方法。
- 前記ゼオライトのSi/Al比が2以下である請求項1または2に記載の塩化エチルの精製方法。
- 前記ゼオライトが、モレキュラーシーブス4A、モレキュラーシーブス5A、モレキュラーシーブス10Aおよびモレキュラーシーブス13Xからなる群より選ばれる少なくとも1種である請求項1〜3のいずれかに記載の塩化エチルの精製方法。
- 前記炭素質吸着剤が、モレキュラーシービングカーボン4Aおよび/またはモレキュラーシービングカーボン5Aである請求項1または2に記載の塩化エチルの精製方法。
- 安定剤および/または水分を含む粗塩化エチルを前記ゼオライトおよび/または炭素質吸着剤と接触させる温度が−20〜+60℃の範囲である請求項1〜5のいずれかに記載の塩化エチルの精製方法。
- 安定剤および/または水分を含む粗塩化エチルを前記ゼオライトおよび/または炭素質吸着剤と接触させる圧力が0〜1MPaの範囲である請求項1〜6のいずれかに記載の塩化エチルの精製方法。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の精製方法により得られる安定剤および/または水分が低減された塩化エチルを原料として用いることを特徴とするフルオロエタンの製造方法。
- 次の3つの工程を含むことを特徴とするフルオロエタンの製造方法。
(1)請求項1〜7のいずれかに記載の精製方法により粗塩化エチル中の安定剤および/または水分を低減する工程、
(2)(1)の工程を経た塩化エチルを、フッ素化触媒の存在下に、気相で、フッ化水素と反応させて主としてフルオロエタンを得る工程、
(3)(2)で得られたフルオロエタンを含む混合ガスを分離し、未反応物の少なくとも一部を反応工程(2)に循環する工程。 - 前記(1)の工程を経て塩化エチル中に含まれる安定剤の総量が20質量ppm以下に低減された塩化エチルを用いて工程(2)を行う請求項9に記載のフルオロエタンの製造方法。
- 前記(1)の工程を経て塩化エチル中に含まれる安定剤の総量が10質量ppm以下に低減された塩化エチルを用いる請求項10に記載のフルオロエタンの製造方法。
- 前記(1)の工程を経て塩化エチル中に含まれる水分が20質量ppm以下に低減された塩化エチルを用いて工程(2)を行う請求項9〜11のいずれかに記載のフルオロエタンの製造方法。
- 前記(2)の工程に用いるフッ素化触媒が、Cu、Mn、Zn、Pb、Ag、Bi、Co、Fe、NiおよびCからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を含み、反応温度が100〜300℃の範囲である請求項9〜12のいずれかに記載のフルオロエタンの製造方法。
- 前記(2)の工程に用いるフッ素化触媒が活性炭に担持された担持型触媒である請求項9〜13のいずれかに記載のフルオロエタンの製造方法。
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