JP4952522B2 - 階調低減装置、階調低減方法、プログラム、及び記録媒体 - Google Patents
階調低減装置、階調低減方法、プログラム、及び記録媒体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4952522B2 JP4952522B2 JP2007291528A JP2007291528A JP4952522B2 JP 4952522 B2 JP4952522 B2 JP 4952522B2 JP 2007291528 A JP2007291528 A JP 2007291528A JP 2007291528 A JP2007291528 A JP 2007291528A JP 4952522 B2 JP4952522 B2 JP 4952522B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gradation
- value
- gray
- image
- grayscale image
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000009467 reduction Effects 0.000 title claims description 101
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 94
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 35
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 12
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 claims description 7
- 210000003918 fraction a Anatomy 0.000 claims 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 23
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 16
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 11
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 6
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 6
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 241001270131 Agaricus moelleri Species 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Processing Or Creating Images (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Facsimile Image Signal Circuits (AREA)
- Controls And Circuits For Display Device (AREA)
Description
エンボス化粧材は、代表的に、エンボス絵柄パターンを有する原版フィルムを表面に感光性レジスト膜を塗布した金属ロール表面に焼き付けて、現像してレジスト膜を形成し、腐食、レジスト剥離を行うフォトエッチング法によって作成されるエンボスロールを用いて基材シートにエンボス加工を施し、製造していた(例えば、特許文献1参照)。
図7は、エッチング処理を示す図である。図7に示すように、エッチングとは、金属面などに対し、化学薬品などの腐食を利用して表面を整形する技術であり、エッチングマスク12の形に応じた生成が可能である。
図8は、多段エッチング処理を示す図である。図8を示すように、多段エッチングとは、何度もエッチング処理を重ね合わせ、擬似的に連続調を再現する手法である。ハイトフィールド情報を基に実物の形状を生成するには、多段エッチングは同じ材料に対し5回から7回程度が現状エッチングの限度である。即ち、6階調から8階調程度の階調が表現可能である。
図9は、グレースケール画像21とそのヒストグラム22を示す図である
図10は、単純な階調の低減処理を施したグレースケール画像23を示す図である。
「ハイトフィールド情報」は、縦横の格子状のデータ構造で各格子に高さ方向の値を持つ情報であり、形状の凹凸情報を格納する。
「グレースケール画像」は、白と黒に2色に加え中間調の灰色を含んだ画像を扱うためには、各点に濃度の情報である濃淡値を有する。このように階調情報を有した画像データである。
「ヒストグラム」は、横軸に濃淡値、縦軸に濃淡値の出現頻度を表したグラフである。
第4の発明は、コンピュータを第1の発明の階調低減装置として機能させるプログラムを記録した記録媒体である。
階調低減手段113は、出現頻度の低い濃淡値を除去したグレースケール画像に対し、階調を低減する。
3次元スキャナとして、レーザーを利用した非接触式計測装置や、針を利用した接触式計測装置がある。また、2次元スキャナを応用することも可能である。2次元スキャナは、本来、2次元平面上の反射率から、対象物の濃淡値を測定する装置であるが、皮革表面の形状のような微細な凹凸形状を測定した場合、この凹凸形状の傾きによって反射率が変化することから、この変化により対象物の凹凸形状を擬似的に取得することができる。ただし、2次元スキャナを適用した場合には、3次元スキャナ等と比較して、システムを安価に構成可能とするという効果があるが、測定精度は低くなる。
ROMは、不揮発性メモリであり、コンピュータのブートプログラムやBIOS等のプログラム、データ等を恒久的に保持している。
RAMは、揮発性メモリであり、記憶部202、ROM、記録媒体等からロードしたプログラム、データ等を一時的に保持するとともに、制御部201が各種処理を行う為に使用するワークエリアを備える。
これらの各プログラムコードは、制御部201により必要に応じて読み出されてRAMに移され、CPUに読み出されて各種手段として実行される。
グレースケール画像データベース302は、ハイトフィールド・グレースケール画像変換手段111、出現頻度の低い濃淡値除去手段112、階調低減手段113に相当する処理を行い、生成された階調が低減されたグレースケール画像320からなる。
アプリケーションプログラム392は、階調低減装置100が行う後述の処理に相当する実行可能プログラムであり、ハイトフィールド・グレースケール画像変換手段111、出現頻度の低い濃淡値除去手段112、階調低減手段113等に相当する階調低減プログラムである。
図4は、階調低減装置100におけるハイトフィールド・グレースケール画像変換手段111、出現頻度の低い濃淡値除去手段112、階調低減手段113等に相当するハイトフィールド情報に対し階調を低減する処理の処理手順を示すフローチャートである。
例えば、ハイトフィールド情報310の高さ情報の最大値が300、最小値は−100、ある格子の高さの値が200、グレースケールの階調数が256段階だった場合、高さ情報200は、正規化すると0.5(=200/(300−(−100))となり、階調数256を掛けることで、濃淡値は128となる。このような高さ情報を基にグレースケール画像に変換する処理を全格子に施すことで、256階調のグレースケール画像を生成する。
図10は、単純な階調の低減処理を施したグレースケール画像23とそのヒストグラム24を示す図である
図11は、出現頻度の低い濃淡値を除去したグレースケール画像25とそのヒストグラム26を示す図である。
図10に示すように、元のグレースケール画像21のヒストグラム22の分布は、もっとも頻繁に出現する濃淡値は、中央あたりの濃淡値であり、両端の明るい濃淡値や暗い濃淡値の値は画像全体の中ではあまり使われていない濃淡値である。
このヒストグラム22に対し、濃淡値を均等に分割し、ポスタリゼーションした場合、明るい濃淡値や暗い濃淡値の部分は画像内に少ないにも関わらず多くの階調が利用されていることになる。
階調低減方法には、一般的な[1]単純な階調低減方法、[2]面積一定階調低減方法、及び本発明の特徴点である[3]面積可変階調低減方法がある。
例えば、256階調のグレースケール画像21を8階調に低減する場合、256階調のグレースケール画像21のヒストグラム22を作成し、そのヒストグラム22の横軸の濃淡値を8分割し、その分割した領域の濃淡値の平均値を新たな濃淡値とし、その平均値を分割した範囲の新たな濃淡値として置き換え、8階調に低減したグレースケール画像23とヒストグラム24が生成される。
図12に示すように、例えば、256階調のグレースケール画像21を8階調に低減する場合、256階調のグレースケール画像21のヒストグラム22を作成し、そのヒストグラム22のグラフの面積が一定になるように8分割し、その分割した領域の濃淡値の平均値を新たな濃淡値とし、その平均値を分割した領域の新たな濃淡値として置き換え、8階調に低減したグレースケール画像27とヒストグラム28が生成される。
図13は、単純な階調低減方法、面積一定階調低減方法による階調を低減した結果画像、ヒストグラムを示す図である。
図13に示すように、例えば、元グレースケール画像21´に対し、[1]、[2]の手法を適用すると、単純な階調低減手法によるグレースケール画像23´と面積一定階調低減方法で階調を低減したグレースケール画像27´を生成する。これらの画像を比較すると、単純な階調低減手法によるグレースケール画像23´の方が元グレースケール画像21´の階調をより再現している。
[3]面積可変階調低減方法:画像の特性を考慮し、[1]単純な階調低減方法により階調を低減したグレースケール画像と、[2]面積一定階調低減方法で階調を低減したグレースケール画像を補間して、階調が低減されたグレースケール画像320を生成する。
図5は、面積可変階調低減方法による階調を低減する処理の処理手順を示すフローチャートである。
例えば、分割された領域をそれぞれA1〜A8、B1〜B8とし、各濃淡値の出現数をa1〜a8、b1〜b8とし、任意に設定した補間パラメタをT(0≦T≦1)と定義すると、グレースケール画像23「A」とグレースケール画像27「B」を補間した第3のグレースケール画像「C」は、次のように表せる。
第3のグレースケール画像の領域C1の濃淡値の出現数=(1−T)×a1+T×b1
・・・
第3のグレースケール画像の領域C8の濃淡値の出現数=(1−T)×a8+T×b8
(ただし、C1〜C8とは、補間したグレースケール画像Cの濃淡値の幅である各領域を示す。)
制御部201は、補間パラメタTの値に依存した[1]単純な階調低減方法により8階調に低減したグレースケール画像23´「A」と[2]面積一定階調低減方法により8階調に低減したグレースケール画像27´「B」を補間するグレースケール画像「C」を生成し、グレースケール画像データベース302に階調が低減されたグレースケール画像320として保持する。
図14は、エンボス化粧材の製造工程を示す図である。
図15は、エンボス版のエンボスロール50の作成工程(フォトエッチング工程)を示す図である。
金属メッキ層52をとしては、表面硬度、ブラストに対する耐磨耗性、賦型樹脂や保存中の耐蝕性などからニッケル、クロム、ニッケルとクロムの積層が好ましい。
エンボスロール50表面に形成してなる金属メッキ層52の表面に、レジストマスクフィルム(レジスト膜)53を出力して、表面を走査する光ビーム55を、(1)エンボス加工用のパターン画像データの作成工程で作成されたパターン画像データで変調しつつ露光し、焼き付け、レジストマスクフィルム(レジスト膜)を形成する。
腐食して蝕刻を行うと、エンボスロール50の表面はレジストマスクフィルム53で被覆されていない部分をエッチングされ、さらに蝕刻を進めると、凹部54と凸部55が形成され、多段状の斜面が形成される。
エンボスロール50表面のレジストマスクフィルム53を剥離、除去する。
エンボスロール50表面全体にクロムメッキ56を施すと先のパターン画像に対応する凸状部が形成されたエンボスロール50が得られる。
更に、ハイトフィールドが有する高さ方向の情報を効率的に量子化することでハイトフィールドの形の変化を抑えることを可能とする。
また、任意に入力する補間パラメタに依存した面積可変階調低減方法による補間画像を生成することにより、画像の特性にあわせた階調の低減が可能となる。
101………サーバ
111………ハイトフィールド・グレースケール画像変換手段
112………出現頻度の低い濃淡値除去手段
113………階調低減手段
201………制御部
202………記憶部
301………ハイトフィールドデータベース
310………ハイトフィールド情報
302………グレースケール画像データベース
320………階調が低減されたグレースケール情報
10………ハイトフィールド
11、21、21´………グレースケール画像
12………エッチングマスク
22、22´………グレースケール画像のヒストグラム
23、23´………8階調に階調を低減したグレースケール画像
24、24´………8階調に階調を低減した画像のヒスグラム
25………出現頻度の低い濃淡値を除去したグレースケール画像
26………出現頻度の低い濃淡値を除去した画像のヒスグラム
27、27´………面積一定階調低減方法によるグレースケール画像
28、28´………面積一定階調低減方法による階調を低減した画像のヒスグラム
50………エンボスロール
51………ロール基材
52………金属メッキ層
53………レジストマスクフィルム(レジスト膜)
56………クロムメッキ
Claims (10)
- 画像データに対する格子毎に高さ情報を有するハイトフィールド情報を記憶するデータベースを備え、コンピュータからなる、画像処理における前記ハイトフィールド情報に対し階調を低減する階調低減装置であって、
前記データベースから取得した前記ハイトフィールド情報の高さ情報を基にグレースケール画像に変換する変換手段と、
前記グレースケール画像を基に濃淡値に対する出現頻度を表わすヒストグラムを生成し、前記ヒストグラムの両端の濃淡値に対して所定の閾値以下の出現頻度の濃淡値を除去する除去手段と、
前記除去手段により出現頻度の低い濃淡値を除去したグレースケール画像に対し、階調を低減したグレースケール画像を生成する階調低減手段と、
を具備し、
前記階調低減手段は、
前記除去手段により出現頻度の低い濃淡値を除去したグレースケール画像に対し、前記濃淡値に対する出現頻度を表わすヒストグラムを生成し、横軸の濃淡値を、低減する階調数で均等に分割し、分割した領域の濃淡値の平均値を新たな濃淡値として算出し、算出した値を範囲内の濃淡値と置き換え、階調を低減したグレースケール画像を生成する第1の階調低減手段、
を備えることを特徴とする階調低減装置。 - 前記階調低減手段は、
前記除去手段により出現頻度の低い濃淡値を除去したグレースケール画像に対し、前記濃淡値に対する出現頻度を表わすヒストグラムを生成し、前記ヒストグラムの濃淡値の出現数が一定になるように階調数で分割し、分割した領域の濃淡値の平均値を新たな濃淡値として算出し、算出した値を範囲内の濃淡値として置き換え、階調を低減したグレースケール画像を生成する第2の階調低減手段、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の階調低減装置。 - 前記階調低減手段は、
前記第1の階調低減手段により生成した第1のグレースケール画像とそのヒストグラムと、前記第2の階調低減手段により生成した第2のグレースケール画像とそのヒストグラムを基に、任意に設定した補間パラメタの値に依存した前記第1のグレースケール画像と前記第2のグレースケール画像を補間するグレースケール画像を生成する第3の階調低減手段、
を備えることを特徴とする請求項2に記載の階調低減装置。 - 前記第3の階調低減手段は、
前記第1の階調低減手段により階調を低減した第1のグレースケール画像を生成し、前記第1のグレースケール画像に対する前記濃淡値に対する出現頻度を表わすヒストグラムを生成、表示する第1の生成手段と、
前記第2の階調低減手段により階調を低減した第2のグレースケール画像を生成し、前記第2のグレースケール画像に対する前記濃淡値に対する出現頻度を表わすヒストグラムを生成、表示する第2の生成手段と、
補間パラメタT(0≦T≦1)を入力するパラメタ入力手段と、
生成した前記第1のグレースケール画像のヒストグラムと、前記第2のグレースケール画像のヒストグラムに対して、横軸の濃淡値を低減する階調数nで分割された領域に対して各濃淡値の出現数をa1〜an、b1〜bnとし、前記第1のグレースケール画像と前記第2のグレースケール画像を補間して生成する第3のグレー画像Cの各領域Cmの濃淡値の出現数=(1−T)×am+T×bm(1≦m≦n)を算出する算出手段と、
算出した第3のグレースケール画像の各領域Cmの濃淡値の出現数を基に、元画像である前記除去手段により出現頻度の低い濃淡値を除去したグレースケール画像を前記階調数分の領域に分割し、分割した領域内の濃淡値を基に算出した新たな濃淡値を該領域の濃淡値として置き換え、前記第1のグレースケール画像と前記第2のグレースケール画像を補間した第3のグレースケール画像を生成する第3の生成手段と、
を備えることを特徴とする請求項3に記載の階調低減装置。 - 対象物の画像データに対する格子毎に高さ情報を有するハイトフィールド情報を記憶するデータベースを備え、コンピュータからなる、画像処理における前記ハイトフィールド情報に対し階調を低減する階調低減装置における階調低減方法であって、
前記階調低減装置が実行する、
前記データベースから取得した前記ハイトフィールド情報の高さ情報を基にグレースケール画像に変換する変換工程と、
変換した前記グレースケール画像に対して、所定の閾値以下の出現頻度の濃淡値を除去する除去工程と、
前記除去工程により出現頻度の低い濃淡値を除去したグレースケール画像に対し、階調を低減したグレースケール画像を生成する階調低減工程と、
を具備し、
前記階調低減工程は、
前記除去工程により出現頻度の低い濃淡値を除去したグレースケール画像に対し、前記濃淡値に対する出現頻度を表わすヒストグラムを生成し、横軸の濃淡値を、低減する階調数で均等に分割し、分割した領域の濃淡値の平均値を新たな濃淡値として算出し、算出した値を範囲内の濃淡値と置き換え、階調を低減したグレースケール画像を生成する第1の階調低減工程、
を備えることを特徴とする階調低減方法。 - 前記階調低減工程は、
前記除去工程により出現頻度の低い濃淡値を除去したグレースケール画像に対し、前記濃淡値に対する出現頻度を表わすヒストグラムを生成し、前記ヒストグラムの濃淡値の出現数が一定になるように階調数で分割し、分割した領域の濃淡値の平均値を新たな濃淡値として算出し、算出した値を範囲内の濃淡値として置き換え、階調を低減したグレースケール画像を生成する第2の階調低減工程、
を備えることを特徴とする請求項5に記載の階調低減方法。 - 前記階調低減工程は、
前記第1の階調低減工程により生成した第1のグレースケール画像とそのヒストグラムと、前記第2の階調低減工程により生成した第2のグレースケール画像とそのヒストグラムを基に、任意に設定した補間パラメタの値に依存した前記第1のグレースケール画像と前記第2のグレースケール画像を補間するグレースケール画像を生成する第3の階調低減工程、
を備えることを特徴とする請求項6に記載の階調低減方法。 - 前記第3の階調低減工程は、
前記第1の階調低減工程により階調を低減した第1のグレースケール画像を生成し、前記第1のグレースケール画像に対する前記濃淡値に対する出現頻度を表わすヒストグラムを生成、表示する第1の生成工程と、
前記第2の階調低減工程により階調を低減した第2のグレースケール画像を生成し、前記第2のグレースケール画像に対する前記濃淡値に対する出現頻度を表わすヒストグラムを生成、表示する第2の生成工程と、
補間パラメタT(0≦T≦1)を入力するパラメタ入力工程と、
生成した前記第1のグレースケール画像のヒストグラムと、前記第2のグレースケール画像のヒストグラムに対して、横軸の濃淡値を低減する階調数nで分割された領域に対して各濃淡値の出現数をa1〜an、b1〜bnとし、前記第1のグレースケール画像と前記第2のグレースケール画像を補間して生成する第3のグレー画像Cの各領域Cmの濃淡値の出現数=(1−T)×am+T×bm(1≦m≦n)を算出する算出工程と、
算出した第3のグレースケール画像の各領域Cmの濃淡値の出現数を基に、元画像である前記除去工程により出現頻度の低い濃淡値を除去したグレースケール画像を前記階調数分の領域に分割し、分割した領域内の濃淡値を基に算出した新たな濃淡値を該領域の濃淡値として置き換え、前記第1のグレースケール画像と前記第2のグレースケール画像を補間した第3のグレースケール画像を生成する第3の生成工程と、
を備えることを特徴とする請求項7に記載の階調低減方法。 - コンピュータを請求項1乃至請求項4いずれかに記載の階調低減装置として機能させるプログラム。
- コンピュータを請求項1乃至請求項4いずれかに記載の階調低減装置として機能させるプログラムを記録した記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007291528A JP4952522B2 (ja) | 2007-11-09 | 2007-11-09 | 階調低減装置、階調低減方法、プログラム、及び記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007291528A JP4952522B2 (ja) | 2007-11-09 | 2007-11-09 | 階調低減装置、階調低減方法、プログラム、及び記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009116765A JP2009116765A (ja) | 2009-05-28 |
JP4952522B2 true JP4952522B2 (ja) | 2012-06-13 |
Family
ID=40783821
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007291528A Active JP4952522B2 (ja) | 2007-11-09 | 2007-11-09 | 階調低減装置、階調低減方法、プログラム、及び記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4952522B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5849821B2 (ja) * | 2012-03-29 | 2016-02-03 | 大日本印刷株式会社 | 陰影ムラ除去装置、陰影ムラ除去方法、及びプログラム |
JP6287458B2 (ja) * | 2014-03-27 | 2018-03-07 | 大日本印刷株式会社 | マスクデータ作成装置、マスクデータ作成方法、プログラム、記録媒体 |
CN112488954B (zh) * | 2020-12-07 | 2023-09-22 | 江苏理工学院 | 基于图像灰度级的自适应图像增强的方法及装置 |
CN114820533B (zh) * | 2022-05-01 | 2024-08-13 | 福建省产品质量检验研究院(福建省缺陷产品召回技术中心) | 家具板表面耐磨花纹保留率分析计算方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3188313B2 (ja) * | 1992-07-20 | 2001-07-16 | 大日本印刷株式会社 | 木目エンボス版の製造方法 |
JP3506200B2 (ja) * | 1997-02-05 | 2004-03-15 | シャープ株式会社 | 位置合わせ装置 |
JP4206449B2 (ja) * | 2002-10-09 | 2009-01-14 | 株式会社ジオ技術研究所 | 3次元電子地図データの生成方法 |
-
2007
- 2007-11-09 JP JP2007291528A patent/JP4952522B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009116765A (ja) | 2009-05-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4396896B2 (ja) | 閾値マトリクス生成方法、閾値マトリクス生成装置および記録媒体 | |
JP4952522B2 (ja) | 階調低減装置、階調低減方法、プログラム、及び記録媒体 | |
JPH0774950A (ja) | 印刷シンボルのモデル化を用いたハーフトーン画像生成方法 | |
JPH11239275A (ja) | 画像処理方法および装置 | |
JP5673230B2 (ja) | 分版装置、分版方法、プログラム、記憶媒体 | |
JP2002064706A (ja) | 画像処理装置および画像処理方法 | |
JP5381487B2 (ja) | 出力装置、出力方法及び出力プログラム | |
JP5199897B2 (ja) | 画像処理装置、画像処理装置の制御方法、コンピュータプログラム及びコンピュータ可読記憶媒体 | |
JP5499812B2 (ja) | 分版装置、分版方法、エンボス版製造装置、エンボス版製造方法、エンボス版、シート | |
JP5630173B2 (ja) | 艶ムラ除去用ノイズデータ生成装置、艶ムラ除去装置、艶ムラ除去用ノイズデータ生成方法、艶ムラ除去方法、及びプログラム | |
JP2008158936A (ja) | 3次元スキャンデータ補正システム、方法、及びプログラム | |
JP2007282013A (ja) | 画像処理装置、画像処理方法およびプログラム | |
JP2003152999A (ja) | 画像処理方法および画像処理装置 | |
JP6287458B2 (ja) | マスクデータ作成装置、マスクデータ作成方法、プログラム、記録媒体 | |
JP6805735B2 (ja) | 再現色プロファイル補正システム、再現色プロファイル補正方法及びプログラム | |
WO2014097892A1 (ja) | 画像処理装置、画像処理方法、およびプログラム | |
JP4099481B2 (ja) | 画像処理方法、画像処理装置及びコンピュータプログラム | |
JP2005039483A (ja) | 画像処理装置、画像処理方法およびその方法をコンピュータに実行させるためのプログラム | |
JP3399341B2 (ja) | 画像処理方法および画像処理装置 | |
JPH10191060A (ja) | 画像処理装置 | |
JP4587153B2 (ja) | 画像処理装置及び方法 | |
Panda et al. | Overlapped Feature-Preserving Multiscale Error Diffusion For Digital Halftoning | |
JP6248504B2 (ja) | マスクデータ作成装置、マスクデータ作成方法、プログラム、記録媒体、フォトマスク製造方法、エンボス版製造方法、シート製造方法 | |
JP5673231B2 (ja) | エッチングシミュレーション装置、エッチングシミュレーション方法、プログラム、記憶媒体 | |
JP4185720B2 (ja) | 画像処理装置及び画像処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100721 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110811 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110816 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111006 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120214 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120227 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4952522 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150323 Year of fee payment: 3 |