JP4949263B2 - ペースト組成物およびそれを用いた太陽電池素子 - Google Patents

ペースト組成物およびそれを用いた太陽電池素子 Download PDF

Info

Publication number
JP4949263B2
JP4949263B2 JP2007540904A JP2007540904A JP4949263B2 JP 4949263 B2 JP4949263 B2 JP 4949263B2 JP 2007540904 A JP2007540904 A JP 2007540904A JP 2007540904 A JP2007540904 A JP 2007540904A JP 4949263 B2 JP4949263 B2 JP 4949263B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aluminum
paste composition
hydroxide
semiconductor substrate
silicon semiconductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2007540904A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2007046214A1 (ja
Inventor
高潮 頼
隆 和辻
晴三 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyo Aluminum KK
Original Assignee
Toyo Aluminum KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyo Aluminum KK filed Critical Toyo Aluminum KK
Publication of JPWO2007046214A1 publication Critical patent/JPWO2007046214A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4949263B2 publication Critical patent/JP4949263B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F77/00Constructional details of devices covered by this subclass
    • H10F77/20Electrodes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F77/00Constructional details of devices covered by this subclass
    • H10F77/20Electrodes
    • H10F77/206Electrodes for devices having potential barriers
    • H10F77/211Electrodes for devices having potential barriers for photovoltaic cells
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/02Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
    • C03C8/04Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing zinc
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/14Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/14Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
    • C03C8/16Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions with vehicle or suspending agents, e.g. slip
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/14Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
    • C03C8/18Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions containing free metals
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/22Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F10/00Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells
    • H10F10/10Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells having potential barriers
    • H10F10/14Photovoltaic cells having only PN homojunction potential barriers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/52PV systems with concentrators
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/545Microcrystalline silicon PV cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/546Polycrystalline silicon PV cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/547Monocrystalline silicon PV cells

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Sustainable Energy (AREA)

Description

この発明は、一般的にはペースト組成物およびそれを用いた太陽電池素子に関し、特定的には、結晶系シリコン太陽電池を構成するシリコン半導体基板の上に電極を形成する際に用いられるペースト組成物、およびそれを用いた太陽電池素子に関するものである。
シリコン半導体基板の上に電極が形成された電子部品として、特開2000−90734号公報(特許文献1)、特開2004−134775号公報(特許文献2)に開示されているような太陽電池素子が知られている。
図1は、太陽電池素子の一般的な断面構造を模式的に示す図である。
図1に示すように、太陽電池素子は、一般的に厚みが220〜300μmのp型シリコン半導体基板1を用いて構成される。シリコン半導体基板1の受光面側には、厚みが0.3〜0.6μmのn型不純物層2と、その上に反射防止膜3とグリッド電極4が形成されている。
また、p型シリコン半導体基板1の裏面側には、アルミニウム電極層5が形成されている。アルミニウム電極層5は、アルミニウム粉末、ガラスフリットおよび有機質ビヒクルからなるアルミニウムペースト組成物をスクリーン印刷等によって塗布し、乾燥した後、660℃(アルミニウムの融点)以上の温度にて短時間焼成することによって形成されている。この焼成の際にアルミニウムがp型シリコン半導体基板1の内部に拡散することにより、アルミニウム電極層5とp型シリコン半導体基板1との間にAl−Si合金層6が形成されると同時に、アルミニウム原子の拡散による不純物層としてp+層7が形成される。このp+層7の存在により、電子の再結合を防止し、生成キャリアの収集効率を向上させるBSF(Back Surface Field)効果が得られる。
たとえば、特開平5−129640号公報(特許文献3)に開示されているように、アルミニウム電極層5とAl−Si合金層6とから構成される裏面電極8を酸等により除去し、新たに銀ペースト等により集電極層を形成した太陽電池素子が実用化されている。しかしながら、裏面電極8を除去するために用いられる酸を廃棄処理する必要があり、その除去工程のために工程が煩雑になる等の問題がある。このような問題を回避するために、最近では、裏面電極8を残して、そのまま集電極として利用して太陽電池素子を構成することが多くなってきている。
ところで、最近では太陽電池のコストダウンを図るためにシリコン半導体基板を薄くすることが検討されている。しかし、シリコン半導体基板が薄くなれば、シリコンとアルミニウムとの熱膨張係数の差に起因してアルミニウムペースト組成物の焼成後に、裏面電極層が形成された裏面側が凹状になるようにシリコン半導体基板が変形し、反りが発生する。反りが発生すると、太陽電池の製造工程でシリコン半導体基板の割れ等が発生しやすくなる。一方、反りの発生を抑制するために、アルミニウムペースト組成物の塗布量を減らし、裏面電極層を薄くする方法がある。しかしながら、アルミニウムペースト組成物の塗布量を減らすと、焼成時において裏面電極層にブリスターやアルミニウムの玉が発生しやくなる。発生したブリスターやアルミニウムの玉の箇所に応力が集中し、これによるシリコン半導体基板の割れも発生している。その結果、太陽電池の製造歩留まりが低下するという問題があった。
これらの問題を解決する方法として、種々のアルミニウムペースト組成物が提案されている。
特開2004−134775号公報(特許文献2)には、焼成時の電極膜の焼成収縮が小さく、Siウエハの反りを抑えることができる導電性ペーストとして、アルミニウム粉末、ガラスフリットおよび有機質ビヒクルに加えて、該有機質ビヒクルに難溶解性または不溶解性の粒子を含有し、該粒子は有機化合物粒子および炭素粒子のうちの少なくとも1種であるものが開示されている。
また、特開2005−191107号公報(特許文献4)には、裏面電極においてアルミニウムの玉・突起の形成や電極の膨れを抑制した高特性の裏面電極を得るとともに、半導体基板の反りを低減した高い生産性を有する太陽電池素子の製造方法が開示されており、その製造方法において用いられるアルミニウムペーストとして、体積基準による累積粒度分布の平均粒径D50が6〜20μmかつ、平均粒径D50の半分以下の粒径のものが全粒度分布に対して占める割合が15%以下であるアルミニウム粉末を含むものが開示されている。
しかしながら、これらのアルミニウムペーストを用いても、焼成時において裏面電極層におけるブリスターやアルミニウムの玉の発生と、焼成後のシリコン半導体基板の変形とをともに抑制することはできなかった。
特開2000−90734号公報 特開2004−134775号公報 特開平5−129640号公報 特開2005−191107号公報
そこで、この発明の目的は、上記の課題を解決することであり、焼成時においてブリスターやアルミニウムの玉が裏面電極層に発生するのを抑制するとともに、シリコン半導体基板の変形も低減することが可能なペースト組成物と、その組成物を用いて形成された電極を備えた太陽電池素子を提供することである。
本発明者らは、従来技術の問題点を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定の組成を有するペースト組成物を使用することにより、上記の目的を達成できることを見出した。この知見に基づいて、本発明に従ったペースト組成物は、次のような特徴を備えている。
この発明に従ったペースト組成物は、シリコン半導体基板の上に電極を形成するためのペースト組成物であって、アルミニウム粉末と、有機質ビヒクルと、水酸化物とを含む。
また、この発明のペースト組成物においては、水酸化物は、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウムおよび水酸化バリウムからなる群より選ばれた少なくとも1種であるのが好ましい。
さらに、この発明のペースト組成物は、水酸化物を0.1質量%以上25.0質量%以下含むのが好ましい。
なお、この発明のペースト組成物は、ガラスフリットをさらに含むのが好ましい。
この発明に従った太陽電池素子は、上述のいずれかの特徴を有するペースト組成物をシリコン半導体基板の上に塗布した後、焼成することにより形成した電極を備える。
以上のように、本発明によれば、アルミニウム粉末、有機質ビヒクルに加えて、さらに水酸化物を含有するペースト組成物を使用することにより、シリコン半導体基板の裏面に形成されるアルミニウム電極層にブリスターやアルミニウムの玉が発生するのを抑制するとともに、シリコン半導体基板の変形も低減することができ、太陽電池素子の製造歩留まりを向上させることができる。
一つの実施の形態として本発明が適用される太陽電池素子の一般的な断面構造を模式的に示す図である。 実施例と比較例においてアルミニウム電極層を形成した焼成後のp型シリコン半導体基板の変形量を測定する方法を模式的に示す図である。
符号の説明
1:p型シリコン半導体基板、2:n型不純物層、3:反射防止膜、4:グリッド電極、5:アルミニウム電極層、6:Al−Si合金層、7:p+層、8:裏面電極。
本発明のペースト組成物は、アルミニウム粉末と有機質ビヒクルに加えて水酸化物を含むことを特徴とする。従来の組成のペーストを使用した場合には、アルミニウムとシリコンとの反応やアルミニウムの焼結を制御することができず、その結果、局部的にAl−Si合金の生成量の増大により、ブリスターやアルミニウムの玉が発生する、アルミニウムの過剰焼結によるシリコン半導体基板の変形が増大するという現象が生じていた。本発明では、水酸化物をペーストに含ませることにより、アルミニウムとシリコンとの反応やアルミニウムの焼結を過度に進行しないように制御することができる。ペースト中に含まれる水酸化物は、焼成中にて温度200〜500℃で脱水分解反応が起こる。この脱水分解による吸熱反応と、分解された水蒸気によるアルミニウム粉末の表面酸化により、ブリスターやアルミニウムの玉の発生とシリコン半導体基板の変形を抑えることができると考えられる。
本発明のペースト組成物に含まれる水酸化物としては、本発明の効果が得られるものであれば特に限定されず、例えば銅や鉄などの金属元素からなる水酸化物が挙げられる。好ましい水酸化物としては、周期表のIIa族およびIIIb族の水酸化物からなる群より選ばれた少なくとも1種であればよく、より具体的には、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウムおよび水酸化バリウムからなる群より選ばれた少なくとも1種であればよい。周期表のIIa族およびIIIb族の水酸化物が好ましい理由は、本発明のペースト組成物を焼成する際に上記の周期表IIa族およびIIIb族の元素がシリコン半導体基板中に拡散しても、BSF効果を阻害させる度合いが少なく、エネルギー変換効率の低下の影響も小さいからである。
本発明のペースト組成物に含められる水酸化物の含有量は、0.1質量%以上25.0質量%以下であることが好ましい。水酸化物の含有量が0.1質量%未満では、所定のブリスターやアルミニウムの玉の抑制効果が得られない恐れがあり、焼成後のシリコン半導体基板の変形を抑制するほどの十分な添加効果を得ることができない。水酸化物の含有量が25.0質量%を超えると、裏面電極層の表面抵抗が増大し、ペーストの焼結性が阻害されるという弊害が生じる恐れがある。裏面電極層の表面抵抗が増大すると、電極間のオーム抵抗が増加し、太陽光の照射で生じたエネルギーを有効に取り出すことができず、エネルギー変換効率の低下を招く。水酸化物の含有量を上記の範囲にすることにより、表面抵抗を後述する好ましい範囲内に抑えることができ、アルミニウム電極層の電極機能とBSF効果が低下することがなく、アルミニウム電極層におけるブリスターやアルミニウムの玉の発生を抑制するとともに、シリコン半導体基板の変形量を低減することができる。
本発明のペースト組成物に含められるアルミニウム粉末の含有量は、50質量%以上80質量%以下であることが好ましい。アルミニウム粉末の含有量が50質量%未満では、焼成後のアルミニウム電極層の抵抗が高くなり、太陽電池のエネルギー変換効率の低下を招く恐れがある。アルミニウム粉末の含有量が80質量%を超えると、スクリーン印刷等におけるペーストの塗布性が低下する。
本発明においては、平均粒子径が1〜20μmという幅広い範囲のアルミニウム粉末が使用可能であり、ペースト組成物に配合する場合は、好ましくは2〜15μm、さらに好ましくは3〜10μmのものを使用するとよい。平均粒子径が1μm未満では、アルミニウム粉末の比表面積が大きくなり、好ましくない。平均粒子径が20μmを超えると、アルミニウム粉末を含ませてペースト組成物を構成したときに適正な粘度が得られず、好ましくない。また、本発明のペースト組成物に含められるアルミニウム粉末は、粉末の形状や粉末の製造方法には特に限定されない。
本発明のペースト組成物に含められる有機質ビヒクルの成分は特に限定されないが、エチルセルロースやアルキッド等の樹脂と、グリコールエーテル系やターピネオール系などの溶剤を使用することができる。有機質ビヒクルの含有量は、15質量%以上40質量%以下であることが好ましい。有機質ビヒクルの含有量が15質量%未満になると、ペーストの印刷性が低下し、良好なアルミニウム電極層を形成することができない。また、有機質ビヒクルの含有量が40質量%を超えると、ペーストの粘度が増大するだけでなく、過剰な有機質ビヒクルの存在によりアルミニウムの焼成が阻害されるという問題が生じる。
さらに、本発明のペースト組成物はガラスフリットを含んでもよい。本発明のペースト組成物におけるガラスフリットの含有量は、特に限定されないが、8質量%以下であるのが好ましい。ガラスフリットの含有量が8質量%を超えると、ガラスの偏析が生じ、アルミニウム電極層の抵抗が増大し、太陽電池の発電効率が低下する恐れがある。ガラスフリットの含有量の下限値は特に限定されないが、通常は0.1質量%以上である。
本発明のペースト組成物に含められるガラスフリットの組成としては、特に限定されないが、通常、PbO、B、ZnO、Bi、SiO、Al、MgOおよびBaOからなる群より選ばれた少なくとも2種の酸化物を主成分とするガラス系の組成が挙げられる。
本発明のペースト組成物に含められるガラスフリットの粒子の平均粒径は特に限定されないが、20μm以下であるのが好ましい。
本発明のペースト組成物は、必要に応じてペーストの特性を調整する分散剤、可塑剤、沈降防止剤、チクソ剤、など各種添加剤を含ませて使用することができる。添加剤の組成は特に制限されないが、含有量は10質量%以下とするのが好ましい。
以下、本発明の一つの実施例について説明する。
まず、アルミニウム粉末を50〜80質量%、ガラスフリットを0.1〜8質量%、エチルセルロースをグリコールエーテル系有機溶剤に溶解した有機質ビヒクルを15〜40質量%の範囲内で含むとともに、表1に示す割合で各種の水酸化物を添加したペースト組成物を作製した。
具体的には、エチルセルロースをグリコールエーテル系有機溶剤に溶解した有機質ビヒクルに、アルミニウム粉末とZnO‐B‐SiO系のガラスフリットを加え、さらに、表1に示す添加量で各種の水酸化物を加えて、周知の混合機にて混合することにより、ペースト組成物(実施例1〜18)を作製した。また、上記と同様の方法で、表1に示すように水酸化物を含まないペースト組成物(比較例1)を作製した。
ここで、アルミニウム粉末は、シリコン半導体基板との反応性の確保、塗布性、および塗布膜の均一性の点から、平均粒径が2〜20μmの球形、または球形に近い形状を有する粒子からなる粉末を用いた。ガラスフリットは、粒子の平均粒径が1〜12μmのものを用いた。
上記の各種のペースト組成物を、厚みが220μm、大きさが155mm×155mmのp型シリコン半導体基板に、165メッシュのスクリーン印刷板を用いて塗布・印刷し、乾燥させた。塗布量は、乾燥前で1.5±0.1g/枚になるように設定した。
ペーストが印刷されたp型シリコン半導体基板を乾燥した後、赤外線連続焼成炉にて、空気雰囲気で焼成した。焼成炉の焼成ゾーンの温度を760〜780℃、基板の滞留時間(焼成時間)を8〜12秒に設定した。焼成後、冷却することにより、図1に示すようにp型シリコン半導体基板1にアルミニウム電極層5とAl−Si合金層6を形成した構造を得た。
シリコン半導体基板に形成されたアルミニウム電極層5において、アルミニウム電極層5の測定表面積150×150mm当たりのブリスターとアルミニウムの玉の発生量を目視で数え、その合計値を表1に示す。製造工程でシリコン半導体基板の割れの発生を防ぐためには、ブリスターとアルミニウムの玉の発生量の目標値を10とする。
電極間のオーム抵抗に影響を及ぼす裏面電極8の表面抵抗を4探針式表面抵抗測定器(ナプソン社製RG−5型シート抵抗測定器)で測定した。測定条件は、電圧を4mV、電流を100mA、表面に与えられる荷重を200grf(1.96N)とした。その測定値を表1の裏面電極表面抵抗(mΩ/□)に示す。
その後、裏面電極8を形成したp型シリコン半導体基板を塩酸水溶液に浸漬することによって、アルミニウム電極層5とAl−Si合金層6を溶解除去し、p+層7が形成されたp型シリコン半導体基板の表面抵抗を上記の表面抵抗測定器で測定した。
+層7の表面抵抗とBSF効果との間には相関関係があり、その表面抵抗が小さいほど、BSF効果が高いとされている。ここで、好ましい表面抵抗の値は、裏面電極8では20mΩ/□以下、p+層7では21Ω/□以下である。
アルミニウム電極層を形成した焼成後のp型シリコン半導体基板の変形量は、焼成・冷却後、図2に示すようにアルミニウム電極層を上にして基板の四隅の対角にある二端を矢印PとPで示すように押さえて、その他の二端の浮き上がり量(基板の厚みを含む)XとXを測定した。また、上記と同様の方法により、上記の測定にて浮き上がり量X1とX2を測定した箇所を矢印PとPで示すように押さえて、矢印PとPで示すように押さえた箇所の二端の浮き上がり量XとXを測定した。浮き上がり量X、X、XおよびXの平均値を計算し、シリコン半導体基板の「変形量(mm)」とした。なお、変形量の目標値は3.0mm以下である。
以上のようにして測定された裏面電極8の表面抵抗、p+層7の表面抵抗およびシリコン半導体基板の変形量を表1に示す。
Figure 0004949263
表1に示す結果から、水酸化物を含まない従来のペースト組成物(比較例1)に比べて、本発明の水酸化物を使用したペースト組成物(実施例1〜18)を用いることにより、アルミニウム電極層の電極機能とBSF効果が低下することがなく、アルミニウム電極層におけるブリスターやアルミニウムの玉の発生を抑制するとともに、シリコン半導体基板の変形量を低減することができることがわかる。
以上に開示された実施の形態や実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考慮されるべきである。本発明の範囲は、以上の実施の形態や実施例ではなく、請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての修正や変形を含むものと意図される。
この発明に従って、アルミニウム粉末、有機質ビヒクルに加えて、さらに水酸化物を含有するペースト組成物を使用することにより、シリコン半導体基板の裏面に形成されるアルミニウム電極層にブリスターやアルミニウムの玉が発生するのを抑制するとともに、シリコン半導体基板の変形も低減することができ、太陽電池素子の製造歩留まりを向上させることができる。

Claims (5)

  1. 太陽電池を構成するシリコン半導体基板(1)の上に電極(8)を形成するために用いられるペースト組成物であって、アルミニウム粉末と、有機質ビヒクルと、水酸化物とを含む、ペースト組成物。
  2. 前記水酸化物は、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウムおよび水酸化バリウムからなる群より選ばれた少なくとも1種である、請求項1に記載のペースト組成物。
  3. 前記水酸化物を0.1質量%以上25.0質量%以下含む、請求項1に記載のペースト組成物。
  4. ガラスフリットをさらに含む、請求項1に記載のペースト組成物。
  5. 請求項1に記載のペースト組成物をシリコン半導体基板(1)の上に塗布した後、焼成することにより形成した電極(8)を備えた、太陽電池素子。
JP2007540904A 2005-10-20 2006-09-22 ペースト組成物およびそれを用いた太陽電池素子 Expired - Fee Related JP4949263B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005306025 2005-10-20
JP2005306025 2005-10-20
PCT/JP2006/318816 WO2007046214A1 (ja) 2005-10-20 2006-09-22 ペースト組成物およびそれを用いた太陽電池素子

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2007046214A1 JPWO2007046214A1 (ja) 2009-04-23
JP4949263B2 true JP4949263B2 (ja) 2012-06-06

Family

ID=37962312

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007540904A Expired - Fee Related JP4949263B2 (ja) 2005-10-20 2006-09-22 ペースト組成物およびそれを用いた太陽電池素子

Country Status (10)

Country Link
US (1) US8877100B2 (ja)
EP (1) EP1939943B1 (ja)
JP (1) JP4949263B2 (ja)
KR (1) KR101031060B1 (ja)
CN (1) CN100550431C (ja)
DE (1) DE602006021767D1 (ja)
ES (1) ES2361974T3 (ja)
NO (1) NO339124B1 (ja)
TW (1) TWI382546B (ja)
WO (1) WO2007046214A1 (ja)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008306023A (ja) * 2007-06-08 2008-12-18 Toyo Aluminium Kk ペースト組成物と太陽電池素子
US20140335651A1 (en) * 2008-11-14 2014-11-13 Sichuan Yinhe Chemical Co., Ltd. Inks and pastes for solar cell fabrication
US8017428B2 (en) * 2009-06-10 2011-09-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process of forming a silicon solar cell
KR20110025614A (ko) * 2009-09-04 2011-03-10 동우 화인켐 주식회사 태양전지의 후면 전극용 알루미늄 페이스트
KR20110040083A (ko) * 2009-10-13 2011-04-20 동우 화인켐 주식회사 태양전지의 후면 전극용 알루미늄 페이스트
KR101113503B1 (ko) * 2009-10-30 2012-02-29 고려대학교 산학협력단 유도전류 장치를 이용한 실리콘 태양전지의 제조 방법
EP2555250A4 (en) 2010-04-02 2013-12-04 Noritake Co Ltd PASTE COMPOSITION FOR A SOLAR CELL, PROCESS FOR THEIR MANUFACTURE AND SOLAR CELL
US20120152342A1 (en) * 2010-12-16 2012-06-21 E.I. Du Pont De Nemours And Company Aluminum paste compositions comprising metal phosphates and their use in manufacturing solar cells
US20120152341A1 (en) * 2010-12-16 2012-06-21 E.I. Du Pont De Nemours And Company Low bow aluminum paste with an alkaline earth metal salt additive for solar cells
US20120152344A1 (en) * 2010-12-16 2012-06-21 E.I. Du Pont De Nemours And Company Aluminum paste compositions comprising calcium oxide and their use in manufacturing solar cells
CN102157220B (zh) * 2011-02-28 2013-09-18 张振中 晶体硅太阳能电池正面栅线电极专用Ag浆
KR101276669B1 (ko) * 2011-07-15 2013-06-19 주식회사 케이씨씨 금속-함유 유기계 첨가제를 포함하는 실리콘 태양전지용 후면 전극 조성물
JP7264674B2 (ja) * 2019-03-13 2023-04-25 東洋アルミニウム株式会社 バックコンタクト型太陽電池セルの製造方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6193505A (ja) * 1984-10-12 1986-05-12 株式会社東海理化電機製作所 導電性ペ−スト
JPS62237605A (ja) * 1986-04-08 1987-10-17 ティーディーケイ株式会社 厚膜ペ−スト
JPH03116608A (ja) * 1989-09-29 1991-05-17 Tdk Corp 導体ペーストおよび導体
JP2004134775A (ja) * 2002-09-19 2004-04-30 Murata Mfg Co Ltd 導電性ペースト
JP2004355862A (ja) * 2003-05-27 2004-12-16 Ngk Spark Plug Co Ltd 導体用ペースト、セラミック配線基板及びその製造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07103331B2 (ja) * 1987-10-30 1995-11-08 イビデン株式会社 樹脂系導電ペースト
JPH07117638B2 (ja) * 1987-10-30 1995-12-18 キヤノン株式会社 振動波モータを用いたレンズ系駆動装置
JPH03209702A (ja) * 1990-01-11 1991-09-12 Daito Tsushinki Kk Ptc組成物
JP3051156B2 (ja) * 1990-11-28 2000-06-12 三菱化学株式会社 半導電性樹脂組成物からなる電子写真装置用ベルト
JP2999867B2 (ja) 1991-11-07 2000-01-17 シャープ株式会社 太陽電池およびその製造方法
JP3662955B2 (ja) * 1994-09-16 2005-06-22 株式会社東芝 回路基板および回路基板の製造方法
JP2000090734A (ja) 1998-09-16 2000-03-31 Murata Mfg Co Ltd 導電性ペースト及びそれを用いた太陽電池
JP3910072B2 (ja) * 2002-01-30 2007-04-25 東洋アルミニウム株式会社 ペースト組成物およびそれを用いた太陽電池
CN1813323B (zh) * 2003-04-28 2011-09-14 昭和电工株式会社 起阀作用的金属的烧结体、其制造方法和固体电解电容器
JP2004330247A (ja) 2003-05-08 2004-11-25 Murata Mfg Co Ltd ニッケル粉末、及び導電性ペースト、並びに積層セラミック電子部品
JP4373774B2 (ja) 2003-12-24 2009-11-25 京セラ株式会社 太陽電池素子の製造方法
JP2005200585A (ja) * 2004-01-16 2005-07-28 Gp Daikyo Corp 樹脂組成物並びにそれを用いた樹脂成形品及びその製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6193505A (ja) * 1984-10-12 1986-05-12 株式会社東海理化電機製作所 導電性ペ−スト
JPS62237605A (ja) * 1986-04-08 1987-10-17 ティーディーケイ株式会社 厚膜ペ−スト
JPH03116608A (ja) * 1989-09-29 1991-05-17 Tdk Corp 導体ペーストおよび導体
JP2004134775A (ja) * 2002-09-19 2004-04-30 Murata Mfg Co Ltd 導電性ペースト
JP2004355862A (ja) * 2003-05-27 2004-12-16 Ngk Spark Plug Co Ltd 導体用ペースト、セラミック配線基板及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2007046214A1 (ja) 2007-04-26
US20090223563A1 (en) 2009-09-10
ES2361974T3 (es) 2011-06-24
TW200725923A (en) 2007-07-01
EP1939943B1 (en) 2011-05-04
EP1939943A4 (en) 2009-12-30
NO20082281L (no) 2008-05-19
CN101292363A (zh) 2008-10-22
TWI382546B (zh) 2013-01-11
EP1939943A1 (en) 2008-07-02
JPWO2007046214A1 (ja) 2009-04-23
US8877100B2 (en) 2014-11-04
KR101031060B1 (ko) 2011-04-25
CN100550431C (zh) 2009-10-14
NO339124B1 (no) 2016-11-14
DE602006021767D1 (de) 2011-06-16
KR20080068638A (ko) 2008-07-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3910072B2 (ja) ペースト組成物およびそれを用いた太陽電池
WO2011013469A1 (ja) ペースト組成物およびそれを用いた太陽電池素子
US20110146781A1 (en) Process of forming a grid cathode on the front-side of a silicon wafer
JP4949263B2 (ja) ペースト組成物およびそれを用いた太陽電池素子
JP4843291B2 (ja) アルミニウムペースト組成物およびそれを用いた太陽電池素子
US20130056060A1 (en) Process for the production of lfc-perc silicon solar cells
JP2010087501A (ja) 導電性組成物及びそれを用いた太陽電池
TWI759447B (zh) 太陽電池用膏狀組成物
US20080135097A1 (en) Paste Composition, Electrode, and Solar Cell Element Including the Same
JP4907331B2 (ja) 光電変換素子用導電性ペースト、光電変換素子、および光電変換素子の作製方法
JP2007081059A (ja) アルミニウムペースト組成物およびそれを用いた太陽電池素子
JP2011233548A (ja) 導電性ペースト及び太陽電池
JP2008166344A (ja) 光電変換素子用導電性ペースト、光電変換素子、および光電変換素子の作製方法
JP2005317898A (ja) ペースト組成物およびそれを用いた太陽電池素子
KR102539378B1 (ko) 태양전지 전극용 도전성 페이스트 및 이를 사용하여 제조된 태양전지
JP5289705B2 (ja) 光電変換素子用導電性ペースト、光電変換素子、および光電変換素子の作製方法
JP2007234625A (ja) 光電変換素子用導電性ペースト、光電変換素子、および光電変換素子の作製方法
JP5293348B2 (ja) 導電性組成物及びそれを用いた太陽電池の製造方法並びに太陽電池
CN103907207A (zh) 形成半导体基板的p型掺杂铝表面区域的方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090115

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120228

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120307

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150316

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4949263

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees