JP4935362B2 - レーザ走査光学装置 - Google Patents

Description

本発明は、レーザ走査光学装置、特に、電子写真方式の複写機やプリンタなどの画像形成装置にプリントヘッドとして搭載されるレーザ走査光学装置に関する。

近年、複写機やプリンタにおいては、高速高精細化の要求で６００ｄｐｉが現実化している。これに対応して、レーザ走査光学装置では描画に複数のビームを用いることが考慮されているが、８ビームを放射する半導体レーザアレイは極めて高価である。そこで、特許文献１では、ｍ個の発光源を有するｎ個の半導体レーザアレイを組み合わせることで多ビームでの描画を可能とし、ｎ個の半導体レーザアレイのそれぞれ一つのビームを用いて副走査方向の間隔を調整することが提案されている。

しかしながら、前記従来のレーザ走査光学装置では、各半導体レーザアレイでの発光源の間隔誤差や相対位置誤差の累積で、調整の基準となる発光源以外の発光源の間隔が不安定になり、かつ、各走査ラインの書込み開始位置を合わせる水平同期にも誤差を生じ、画質が損なわれるという問題点を有していた。特許文献１では水平同期については何も言及していない。
特開２０００−２５５０９７号公報

そこで、本発明の目的は、複数の発光源を有する複数の半導体レーザアレイを組み合わせて高画質に描画できるレーザ走査光学装置を提供することにある。

以上の目的を達成するため、第１の発明に係るレーザ走査光学装置は、
互いに独立して駆動可能なｍ個（ｍは２以上の整数）の発光源を有するｎ個（ｎは２以上の整数）の半導体レーザアレイと、
前記複数の半導体レーザアレイから放射される複数の光束を所定の方向に偏向する偏向器と、
前記偏向器で偏向されたｍ×ｎ本の光束を感光体面上に結像させる光学系と、
前記複数の半導体レーザアレイを回転させてそれぞれの発光源の副走査方向の間隔を調整する第１の調整手段と、
前記半導体レーザアレイのうちｎ−１個の半導体レーザアレイに対してそれぞれの発光源の副走査方向位置を調整する第２の調整手段と、
前記ｍ×ｎ本の光束のうち、一の半導体レーザアレイの特定の１個の光束の走査に基づいて水平同期信号を得る同期信号検出手段と、
前記特定の１個の光束の発光源と他の半導体レーザアレイにおける特定の１個の光束の発光源との主走査方向の間隔を検出するとともに、各半導体レーザアレイにおいてそれぞれ両端に位置する発光源の主走査方向の間隔を検出する間隔検出手段と、
前記同期信号検出手段と前記間隔検出手段の検出結果に基づいて各半導体レーザアレイの各発光源を水平同期させて変調制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする。

第１の発明に係るレーザ走査光学装置は、ｍ×ｎ個の光束のうち、一つの半導体レーザアレイの特定の一つの光束を用いて水平同期信号を得るようにしたものである。各発光源の副走査方向の間隔は、第１及び第２の調整手段によって画像密度に対応したほぼ等間隔に調整される。そして、水平同期信号の検出に用いられる光束の発光源と他の半導体レーザアレイにおける特定の１個の光束の発光源との主走査方向の間隔を検出するとともに、各半導体レーザアレイにおいてそれぞれ両端に位置する発光源の主走査方向の間隔を検出するようにしたため、全ての発光源の主走査方向の間隔をほぼ正確に検出でき、これに基づいて各半導体レーザアレイを変調制御することにより、副走査方向及び主走査方向に所定の画像密度で高画質な画像を得ることができる。

第２の発明に係るレーザ走査光学装置は、
互いに独立して駆動可能なｍ個（ｍは２以上の整数）の発光源を有するｎ個（ｎは２以上の整数）の半導体レーザアレイと、
前記複数の半導体レーザアレイから放射される複数の光束を所定の方向に偏向する偏向器と、
前記偏向器で偏向されたｍ×ｎ本の光束を感光体面上に結像させる光学系と、
前記複数の半導体レーザアレイを回転させてそれぞれの発光源の副走査方向の間隔を調整する第１の調整手段と、
前記半導体レーザアレイのうちｎ−１個の半導体レーザアレイに対してそれぞれの発光源の副走査方向位置を調整する第２の調整手段と、
前記ｍ×ｎ本の光束のうち、各半導体レーザアレイにおける特定の１個の光束の走査に基づいて水平同期信号を得る同期信号検出手段と、
各半導体レーザアレイにおいてそれぞれ両端に位置する発光源の主走査方向の間隔を、前記同期信号検出手段を用いて検出する間隔検出手段と、
前記同期信号検出手段及び前記間隔検出手段の検出結果に基づいて各半導体レーザアレイの各発光源を水平同期させて変調制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする。

第２の発明に係るレーザ走査光学装置は、ｍ×ｎ個の光束のうち、各半導体レーザアレイにおける特定の１個の光束（即ち、ｎ個の光束）を用いて水平同期信号を得るようにしたものである。各発光源の副走査方向の間隔は、第１及び第２の調整手段によって画像密度に対応したほぼ等間隔に調整される。そして、それぞれ両端に位置する発光源の主走査方向の間隔を検出するようにしたため、全ての発光源の主走査方向の間隔をほぼ正確に検出でき、これに基づいて各半導体レーザアレイを変調制御することにより、副走査方向及び主走査方向に所定の画像密度で高画質な画像を得ることができる。

以下、本発明に係るレーザ走査光学装置の実施例について、添付図面を参照して説明する。

（画像形成装置の概略構成、図１参照）
図１に示す画像形成装置は、電子写真方式によるカラープリンタであって、いわゆるタンデム式で４色（Ｃ：シアン、Ｍ：マゼンタ、Ｙ：イエロー、Ｋ：ブラック）の画像を形成するように構成したものである。画像は、各画像形成ステーション１０１で形成され、中間転写ベルト１１２上で合成される。なお、各図面において、参照数字に付されているＣ，Ｍ，Ｙ，Ｋの文字はそれぞれシアン、マゼンタ、イエロー、ブラック用の部材であることを意味している。

各画像形成ステーション１０１（１０１Ｃ，１０１Ｍ，１０１Ｙ，１０１Ｋ）は、その概略を説明すると、感光体ドラム１０２（１０２Ｃ，１０２Ｍ，１０２Ｙ，１０２Ｋ）、レーザ走査光学ユニット１０３（１０３Ｃ，１０３Ｍ，１０３Ｙ，１０３Ｋ）、現像器１０４（１０４Ｃ，１０４Ｍ，１０４Ｙ，１０４Ｋ）などを含む。

各レーザ走査光学ユニット１０３から放射されたビームＢＣ，ＢＭ，ＢＹ，ＢＫが各感光体ドラム１０２を照射し、各色の画像を形成する。一方、画像形成ステーション１０１の直下には中間転写ベルト１１２がローラ１１３，１１４，１１５に無端状に張り渡され、矢印Ｙ方向に回転駆動され、駆動ローラ１１３を設置した部分の中間転写ベルト１１２に対向する部分（２次転写部）には２次転写ローラ１１６が配置されている。また、画像形成装置の下段には、積載されている転写材を１枚ずつ給紙する自動給紙部１３０が設置されている。

画像データは図示しない画像読取り装置（スキャナ）あるいはコンピュータなどからＣＭＹＫごとの画像データとして画像メモリ３５（図５参照）に送信され、これらの画像データに基づいて各レーザ走査光学ユニット１０３が駆動され、それぞれの感光体ドラム１０２上にトナー画像を形成する。このような電子写真プロセスは周知であり、その説明は省略する。

各感光体ドラム１０２上に形成されたトナー画像は矢印Ｙ方向に回転駆動される中間転写ベルト１１２上に順次１次転写され、４色の画像が合成される。一方、転写材は１枚ずつ給紙部１３０から上方に給紙され、２次転写部で転写ローラ１１６から付与される電界にて中間転写ベルト１１２から合成画像が２次転写される。その後、転写材は図示しない定着装置に搬送されてトナーの加熱定着が施され、画像形成装置の上面部に排出される。

２次転写部の直前には給紙された転写材を検出するためのＴＯＤセンサ１０６が設置され、転写材と中間転写ベルト１１２上の画像との同期をとっている。また、中間転写ベルト１１２上に形成されたレジスト補正用画像を検出するためのレジストセンサ１０５が設置されている。ベルト１１２上に各画像形成ステーション１０１ごとにレジスト補正用画像を形成し、該補正用画像をセンサ１０５で検出することで、各レーザビームＢＣ，ＢＭ，ＢＹ，ＢＫの発光タイミングを調整し、ＣＭＹＫの画像がベルト１１２上で正確に合成されるようにしている。

（レーザ走査光学ユニット、図２〜図４参照）
図２に示すように、各レーザ走査光学ユニット１０３は、概略、四つの発光源３０１ａ〜３０１ｄ，３０２ａ〜３０２ｄをそれぞれ有する半導体レーザアレイ３０１、３０２と、結合位置調整部材（平行平板）３０７と、ビーム合成プリズム３１０と、第１シリンドリカルレンズ３１１と、所定の速度で回転駆動されるポリゴンミラー３１２と、ｆθ機能を有する走査レンズ３１３と第２シリンドリカルレンズ３１４と、水平同期センサ３１６とで構成されている。なお、本実施例において、各半導体レーザアレイ３０１，３０２はそれぞれ４本のビームを放射するが、図２では簡略化のためにそれぞれ２本のビームを放射する状態で描いている。

各半導体レーザアレイ３０１，３０２の発光源３０１ａ〜３０１ｄ，３０２ａ〜３０２ｄから放射されたビーム（発散光）は、コリメータユニット３０４，３０３によって平行光とされ、発光源３０２ａ〜３０２ｄからのビームは結像位置調整部材（平行平板）３０７を透過してビーム合成プリズム３１０に導かれる。各ビームはここで同じ方向に結合され、第１シリンドリカルレンズ３１１によって副走査方向Ｚにほぼ平行に集光され、ポリゴンミラー３１２に導かれる。これらのビームはポリゴンミラー３１２の回転に基づいて主走査方向Ｘに等角速度で偏向され、走査レンズ３１３を透過することで必要な収差を補正され、第２シリンドリカルレンズ３１４を透過して感光体ドラム１０２上で結像する。この水平走査により感光体ドラム１０２上に静電潜像が形成される。

各レーザ走査光学ユニット１０３において、感光体ドラム１０２上での各走査ラインの書出し位置を検出するため、即ち、水平同期信号を得るため、ポリゴンミラー３１２で偏向されたビームの主走査方向上流側のビームは、ミラー３１５で反射され、水平同期センサ３１６に入射し、水平同期信号が生成される。なお、このような水平同期信号を生成する方法は周知であり、その説明は省略する。

さらに、水平同期センサ３１６は各発光源３０１ａ〜３０１ｄ，３０２ａ〜３０２ｄから放射されるビームの主走査方向Ｘ及び副走査方向Ｚでの相対位置を検出するセンサとしても兼用されている。詳しくは、図３に示すように、センサ３１６は細帯状の受光素子ＰＤ１と、主走査方向Ｘの下流側であって角度θで配置された受光素子ＰＤ２とで構成されている。ビームＣ１，Ｃ２が受光素子ＰＤ１，ＰＤ２上を通過した時間を計測することにより、ビームＣ１，Ｃ２の主走査方向Ｘ及び副走査方向Ｚでの相対位置を演算することができる。

さらに、水平同期センサ３１６は、各半導体レーザアレイ３０１，３０２内の発光源の相対位置だけでなく、各半導体レーザアレイ３０１，３０２の発光源間の相対位置も同様に演算することができる。

ところで、半導体レーザアレイ３０１，３０２は、図４に示すように、それぞれ間隔Ｐで配置された四つの発光源３０１ａ〜３０１ｄ，３０２ａ〜３０２ｄを有している。アレイ３０１，３０２はステッピングモータ１７，１８により回転可能であり、この回転に基づいて各発光源３０１ａ〜３０１ｄ，３０２ａ〜３０２ｄの副走査方向Ｚでの間隔を調整することができる。

また、結像位置調整部材（平行平板）３０７は半導体レーザアレイ３０２に対してのみ設けられており、ステッピングモータ８を駆動して傾斜角度を制御することにより、発光源３０２ａ〜３０２ｄから放射されたビームの副走査方向Ｚでの位置を調整することができる。なお、ステッピングモータ１７，１８，８による各ビームの副走査方向の間隔調整については図６〜図８を参照して後述する。

（制御部、図５参照）
次に、画像形成装置の制御部の構成を図５を参照して説明する。この制御部は、概略、ＣＰＵ３０と駆動用クロック発生回路３１と画像メモリ３５とで構成されている。ＣＰＵ３０は、ポリゴンミラー３１２を駆動するモータの制御を行い、水平同期センサ３１６に入射したビームが光電変換され、ＣＰＵ３０に入力される。ＣＰＵ３０はこの信号をデジタル化して水平同期信号ＨＳＹＮＣを生成する。

また、ＣＰＵ３０にはＴＯＤセンサ１０６からの転写材検出信号、レジストセンサ１０５からの補正用画像の検出信号が入力される。ＣＰＵ３０は、レジストセンサ１０５の検出信号に基づいて、画像の主走査位置及び副走査位置、主走査倍率などのレジスト補正値を演算する。また、ＣＰＵ３０は、水平同期信号を得るための強制発光制御、補正用画像を描画するための強制発光を制御する。

ＣＰＵ３０は、画像メモリ３５に対して、水平同期信号ＨＳＹＮＣと画像要求信号ＴＯＤを出力する。画像メモリ３５は、複数の副走査カウンタを搭載しており、信号ＴＯＤをトリガに水平同期信号ＨＳＹＮＣをカウントし、副走査レジストを合わせて、かつ、主走査レジストも合わせて、画像データＣ／Ｍ／Ｙ／ＫをＬＤドライバ３３，３４に出力する。この出力はＣＰＵ３０がレジスト補正結果を受けて演算した結果が含まれたタイミングで行われる。

また、ＬＤドライバ３３，３４に出力する画像データＤＡＴＡは、発光源３０１ａ〜３０１ｄ，３０２ａ〜３０２ｄから放射されるビームの相対位置に応じて、感光体ドラム１０２上での主走査方向位置を調整する。そして、発光源３０１ａ〜３０１ｄ，３０２ａ〜３０２ｄごとに強制発光信号を共通にしている。

さらに、ＣＰＵ３０は、ステッピングモータ１７，１８を制御して半導体レーザアレイ３０１，３０２から放射されるビームの副走査方向Ｚの間隔を調整し、ステッピングモータ８を制御して結像位置調整部材（平行平板）３０７の傾斜角度を偏向し、発光源３０２ａ〜３０２ｄから放射されるビームの副走査方向Ｚの位置を調整する。ＣＰＵ３０はそれ以外に画像形成装置内の各種機器を制御する。

（ビームの間隔の調整、図６〜図８参照）
次に、感光体ドラム１０２上での走査線の副走査方向Ｚの間隔を均一にするため、及び、主走査方向の書込み開始位置の調整（水平同期）について説明する。

図６に示すように、半導体レーザアレイ３０１の発光源３０１ａ〜３０１ｄの副走査方向Ｚの間隔を、ステッピングモータ１７を駆動することで半導体レーザアレイ３０１を回転させ、調整する。例えば、画像密度が６００ｄｐｉの場合、副走査方向Ｚの間隔をその半分の画像密度３００ｄｐｉに相当する８４．６μｍになるように調整する。いま一つの半導体レーザアレイ３０２に関しても、ステッピングモータ１８を駆動して同様に調整する。

次に、半導体レーザアレイ３０１は固定状態として、半導体レーザアレイ３０２に関して、発光源３０２ａ〜３０２ｄの副走査方向Ｚの位置を、ステッピングモータ８を駆動することで結像位置調整部材３０７の傾斜角度を変更し、調整する。これにて、図７に示すように、それぞれの発光源３０１ａ〜３０１ｄ，３０２ａ〜３０２ｄが画像密度６００ｄｐｉに相当する４２．３μｍの間隔に調整されることになる。

以上の副走査方向Ｚに関する間隔調整は、例えば１頁の画像形成ごとに行われる。そして、各走査ラインを描画する際に、水平同期が取れるように（図７（Ｂ）参照）、主走査方向Ｘに各発光源３０１ａ〜３０１ｄ，３０２ａ〜３０２ｄの変調制御のタイミングを調整する。この調整は、特定の１個の発光源３０１ａから放射されるビームの走査に基づいて水平同期信号を得る場合（以下、検出例１と記す）、各半導体レーザアレイ３０１，３０２における特定の１個の発光源３０１ａ，３０２ｄから放射されるビームの走査に基づいて水平同期信号を得る場合（以下、検出例２と記す）に分かれる。

検出例１においては、図７（Ａ）に示す状態で、前記水平同期センサ３１６によって、発光源３０１ａ，３０２ａの主走査方向Ｘの間隔ｘ１を検出するとともに、各半導体レーザアレイ３０１，３０２においてそれぞれ両端に位置する発光源３０１ａ，３０１ｄ及び発光源３０２ａ，３０２ｄの主走査方向Ｘの間隔ｘ２，ｘ３を検出する。各半導体レーザアレイ３０１，３０２において各発光源３０１ａ〜３０１ｄ，３０２ａ〜３０２ｄはその間隔が等間隔であるとして、発光源３０１ａと発光源３０１ｂ，３０１ｃ，３０２ｂ，３０２ｃとの主走査方向Ｘの間隔を演算する。このように検出された各発光源３０１ａ〜３０１ｄ，３０２ａ〜３０２ｄの主走査方向Ｘの間隔に基づいて、かつ、発光源３０１ａから得た水平同期信号を基準にして、各発光源３０１ａ〜３０１ｄ，３０２ａ〜３０２ｄを水平同期させて変調制御する。これにて、図７（Ｂ）に示すように、各走査ラインの書込み開始位置が揃う。

検出例２においては、図７（Ａ）に示す状態で、前記水平同期センサ３１６によって、各半導体レーザアレイ３０１，３０２においてそれぞれ両端に位置する発光源３０１ａ，３０１ｄ及び発光源３０２ａ，３０２ｄの主走査方向Ｘの間隔ｘ２，ｘ３を検出する。各半導体レーザアレイ３０１，３０２において各発光源３０１ａ〜３０１ｄ，３０２ａ〜３０２ｄはその間隔が等間隔であるとして、発光源３０１ａを基準として発光源３０１ｂ，３０１ｃ，３０１ｄに対する主走査方向Ｘの間隔を演算し、発光源３０２ａを基準として発光源３０２ｂ，３０２ｃ，３０２ｄに対する主走査方向Ｘの間隔を演算する。このように検出された各発光源３０１ａ〜３０１ｄ，３０２ａ〜３０２ｄの主走査方向Ｘの間隔に基づいて、かつ、発光源３０１ａ，３０２ｄから得た水平同期信号を基準にして、各発光源３０１ａ〜３０１ｄ，３０２ａ〜３０２ｄを水平同期させて変調制御する。これにて、図７（Ｂ）に示すように、各走査ラインの書込み開始位置が揃う。

前記検出例２においては、水平同期信号を得る基準を、図８に示すように、主走査方向Ｘに最も間隔が大きい発光源３０１ａ，３０２ｄとしているため、水平同期信号の立ち上がり時間間隔Ａが大きくなり、水平同期センサ３１６の信号がビームの入射によって立ち上がる時間（復帰時間）を考慮する必要がなく、制御が容易である。

（制御手順、図９〜図１１参照）
次に、前記ＣＰＵ３０による制御手順を説明する。図９は制御のメインルーチンを示し、電源が投入されると、まず、ＣＰＵ３０に内蔵されているＲＡＭやタイマを初期化し（ステップＳ１）、内部タイマをセットする（ステップＳ２）。その後、順次、プリント前調整（ステップＳ３）、画像メモリ処理（ステップＳ４）、プリント処理（ステップＳ５）、温度制御や紙詰まり検出などのその他の処理（ステップＳ６）を実行し、内部タイマの終了を待って（ステップ７でＹＥＳ）ステップＳ２へ戻る。

図１０は前記ステップＳ３で実行されるプリント前処理のサブルーチンを示す。まず、ステッピングモータ１７，１８にて各半導体レーザアレイ３０１，３０２を回転させてそれぞれの発光源３０１ａ〜３０１ｄ，３０２ａ〜３０２ｄの副走査方向Ｚの間隔を画像密度に合わせる（ステップＳ３１）。さらに、ステッピングモータ８にて結像位置調整部材３０７を移動させて半導体レーザアレイ３０２の発光源３０２ａ〜３０２ｄの副走査方向位置を調整する（ステップＳ３２）。

次に、水平同期信号の検出が検出例１又は検出例２のいずれかであるかを判定し（ステップＳ３３）、検出例１であれば、発光源３０１ａ−３０２ａの副走査方向間隔、発光源３０１ａ−３０１ｄ及び発光源３０２ａ−３０２ｄの副走査方向間隔を検出する（ステップＳ３６）。そして、発光源３０１ａを基準として各発光源を変調制御する（ステップＳ３７）。検出例２であれば、発光源３０１ａ−３０１ｄ及び発光源３０２ａ−３０２ｄの副走査方向間隔を検出する（ステップＳ３４）。そして、発光源３０１ａを基準として発光源３０１ａ〜３０１ｄを、発光源３０２ａを基準として発光源３０２ａ〜３０２ｄを、それぞれ変調制御する（ステップＳ３５）。

（他の実施例）
なお、本発明に係るレーザ走査光学装置は前記実施例に限定するものではなく、その要旨の範囲内で種々に変更できる。

特に、半導体レーザアレイの設置個数は２個に限らず、それ以上の複数個を用いたマルチビーム形式であってもよい。また、一つの半導体レーザアレイに含まれる発光源の個数も４個以外の任意の個数であってもよい。さらに、画像形成ステーションの構成や制御部の構成などは任意であることは勿論である。

本発明に係るレーザ走査光学装置を搭載した画像形成装置を示す概略構成図である。 本発明に係るレーザ走査光学装置の一実施例を示す概略斜視図である。 前記レーザ走査光学装置の光源部を示す正面図である。 前記レーザ走査光学装置における水平同期センサを示す説明図である。 制御部を示すブロック図である。 半導体レーザアレイにおける発光源の副走査方向の間隔調整を示す説明図で、（Ａ）は調整前、（Ｂ）は調整後を示す。 二つの半導体レーザアレイにおける各発光源の主走査方向の間隔を検出する状態を示す説明図で、（Ａ）は各発光源の相対位置、（Ｂ）は感光体上での各ビームの照射位置を示す。 各発光源の相対位置と水平同期センサの出力との関係を示す説明図である。 制御手順のメインルーチンを示すフローチャート図である。 プリント前調整のサブルーチンを示すフローチャート図である。

符号の説明

８，１７，１８…ステッピングモータ
３０…ＣＰＵ
３５…画像メモリ
１０２…感光体ドラム
１０３…レーザ走査光学ユニット
３０１，３０２…半導体レーザアレイ
３０１ａ〜３０１ｄ，３０２ａ〜３０２ｄ…発光源
３０７…結像位置調整部材（平行平板）
３１２…ポリゴンミラー
３１３…走査レンズ
３１６…水平同期センサ

Claims (2)

1. 互いに独立して駆動可能なｍ個（ｍは２以上の整数）の発光源を有するｎ個（ｎは２以上の整数）の半導体レーザアレイと、
   前記複数の半導体レーザアレイから放射される複数の光束を所定の方向に偏向する偏向器と、
   前記偏向器で偏向されたｍ×ｎ本の光束を感光体面上に結像させる光学系と、
   前記複数の半導体レーザアレイを回転させてそれぞれの発光源の副走査方向の間隔を調整する第１の調整手段と、
   前記半導体レーザアレイのうちｎ−１個の半導体レーザアレイに対してそれぞれの発光源の副走査方向位置を調整する第２の調整手段と、
   前記ｍ×ｎ本の光束のうち、一の半導体レーザアレイの特定の１個の光束の走査に基づいて水平同期信号を得る同期信号検出手段と、
   前記特定の１個の光束の発光源と他の半導体レーザアレイにおける特定の１個の光束の発光源との主走査方向の間隔を検出するとともに、各半導体レーザアレイにおいてそれぞれ両端に位置する発光源の主走査方向の間隔を検出する間隔検出手段と、
   前記同期信号検出手段と前記間隔検出手段の検出結果に基づいて各半導体レーザアレイの各発光源を水平同期させて変調制御する制御手段と、
   を備えたことを特徴とするレーザ走査光学装置。
2. 互いに独立して駆動可能なｍ個（ｍは２以上の整数）の発光源を有するｎ個（ｎは２以上の整数）の半導体レーザアレイと、
   前記複数の半導体レーザアレイから放射される複数の光束を所定の方向に偏向する偏向器と、
   前記偏向器で偏向されたｍ×ｎ本の光束を感光体面上に結像させる光学系と、
   前記複数の半導体レーザアレイを回転させてそれぞれの発光源の副走査方向の間隔を調整する第１の調整手段と、
   前記半導体レーザアレイのうちｎ−１個の半導体レーザアレイに対してそれぞれの発光源の副走査方向位置を調整する第２の調整手段と、
   前記ｍ×ｎ本の光束のうち、各半導体レーザアレイにおける特定の１個の光束の走査に基づいて水平同期信号を得る同期信号検出手段と、
   各半導体レーザアレイにおいてそれぞれ両端に位置する発光源の主走査方向の間隔を、前記同期信号検出手段を用いて検出する間隔検出手段と、
   前記同期信号検出手段及び前記間隔検出手段の検出結果に基づいて各半導体レーザアレイの各発光源を水平同期させて変調制御する制御手段と、
   を備えたことを特徴とするレーザ走査光学装置。

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