JP4933137B2 - 半導体および半導体製造方法 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 91
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 80
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 41
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 8
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 99
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 8
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000005092 sublimation method Methods 0.000 description 6
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 2
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Led Devices (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
上述した技術では、基板を傾斜させることにより、ステップフロー成長における結晶成長の起点となる原子ステップを周期的に供給することができ、確実にステップフロー成長を実現することが可能であった。
この発明は、上記課題にかんがみてなされたものであり、SiC結晶で構成された被積層半導体層と、SiC単結晶で構成された積層半導体層とを備え、ポリタイプの単一性に優れ、高い結晶品質の半導体を提供することを目的とする。
請求項2および請求項6の発明によれば、容易に凹部を形成することができる。
請求項3の発明によれば、ポリタイプの単一性に優れたSiC結晶を得ることができる。
請求項4の発明によれば、高効率の発光を実現することができる。
請求項5の発明によれば、確実なステップフロー成長を実現することができる。
請求項7の発明によれば、第2積層半導体層を有するポリタイプの単一性に優れた半導体を提供することができる。
(1)第1の実施形態
(2)第2の実施形態
(3)変形例
(4)まとめ:
図1は、本発明の半導体を構成する半導体基板の構成を模式的に示している。同図において、半導体基板100は、基板10と単結晶層11とから構成されている。基板10は昇華法によって形成された6H型のSiC結晶で構成されており、図1に示す上方の面10aが{0001}面を表している。厳密には、基板10の製造誤差によって、面10aの角度が{0001}面から±5°程度の傾き有している。なお、面10aが本発明の平滑面を構成し、基板10が本発明の被積層半導体層を構成する。図の簡略化のため小数の凹部10b,10b,10bを図示したが、実際には多数の凹部10b,10b,10bが平滑面10aの全体にわたって形成されている。
図5は、第2の実施形態にかかる半導体としての白色発光ダイオードの構成を模式的に示している。同図において、白色発光ダイオード200は基板110と第1蛍光層111aと第2蛍光層111bとバッファ層112と第1コンタクト層113と第1クラッド層114と多重量子井戸活性層115と電子ブロック層116と第2クラッド層117と第2コンタクト層118とp電極119とn電極120とから構成されている。なお、基板110が本発明の被積層半導体層を構成し、第1蛍光層111aが本発明の積層半導体層を構成する。
以上の実施形態においては、凹部を形成することにより6H型のSiC結晶を形成するものを例示したが、凹部を起点としたステップフロー成長によって4H型や3C型や15R型等の他のSiCポリタイプを形成することも可能である。むろん、複数のポリタイプを有する結晶において本発明は有用であるということができる。さらに、凹部を形成する平滑面はSiC基板のSi面であってもよいし、C面であってもよい。
平滑面10aを研磨してスクラッチ傷を形成することにより、平滑面10aに多数の線状の凹部10b,10b,10b・・・を設ける。その後に近接昇華法により、ステップフロー成長を行う。凹部10b,10b,10b・・・の壁面が平滑面10aに対して切り立った角度で露出しているため、当該壁面を起点として原子を平滑面10aに沿った方向に吸着させることができる。すなわち、確実にステップフロー成長を行わせることができる。
Claims (8)
- 平滑面を有するSiC結晶で構成された被積層半導体層と、当該平滑面上に形成されたSiC単結晶で構成された積層半導体層と、を備える半導体において、
上記SiC結晶で構成された被積層半導体層の平滑面が残るように機械加工によって形成され当該平滑面から凹んだ凹部を備え、
上記SiC単結晶で構成された積層半導体層は、上記平滑面から凹んだ凹部が形成されたSiC結晶で構成された被積層半導体層の当該平滑面上におけるステップフロー成長によって形成されていることを特徴とする半導体。 - 上記凹部はスクラッチ傷であることを特徴とする請求項1に記載の半導体。
- 上記被積層半導体層はSiC単結晶基板であり、上記平滑面はSiC単結晶における{0001}面であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体。
- 上記積層半導体層上に窒化物半導体からなるヘテロ構造を具備することを特徴とする請求項3に記載の半導体。
- 上記凹部の深さが1nmから50nmであることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の半導体。
- 上記凹部はディンプル状に形成されていることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の半導体。
- 上記積層半導体層は、上記凹部に起因した第2凹部が表面に維持される範囲内でステップフロー成長され、
上記第2凹部が形成された表面上においてステップフロー成長され上記積層半導体層とは異なる第2積層半導体層が設けられていることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか一項に記載の半導体。 - 平滑面を有するSiC結晶で構成された被積層半導体層と、当該平滑面上に形成されたSiC単結晶で構成された積層半導体層とを備える半導体を製造する半導体製造方法において、
上記SiC結晶で構成された被積層半導体層が有する平滑面が残るように機械加工によって当該平滑面から凹んだ凹部を形成し、
この凹部が形成された上記平滑面上において上記SiC単結晶で構成される積層半導体層をステップフロー成長させることを特徴とする特徴とする半導体製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006125708A JP4933137B2 (ja) | 2006-04-28 | 2006-04-28 | 半導体および半導体製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006125708A JP4933137B2 (ja) | 2006-04-28 | 2006-04-28 | 半導体および半導体製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007299877A JP2007299877A (ja) | 2007-11-15 |
JP4933137B2 true JP4933137B2 (ja) | 2012-05-16 |
Family
ID=38769143
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006125708A Active JP4933137B2 (ja) | 2006-04-28 | 2006-04-28 | 半導体および半導体製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4933137B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102471928A (zh) * | 2010-03-02 | 2012-05-23 | 住友电气工业株式会社 | 制造碳化硅衬底的方法 |
JP6123408B2 (ja) | 2013-03-26 | 2017-05-10 | 三菱電機株式会社 | 単結晶4H−SiC基板及びその製造方法 |
JP2017122047A (ja) * | 2017-03-29 | 2017-07-13 | 三菱電機株式会社 | 単結晶4H−SiC基板及びその製造方法 |
CN106997916A (zh) * | 2017-04-17 | 2017-08-01 | 山东大学 | 一种基于纳米划痕技术提高led光提取效率的方法及应用 |
JP6737378B2 (ja) * | 2019-05-09 | 2020-08-05 | 信越化学工業株式会社 | SiC複合基板 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3520571B2 (ja) * | 1994-08-24 | 2004-04-19 | 松下電器産業株式会社 | 単結晶の成長方法 |
JP4255866B2 (ja) * | 1998-10-10 | 2009-04-15 | Hoya株式会社 | 炭化珪素膜及びその製造方法 |
JP4224195B2 (ja) * | 2000-10-06 | 2009-02-12 | 新日本製鐵株式会社 | 炭化珪素単結晶育成用種結晶および炭化珪素単結晶の製造方法 |
JP3546023B2 (ja) * | 2001-03-23 | 2004-07-21 | 三菱電線工業株式会社 | 結晶成長用基板の製造方法、およびGaN系結晶の製造方法 |
JP2004035360A (ja) * | 2002-07-05 | 2004-02-05 | Sumitomo Electric Ind Ltd | GaN単結晶基板、窒化物系半導体エピタキシャル基板及びその製造方法 |
JP2005244202A (ja) * | 2004-01-26 | 2005-09-08 | Showa Denko Kk | Iii族窒化物半導体積層物 |
JP2005217374A (ja) * | 2004-02-02 | 2005-08-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 化合物半導体素子の製造方法 |
JP4408247B2 (ja) * | 2004-08-10 | 2010-02-03 | 新日本製鐵株式会社 | 炭化珪素単結晶育成用種結晶と、それを用いた炭化珪素単結晶の製造方法 |
JP4571476B2 (ja) * | 2004-10-18 | 2010-10-27 | ローム株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
-
2006
- 2006-04-28 JP JP2006125708A patent/JP4933137B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007299877A (ja) | 2007-11-15 |
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