JP4927403B2

JP4927403B2 - 紫外線遮蔽性貼付剤

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Publication number: JP4927403B2
Application number: JP2005505983A
Authority: JP
Inventors: 好明橋本; 恭憲高田; 清美鶴田
Original assignee: Hisamitsu Pharmaceutical Co Inc
Current assignee: Hisamitsu Pharmaceutical Co Inc
Priority date: 2003-05-07
Filing date: 2004-05-07
Publication date: 2012-05-09
Anticipated expiration: 2024-05-07
Also published as: CA2524891A1; EP1621188A4; AU2004236606A1; PL1621188T3; WO2004098575A1; AU2004236606B2; BRPI0410093A; HK1087634A1; TW200510007A; JPWO2004098575A1; TWI327074B; EP1621188A1; PT1621188E; BRPI0410093B1; US20060198880A1; BRPI0410093B8; KR101066192B1; ES2426168T3; CA2524891C; CN1784219A

Description

本発明は、紫外線遮蔽効果に優れた貼付剤に関する。

貼付剤は皮膚表面に貼り付けて使用するため、適用部位によっては屋外において太陽光線の照射を受ける場合がある。そのため太陽からの紫外線により分解されやすい化合物を含有する貼付剤においては、基剤中薬物が分解して本来の薬効を発現できなかったり、その光分解物が副作用を誘発したりする等の問題があった。

従来、このような紫外線による影響を避ける工夫として、基剤に紫外線吸収剤を添加することが一般的に試みられている。例えば、基剤中に紫外線吸収剤を配合することにより、薬効成分の光分解を抑えた外用剤があるが（例えば、特許文献１参照）、紫外線吸収剤自体が皮膚に接触または吸収されるため安全性が懸念されるという問題があった。また、貼付剤の支持体に紫外線吸収剤を含有させる方法も提案されている（例えば、特許文献２および３参照）。支持体として２層以上からなる積層体を有し、該積層体の少なくとも一層が紫外線吸収剤を含有する樹脂フィルムからなる経皮吸収貼付剤もある（例えば、特許文献４参照）。また、有機系紫外線吸収剤及び／または無機系紫外線遮断剤で加工した単層の支持体により薬物の光安定性を高めた貼付剤が開示されている（例えば、特許文献５参照）。

しかしながら、これらは水銀ランプや室内光等の人工光により照射された紫外線を遮蔽する効果は認められるものの、紫外線量の多い季節に太陽光線を直射した際に生じる薬物光分解を十分抑制するには不十分であり、さらに衣服や保護カバーにより貼付剤を覆うなどの補助手段が必要であるという欠点があった。

：特公平５−８１６９号公報：特公平３−７６２８５号公報：実開平５−３０１１８号公報：特開平１０−２６５３７１号公報：ＷＯ０１／６８０６１公報

従って、本発明の課題は、紫外線量の多い季節に太陽光線を直射した場合にも薬物が光分解することなく、薬効を十分発現するとともに製剤物性や安全性に優れた貼付剤を提供することにある。

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねる中で、ポリエステル系伸縮性支持体をある特定のヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール誘導体により紫外線遮蔽加工することにより、貼付剤中の薬物の光分解を顕著に抑制できることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は、ポリエステル系支持体の片面に非ステロイド系抗炎症薬（ＮＳＡＩＤ）を含有する粘着剤層が設けられた貼付剤であって、該支持体が一般式（１）：

式中、
Ｒ_１及びＲ_２は、同一又は異なっていてもよく、水素またはＣ_１〜Ｃ_８のアルキルであり、Ｘは、ハロゲン原子である、
で表されるヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール誘導体を含有する、前記貼付剤に関する。

また、本発明は、支持体が、さらに酸化チタンを含有することを特徴とする、前記貼付剤に関する。
さらに、本発明は、支持体の紫外線透過率が、２％以下であることを特徴とする、前記貼付剤に関する。
また、本発明は、支持体の目付が、１００ｇ／ｍ^２〜１３０ｇ／ｍ^２であることを特徴とする、前記貼付剤に関する。

さらに、本発明は、非ステロイド系抗炎症薬（ＮＳＡＩＤ）が、ケトプロフェンであることを特徴とする、前記貼付剤に関する。
また、本発明は、粘着剤層が、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体および／またはポリイソブチレンからなることを特徴とする、前記貼付剤に関する。
さらに、本発明は、粘着剤層が、紫外線吸収剤を含有しないことを特徴とする、前記貼付剤に関する。

本発明の貼付剤は、ポリエステル系支持体を特定のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤で処理することにより、支持体の紫外線透過率を驚くほどに低くすることができ、紫外線量の多い季節に太陽光線を直射した際にも、薬効を十分発現する。従って、紫外線に対する安定性の悪い非ステロイド系抗炎症薬（ＮＳＡＩＤ）に好適に用いることができる。また、粘着剤層が紫外線吸収剤を含有しない場合であっても、粘着剤層の劣化がなくその安定性に優れ、また紫外線吸収剤自体が皮膚に接触しないため、安全性にも優れたものである。
本発明の貼付剤は、紫外線強度が３ｍＷ／ｃｍ^２の条件下での支持体の紫外線透過率が、好ましくは２％以下である。なお、上記紫外線量は、季節や地域により変動が認められ、一例として２００２年８月２２日の佐賀県鳥栖市における日中の紫外線強度を後述の方法により測定したところ、２．９ｍＷ／ｃｍ^２であり、１日あたりの累積紫外線量は８１９３６ｍＪ／ｃｍ^２であったのに対し、同地域の２００２年１１月５日の紫外線強度は、１．６ｍＷ／ｃｍ^２、累積紫外線量は４７３４０ｍＪ／ｃｍ^２であった。即ち、本発明の貼付剤は、紫外線量の多い季節の強い紫外線強度下であっても、従来にないほど紫外線透過率を低くすることができる。

本発明の貼付剤は、主に、硬膏剤（テープ剤）に用いることができる。
本発明の貼付剤は、ポリエステル系支持体にベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤をそれぞれ吸着、吸収、固定若しくは支持体を構成する繊維に練り込ませる等して含有させたものである。上記本発明のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤は、式（１）で表されるベンゾトリアゾール誘導体であり、Ｒ_１及びＲ_２は水素または低級アルキル基を表し、ポリエステル系支持体の加工のし易さの点で、Ｃ_１〜Ｃ_８のアルキル基であることが好ましく、メチル又はｔ−ブチルであることが更に好ましい。
Ｘは、ハロゲン原子を表し、フッ素、臭素、塩素のいずれかであることが好ましく、ポリエステル系支持体の加工のし易さの点で、塩素であることが特に好ましい。
また、Ｒ_１及びＲ_２は同一または異なってもよい。

具体的には以下の化合物が挙げられる。すなわち、２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等が挙げられる。

これらベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を用いた紫外線遮蔽加工としては、単層からなる貼付剤用支持体の材料である繊維または布帛に該吸収剤を吸着、吸収または固着させる方法が用いられる。または、上記支持体材料である繊維の製造工程（重合または紡糸工程）で、ポリマーに該吸収剤を添加または練り込んで改質し、その後改質ポリマーを繊維化して支持体用部材としてもよい。
これらベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の支持体への配合量は支持体全体（吸収剤を含む）の質量に対し、好ましくは０．０１〜２０質量％、より好ましくは０．０５〜５質量％、さらに好ましくは１〜２質量％である。

さらに本発明に用いられる支持体の紫外線遮蔽効果を得るために、紫外線遮蔽剤である金属酸化物で処理してもよく、具体的には、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、タルク、カオリン、アルミナ、炭酸カルシウムより選ばれる１種または２種以上を配合することができる。特に酸化チタンを用いて加工するのが好ましい。
これら無機系遮蔽剤を用いた紫外線遮蔽加工としては、繊維の製造工程（ポリマーまたは紡糸工程）で、ポリマー中に無機系遮蔽剤を添加または練り込んで改質した後、繊維化する方法が一般に用いられる。
その配合量は支持体全体の質量に対し０．１〜２０質量％、好ましくは０．５〜１０質量％で配合することが好ましく、これらの配合割合にすることにより紫外線に対する遮蔽効果を十分に発揮することができる。

支持体の材質は、ポリエステル系の基布であり、具体的には、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。これらを織布、編み布、不織布あるいはフィルムなどに加工して用いることができる。

支持体の目付は、紫外線の透過率、皮膚への使用感を考慮すると、好ましくは、１００ｇ／ｍ^２〜１３０ｇ／ｍ^２であり、さらに好ましくは、１０５ｇ／ｍ^２〜１２０ｇ／ｍ^２である。

本発明に用いられる支持体の紫外線透過率は、紫外線強度が３．０ｍＷ／ｃｍ^２の条件下で好ましくは、２．０％以下、より好ましくは、１．５％以下、さらに好ましくは１．０％以下である。なお、紫外線強度の測定には、紫外線強度計（株式会社トプコン、ＵＶＲ−２）を用い、受光部には、ＵＤ−３６を使用し、測定波長域は、３１０〜４００ｎｍである。紫外線透過率の算出は、支持体に対して直射日光が十分照射される環境下にて、支持体を透過する紫外線量を測定し、上記製剤のない場合の紫外線強度を１００としてそれぞれの透過率を算出する。

本発明の貼付剤に用いられる非ステロイド系抗炎症薬（ＮＳＡＩＤ）は、ケトプロフェン、ジクロフェナク、スプロフェン、ピロキシカム、インドメタシン、フルルビプロフェン、フェルビナク、ロキソプロフェン、イブプロフェン、ケトロラク、ナプロキセン、ベノキサプロフェン、カルプロフェン、フェノプロフェンまたはそれらの塩が挙げられ、これらの薬物を１種または２種以上配合することができる。これらの非ステロイド系抗炎症薬のうち、ケトプロフェンが最適である。非ステロイド系抗炎症薬の配合割合は、薬物を含む基剤総量基準で０．０１〜３０質量％、好ましくは０．１〜１６質量％であり、医学的に許容される無機塩または有機塩の形態も含まれ、この配合割合にすることにより薬効を十分に期待することができる。

本発明の貼付剤に用いる基剤としては、ゴム系基剤が好ましく、ゴム系基剤としては、合成ゴムあるいは天然ゴムとしてポリイソプレンゴム、ポリイソブチレンゴム、天然ゴム、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体、スチレン−イソプレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−エチレン−プロピレン−スチレンブロック共重合体等が挙げられる。

なお、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体は、紫外線に対して劣化しやすく、光安定性が悪いため、本発明に用いられる支持体を好適に用いることができる。スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体を用いた場合には、重量平均分子量が１００，０００〜３００，０００であることが好ましく、例えばクレイトンＤ−ＫＸ４０１ＣＳまたはＤ−１１０７ＣＵ（シェル化学株式会社製）、ＳＩＳ−５０００またはＳＩＳ−５００２（日本合成ゴム株式会社製）、クインタック３５３０、３４２１または３５７０Ｃ（日本ゼオン株式会社製）、ソルプレン４２８（フイリップペトロリアム株式会社製）が挙げられる。基剤にはこれらスチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体を１種または２種以上配合することができ、その配合量は、凝集力、作業性を考慮すると、基剤総量基準で好ましくは１０〜５０質量％、より好ましくは１３〜４０質量％、さらにより好ましくは１５〜３０質量％の範囲である。

本発明の貼付剤の基剤は、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体として前記した重量平均分子量を有するものを、前記した配合割合で含有すること、より好ましくはさらに粘度及び粘着力を調整することにより、皮膚への付着性、剥離時の痛み、皮膚のかぶれ等が大きく改善される。

また、本発明の貼付剤の基剤は、ポリイソブチレンを配合してもよく、その配合量は基剤総量基準で好ましくは１〜５０質量％、より好ましくは５〜４０質量％である。なお、平均分子量の異なる２種以上のポリイソブチレンを組合わせて使用してもよく、例えば、粘度平均分子量（Ｓｔａｕｄｉｎｇｅｒ法）が５，０００〜１５，０００のポリイソブチレンと、粘度平均分子量が５０，０００〜２００，０００のポリイソブチレンとの組合わせが好ましい。そして、これらのポリイソブチレンを特定の割合で配合することがさらに好ましい。

粘度平均分子量が５，０００〜１５，０００のポリイソブチレンとしては、ビスタネックスＬＭ−ＭＳ及びＬＭ−ＭＨ（エクソン化学株式会社製）、テトラックス４Ｔ、５Ｔ及び６Ｔ（日本石油化学株式会社製）、オパノールＢ１２ＳＦ及びＢ１５ＳＦ（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）等が挙げられ、これらの１種または２種以上をテープ剤基剤に配合することができる。その配合量は、基剤総量基準で好ましくは１〜５０質量％、より好ましくは５〜３０質量％である。

粘度平均分子量が５０，０００〜２００，０００のポリイソブチレンとしては、ビスタネックスＭＭＬ−８０、ＭＭＬ−１００、ＭＭＬ−１２０及びＭＭＬ−１４０（エクソン化学株式会社製）、オパノールＢ８０、Ｂ１００、Ｂ１２０及びＢ１５０（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）等が挙げられ、これらの１種または２種以上をテープ剤基剤に配合することができる。その配合量は基剤総量基準で好ましくは０．１〜４０質量％、より好ましくは１〜３０質量％であり、これらの配合割合にすること、より好ましくはさらに粘度及び粘着力を調整することにより、基剤の粘着力、長時間の皮膚への付着性、剥離時の痛み、皮膚のかぶれ等が大きく改善される。
なお、粘度平均分子量が異なるポリイソブチレンを２種以上配合するときは、ポリイソブチレン全体量が基剤総量基準で５０質量％を超えないことが好ましい。

本発明に係る好ましい粘着性基剤は、スチンン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、ポリイソブチレン、粘着付与剤及び可塑剤を含有し、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、ポリイソブチレン及び粘着付与剤を所望の割合で混合した後、この混合物を可塑剤により前記の粘度になるように調整して得ることができる。本発明の貼付剤の粘着力は、主として粘着性基剤の組成を調整することにより調整することができる。

粘着付与剤としては、軟化点が６０℃〜１５０℃のものが好ましく、例えばロジンエステル、水添ロジンエステル、マレイン酸変性ロジンエステル、ポリテルペン樹脂、石油樹脂を用いることができ、具体的にはエステルガムＡ、ＡＡ−Ｇ、Ｈ、またはＨＰ（荒川化学株式会社製）、ハリエスターＬ、Ｓ、またはＰ（播磨化成株式会社製）、パインクリスタルＫＥ−１００、またはＫＥ−３１１（荒川化学株式会社製）、ハーコリンＤ（理化ハーキュンス株式会社製）、フォーラル８５、または１０５（理化ハーキュレス株式会社製）、ステベライトエステル７、または１０（理化ハーキュレス株式会社製）、ペンタリン４８２０、または４７４０（理化ハーキュレス株式会社製）、アルコンＰ−８５、またはＰ−１００（荒川化学株式会社製）、エスコレッツ５３００（エクソン化学株式会社製）、クリアロンＫ、Ｍ、またはＰ（ヤスハラケミカル株式会社製）等が挙げられ、これらの１種または２種以上を粘着性基剤に配合することができる。粘着付与剤の配合量は、基剤総量基準で好ましくは５〜５０質量％、より好ましくは７〜４５質量％、さらにより好ましくは１０〜４０質量％であり、基剤の粘度及び粘着力が前記した範囲になるように調整される。この配合割合にすることにより、得られる基剤の粘着力、皮膚への付着性、剥離時の痛み、皮膚のかぶれ等が大きく改善される。

可塑剤としては、溶液粘度が１０〜１００センチストークス（４０℃）のものが好ましく、例えばアーモンド油、オリーブ油、ツバキ油、パーシック油、ラッカセイ油、オレフィン酸、流動パラフィンが挙げられ、これらを１種または２種以上粘着性基剤に配合することができる。その配合割合は基剤総量基準で好ましくは１０〜７０質量％、より好ましくは１５〜６０質量％、さらにより好ましくは２０〜５５質量％であり、基剤の粘度及び粘着力が前記した範囲になるように調整される。この配合割合にすることにより、得られる基剤の粘着力、皮膚への付着性、薬物の基剤中均一分散性、剥離時の痛み、角質層へのダメージ、皮膚のかぶれ及び熱安定性等が大きく改善される。

本発明の貼付剤の基剤は、従来公知の充填剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、溶解剤等を含有することができる。充填剤としては、たとえば酸化亜鉛、酸化アルミニウム、二酸化チタン、炭酸カルシウム、合成ケイ酸アルミニウム、シリカ類、酸化マグネシウム、ステアリン酸金属塩類等が用いられる。酸化防止剤としては、たとえばアスコルビン酸、酢酸トコフェロール、天然ビタミンＥ、ジブチルヒドロキシトルエン、没食子酸プロピル等が用いられる。紫外線吸収剤としては、たとえば２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、サリチル酸グリコール、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が用いられるが、皮膚への安全性を考慮すると含有しないのが好ましい。溶解剤としては、たとえばオレイン酸、ベンジルアルコール、ミリスチン酸イソプロピル、クロタミトン、オレイルアルコール、ユーカリ油、リモネン、イソプレゴールまたはその他の製油類が用いられる。また、界面活性剤、油脂、高級脂肪酸、着香剤等を必要に応じて含有することができる。更に、Ｌ−メントール、カンフル、ハッカ油、トウガラシエキス、カプサイシン、ニコチン酸ベンジル、サリチル酸メチル、サリチル酸グリコール等の皮膚刺激剤（カウンターイリタント）を必要に応じて適宜配合することもできる。

次に、本発明の貼付剤の製造方法について説明する。一例として、まずスチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体及びポリイソブチレンに、粘着付与剤及び可塑剤を加えて粘度及び粘着力を調整し、任意に充填剤及び酸化防止剤等を所定の割合で加え混合物となし、これを窒素ガス雰囲気下で加熱攪拌して溶解物とする。攪拌時の温度は１１０〜２００℃であり、攪拌時間は３０〜１２０分間である。次に、薬効成分を前記溶解物の攪拌時に温度が１１０〜２００℃の範囲内で添加し、１〜３０分間混合して均一な溶解物を得る。次に、この溶解物を通常の方法で直接、紫外線吸収剤及び／または紫外線遮蔽剤にて特殊加工した支持体に展延した後、剥離被覆物で覆うか、あるいは一旦剥離被覆物に展延した後、支持体で覆い圧着転写させてもよい。剥離被覆物は剥離処理を施した剥離紙、セロファン、またはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル等のフィルムから適宜選択できる。

以下、本発明の実施例を示して、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲での種々の変更が可能である。尚、実施例において、「％」は、全て質量％を意味する。

テープ製剤１（実施例１）
スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体（クレイトンＤ−１１０７ＣＵ：シェル化学製）２２質量部、ポリイソブチレン２２質量部（オパノールＢ８０：ＢＡＳＦ製）、水添ロジンエステル（ステベライトエステル：理化ハーキュレス製）１２質量部、流動パラフィン（クリストールＪ−３５２：エッソ石油製）４０質量部、ジブチルヒドロキシトルエン１質量部を、窒素ガス雰囲気下１１０〜２００℃の温度範囲で撹拌しながらケトプロフェン３質量部を添加し、更に５〜３０分混合して均一な溶解物を得て、テープ用基剤とした。次に基剤を７０ｃｍ^２あたり１ｇとなるように、シリコーン処理したポリエステルフィルムに展延した。

一方、２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール（ＴＩＮＵＶＩＮ３２６：ナガセ化成製）１質量部を目付け約１１０ｇ／ｍ^２のポリエステル織布９９質量部に吸着させ、紫外線遮蔽加工した支持体を得た。上記フィルム上の展延基剤をこの支持体で覆って圧着転写させ、所望の大きさに裁断しテープ剤とした。

テープ製剤２（実施例２）
２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール（ＴＩＮＵＶＩＮ３２６：ナガセ化成製）２質量部をポリエステル織布９８質量部に吸着させ、紫外線遮蔽加工した支持体を得たこと以外は、実施例１と同様にしてケトプロフェンテープ剤を得た。

テープ製剤３（実施例３）
２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール（ＴＩＮＵＶＩＮ３２６：ナガセ化成製）３質量部をポリエステル織布９７質量部に吸着させ、紫外線遮蔽加工した支持体を得たこと以外は、実施例１と同様にしてケトプロフェンテープ剤を得た。

テープ製剤４（実施例４）
酸化チタン１．５質量部をポリエステル樹脂９７．５質量部に練り込んだ織布に、更に２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール（ＴＩＮＵＶＩＮ３２６：ナガセ化成製）１質量部を吸着させ、紫外線遮蔽加工した支持体を得たこと以外は、実施例１と同様にしてケトプロフェンテープ剤を得た。

テープ製剤５（実施例５）
酸化チタン１．５質量部をポリエステル樹脂９６．５質量部に練り込んだ織布に、更に２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール（ＴＩＮＵＶＩＮ３２６：ナガセ化成製）２質量部を吸着させ、紫外線遮蔽加工した支持体を得たこと以外は、実施例１と同様にしてケトプロフェンテープ剤を得た。

テープ剤製６（実施例６）
酸化チタン０．１質量部をポリエステル樹脂９７．９質量部に練り込んだ織布に、更に２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール（ＴＩＮＵＶＩＮ３２６：ナガセ化成製）２質量部を吸着させ、紫外線遮蔽加工した支持体を得たこと以外は、実施例１と同様にしてケトプロフェンテープ剤を得た。

テープ剤製７（実施例７）
酸化チタン０．２質量部をポリエステル樹脂９７．８質量部に練り込んだ織布に、更に２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール（ＴＩＮＵＶＩＮ３２６：ナガセ化成製）２質量部を吸着させ、紫外線遮蔽加工した支持体を得たこと以外は、実施例１と同様にしてケトプロフェンテープ剤を得た。

テープ製剤８（比較例１，３）
ポリエステル織布に紫外線遮蔽加工を行わない（未処理）こと以外は、実施例１と同様にしてケトプロフェンテープ剤を得た。

テープ製剤９（比較例２）
ポリエステル織布の紫外線遮蔽加工に用いる紫外線吸収剤を２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールに代えたこと以外は、実施例２と同様にしてケトプロフェンテープ剤を得た。

光透過試験
各テープ製剤１〜９（実施例１〜７、比較例１〜３）に使用した支持体について光透過性拭験を行った。まず、直射日光下で紫外線強度計（株式会社トプコン、ＵＶＲ−２）により紫外線強度を測定した。このときの受光部には、ＵＤ−３６を使用し、測定波長域は、３１０〜４００ｎｍであった。次に各支持体に対して直射日光が十分照射される環境下にて、支持体を透過する紫外線量を測定し、上記支持体のない場合の紫外線強度（実施例１〜５、比較例１及び２約３．０ｍＷ／ｃｍ^２、実施例６〜７、比較例３約１．６ｍＷ／ｃｍ^２）を１００とした時の紫外線透過率を算出し光透過性試験とした。

光安定性試験１
各テープ製剤１〜９（実施例１〜７、比較例１〜３）について以下の通り、薬物の光安定性試験を行った。すなわち、各テープ製剤の支持体面を上にして直射日光が十分照射する場所へ放置し、基剤中の薬物残存率を液体クロマトグラフィーにより測定した。なお、実施例１〜５、比較例１および２の試験を実施した２００２年８月２２日の佐賀県鳥栖市における日中（快晴）の紫外線量は、１時間あたり約１００００ｍＪ／ｃｍ^２、照射時間は８時間（累積紫外線量約８００００ｍＪ／ｃｍ^２）であり、実施例６および７、比較例３の試験を実施した２００２年１１月５日〜６日の佐賀県鳥栖市における日中の紫外線量は、１時間あたり約６０００ｍＪ／ｃｍ^２、照射時間は１５時間（累積紫外線量約８５０００ｍＪ／ｃｍ^２）であった。

光安定性試験２
各テープ製剤の支持体面を上にして直射日光が十分照射する場所へ放置し、試験後（実施例１〜５、比較例１および２：紫外線量１時間あたり約１００００ｍＪ／ｃｍ^２、照射時間８時間、累積紫外線量約８００００ｍＪ／ｃｍ^２、実施例６および７、比較例３：紫外線量１時間あたり約６０００ｍＪ／ｃｍ^２、照射時間１５時間、累積紫外線量約８５０００ｍＪ／ｃｍ^２）における基剤の着色の度合いについて外観を観察した。

光安定性試験３
各テープ製剤の支持体面を上にして直射日光が十分照射する場所へ放置し、試験後（実施例１〜５、比較例１および２：紫外線量１時間あたり約１００００ｍＪ／ｃｍ^２、照射時間８時間、累積紫外線量約８００００ｍＪ／ｃｍ^２、実施例６および７、比較例３：紫外線量１時間あたり約６０００ｍＪ／ｃｍ^２、照射時間１５時間、累積紫外線量約８５０００ｍＪ／ｃｍ^２）における基剤の凝集力（べたつき）について外観を観察した。

結果を表１にまとめた。

官能性試験
テープ製剤５７０ｃｍ^２をボランティア５名のひざに８時間貼付し、付着性、貼付時の違和感について評価し使用性の総合判定を行った。
使用性の評価基準
付着性
全く剥がれていない：◎ 端の部分が剥がれた：○ １／４以上が剥がれた：△ １／２以上が剥がれた：×
貼付時の違和感
全く突っ張り感がない：○ やや突っ張り感がある：△ 突っ張り感がある：×
総合判定
使用性に満足：○ 使用性にやや不満：△ 使用性に不満：×
結果を表２にまとめた。

［表２］

本発明の貼付剤は、紫外線遮蔽効果に優れ、紫外線量の多い直射日光を照射した場合であっても、支持体の紫外線透過率を低くすることができ、粘着剤層のシミ出し等の劣化がなく、薬効を十分に発揮することができる。また、紫外線吸収剤自体が皮膚へ接触することがないため、皮膚への刺激性を低減することができ、安全性に優れ、また使用感が優れるものである。

Claims

ポリエステル系支持体の片面に非ステロイド系抗炎症薬（ＮＳＡＩＤ）を含有する粘着剤層が設けられた貼付剤であって、該支持体が一般式（１）：

式中、
Ｒ_１及びＲ_２は、同一又は異なっていてもよく、水素またはＣ_１〜Ｃ_８のアルキルであり、Ｘは、ハロゲン原子である、
で表されるヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール誘導体を含有し、前記非ステロイド系抗炎症剤（ＮＳＡＩＤ）が、ケトプロフェンである、前記貼付剤。
支持体が、さらに酸化チタンを含有することを特徴とする、請求項１に記載の貼付剤。
支持体の紫外線透過率が、２％以下であることを特徴とする、請求項１または２に記載の貼付剤。
支持体の目付が、１００ｇ／ｍ２〜１３０ｇ／ｍ２であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の貼付剤。
粘着剤層が、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体および／またはポリイソブチレンからなることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の貼付剤。
粘着剤層が、紫外線吸収剤を含有しないことを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の貼付剤。