JP4925780B2 - パターン修正方法およびパターン修正装置 - Google Patents
パターン修正方法およびパターン修正装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4925780B2 JP4925780B2 JP2006267446A JP2006267446A JP4925780B2 JP 4925780 B2 JP4925780 B2 JP 4925780B2 JP 2006267446 A JP2006267446 A JP 2006267446A JP 2006267446 A JP2006267446 A JP 2006267446A JP 4925780 B2 JP4925780 B2 JP 4925780B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- hole
- films
- substrate
- holes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W30/00—Technologies for solid waste management
- Y02W30/50—Reuse, recycling or recovery technologies
- Y02W30/82—Recycling of waste of electrical or electronic equipment [WEEE]
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
Claims (9)
- 基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正方法において、
第1のフィルムにレーザ光を照射して前記欠陥部に応じた形状の第1の貫通孔を形成するとともに第2のフィルムにレーザ光を照射して前記欠陥部に応じた形状の第2の貫通孔を形成し、
前記第1および第2の貫通孔が上下に重なるように前記第1および第2のフィルムを上下に重ねるとともに前記第2の貫通孔の開口部を前記欠陥部に所定の隙間を開けて対峙させ、
前記第1および第2の貫通孔を含む所定の範囲で前記第1および第2のフィルムを前記基板に押圧するとともに前記第1および第2の貫通孔を介して前記欠陥部に修正液を塗布し、
前記第1および第2のフィルムの復元力で前記第1および第2のフィルムを前記基板から剥離させることを特徴とする、パターン修正方法。 - 前記第1および第2の貫通孔を介して前記欠陥部に前記修正液を塗布する際に、前記修正液の一部を前記第1および第2のフィルムの隙間に吸い込ませることを特徴とする、請求項1に記載のパターン修正方法。
- 前記第1および第2のフィルムは1枚の第3のフィルムに含まれ、
ローラを介して前記第3のフィルムを折り返し、
折り返した前記第3のフィルムのうちの上方に位置する前記第2のフィルムにレーザ光を照射して前記第2の貫通孔を形成し、
前記第3のフィルムを駆動して前記第2のフィルムの上方に前記第1のフィルムを配置し、
前記第1のフィルムにレーザ光を照射して前記第1の貫通孔を形成し、
前記第1のフィルムを前記第2のフィルムの上に重ねて前記第1の貫通孔を前記第2の貫通孔の上に位置決めすることを特徴とする、請求項1または請求項2に記載のパターン修正方法。 - 前記第1のフィルムにレーザ光を照射して前記第1の貫通孔を形成したとき、前記第1および第2の貫通孔は上下に重ならないようにされていることを特徴とする、請求項3に記載のパターン修正方法。
- 前記第1および第2のフィルムは1枚の第3のフィルムに含まれ、
ローラを介して前記第3のフィルムを折り返し、
折り返した前記第3のフィルムのうちの上方に位置する前記第2のフィルムにレーザ光を照射して前記第2の貫通孔を形成し、
前記第3のフィルムを駆動して前記第1のフィルムを前記第2のフィルムの上に重ね、
前記第1のフィルムにレーザ光を照射して前記第2の貫通孔の上に前記第1の貫通孔を形成することを特徴とする、請求項1または請求項2に記載のパターン修正方法。 - 基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置において、
第1のフィルムにレーザ光を照射して前記欠陥部に応じた形状の第1の貫通孔を形成するとともに第2のフィルムにレーザ光を照射して前記欠陥部に応じた形状の第2の貫通孔を形成するレーザ照射手段と、
前記第1および第2の貫通孔が上下に重なるように前記第1および第2のフィルムを上下に重ねるとともに前記第2の貫通孔の開口部を前記欠陥部に所定の隙間を開けて対峙させるフィルム駆動手段と、
前記第1および第2の貫通孔を含む所定の範囲で前記第1および第2のフィルムを前記基板に押圧するとともに前記第1および第2の貫通孔を介して前記欠陥部に修正液を塗布する塗布手段とを備え、
前記第1および第2のフィルムの復元力で前記第1および第2のフィルムを前記基板から剥離させることを特徴とする、パターン修正装置。 - 前記第2の貫通孔は、前記第2のフィルムの表面側から裏面側に向かって小径になる断面テーパ形状を有し、
前記フィルム駆動手段は、前記第2の貫通孔の前記第2のフィルムの表面側の開口部を前記欠陥部に対峙させることを特徴とする、請求項6に記載のパターン修正装置。 - 前記第1および第2のフィルムは1枚の第3のフィルムに含まれ、
前記フィルム駆動手段は、前記第3のフィルムを折り返して前記第2のフィルムの上方に前記第1のフィルムを配置するためのローラを含むことを特徴とする、請求項6または請求項7に記載のパターン修正装置。 - 前記フィルム駆動手段は、前記第1のフィルムを下方に押圧して前記第2のフィルムの上に重ねる押圧手段を含むことを特徴とする、請求項8に記載のパターン修正装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006267446A JP4925780B2 (ja) | 2006-09-29 | 2006-09-29 | パターン修正方法およびパターン修正装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006267446A JP4925780B2 (ja) | 2006-09-29 | 2006-09-29 | パターン修正方法およびパターン修正装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008089667A JP2008089667A (ja) | 2008-04-17 |
JP4925780B2 true JP4925780B2 (ja) | 2012-05-09 |
Family
ID=39373936
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006267446A Expired - Fee Related JP4925780B2 (ja) | 2006-09-29 | 2006-09-29 | パターン修正方法およびパターン修正装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4925780B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4931124B2 (ja) * | 2006-10-17 | 2012-05-16 | レーザーテック株式会社 | 欠陥修正装置、欠陥修正方法、及びパターン基板製造方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005317802A (ja) * | 2004-04-28 | 2005-11-10 | Lasertec Corp | パターン基板の欠陥修正方法及び欠陥修正装置並びにパターン基板製造方法 |
JP3580550B1 (ja) * | 2003-08-20 | 2004-10-27 | レーザーテック株式会社 | パターン基板の欠陥修正方法及び欠陥修正装置並びにパターン基板製造方法 |
-
2006
- 2006-09-29 JP JP2006267446A patent/JP4925780B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008089667A (ja) | 2008-04-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101286797B1 (ko) | 도포침과, 그것을 이용한 도포 기구, 결함 수정 장치, 도포방법, 및 액정 표시 패널용 칼라 필터의 결함 수정 방법 | |
JP2008192901A (ja) | パターン修正装置およびそれに用いられる塗布ユニット | |
WO2016199696A1 (ja) | 塗布ユニットおよびそれを用いた塗布装置 | |
JP4942430B2 (ja) | パターン修正方法およびパターン修正装置 | |
JP4925780B2 (ja) | パターン修正方法およびパターン修正装置 | |
JP2012124381A (ja) | 塗布装置、塗布方法、およびパターン修正装置 | |
JP5090038B2 (ja) | パターン修正装置およびパターン修正方法 | |
JP4904168B2 (ja) | パターン修正方法およびパターン修正装置 | |
JP2008089668A (ja) | パターン修正方法およびパターン修正装置 | |
JP4993495B2 (ja) | パターン修正方法およびパターン修正装置 | |
TWI444732B (zh) | A pattern correction method and a pattern correction device | |
TWI421916B (zh) | A pattern correction method and a pattern correction device | |
JP5035794B2 (ja) | パターン修正方法 | |
JP2008281603A (ja) | パターン修正方法 | |
JP5035799B2 (ja) | 欠陥修正方法 | |
KR20080087668A (ko) | 패턴 수정 장치 및 패턴 수정 방법 | |
JP5051643B2 (ja) | 欠陥修正方法 | |
JP2012101175A (ja) | 塗布機構、塗布方法、および塗布装置 | |
JP4860380B2 (ja) | パターン修正方法およびパターン修正装置 | |
JP5052049B2 (ja) | パターン修正方法およびパターン修正装置 | |
JP4987435B2 (ja) | 欠陥修正方法および欠陥修正装置 | |
JP2008020603A (ja) | パターン修正方法およびパターン修正装置 | |
JP2008039977A (ja) | パターン修正方法およびパターン修正装置 | |
JP2008288264A (ja) | パターン修正方法 | |
JP2008015341A (ja) | パターン修正方法およびパターン修正装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090831 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111222 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120117 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120207 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150217 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4925780 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |