JP4921789B2 - 露光方法および露光装置 - Google Patents
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パターンが描かれたフォトマスクと、表面に感光層が形成された基板とを重ねて配置し、フォトマスクを通して基板に光を照射することにより、パターンを基板に転写する露光方法であって、
基板支持台上に基板を保持し、
基板を覆う位置にフォトマスクを保持し、基板とフォトマスクとの間に、開放された周囲を有する空間を形成し、
前記空間内の空気を前記開放された周囲から外方へ導くための空気流を基板の周囲に生じさせ、それによって前記空間内を負圧にさせ、
該負圧の作用によりフォトマスクを基板に接触させることを特徴とする、露光方法が提供される。
パターンが描かれたフォトマスクと、表面に感光層が形成された基板とを重ねて配置し、フォトマスクを通して基板に光を照射することにより、パターンを基板に転写する露光装置であって、
基板を保持するための基板支持台と、
基板を覆う位置にフォトマスクを保持し、基板とフォトマスクとの間に、開放された周囲を有する空間を形成するためのフォトマスク保持部材と、
基板の周囲に設けられた複数の空気流通口と、
該空気流通口に連通する圧力源にして、前記空間内の空気を前記開放された周囲から外方へ導くための空気流を前記空気流通口を通して生じさせるための圧力源と、を備え、
前記空間内の空気が前記空気流によって前記開放された周囲から外方へ導かれることにより該空間内が負圧となり、該負圧の作用によってフォトマスクが基板に接触するようにした、露光装置も提供される。
Claims (8)
- パターンが描かれたフォトマスクと、表面に感光層が形成された基板とを重ねて配置し、フォトマスクを通して基板に光を照射することにより、パターンを基板に転写する露光方法であって、
基板支持台上に基板を保持し、
基板を覆う位置にフォトマスクを保持し、基板とフォトマスクとの間に、開放された周囲を有する空間を形成し、
前記空間内の空気を前記開放された周囲から外方へ導くための空気流を基板の周囲に生じさせ、それによって前記空間内を負圧にさせ、
該負圧の作用によりフォトマスクを基板に接触させることを特徴とする、露光方法。 - 請求項1に記載の露光方法において、前記空気流が、基板の周囲に設けられた複数のノズルから前記空間の外方へ向かって噴出することにより前記空間内の空気を取り込む、加圧源からの空気の流れである、露光方法。
- 請求項1に記載の露光方法において、前記空気流が、基板の周囲に設けられた、負圧源に連通する複数の吸引口へと吸引される前記空間内からの空気の流れである、露光方法。
- 請求項1ないし3のいずれかに記載の露光方法において、フォトマスクを保持する高さ位置を連続的または段階的に基板に近づけながら、基板の中央部から周縁部にかけてフォトマスクを順次接触させてゆく、露光方法。
- パターンが描かれたフォトマスクと、表面に感光層が形成された基板とを重ねて配置し、フォトマスクを通して基板に光を照射することにより、パターンを基板に転写する露光装置であって、
基板を保持するための基板支持台と、
基板を覆う位置にフォトマスクを保持し、基板とフォトマスクとの間に、開放された周囲を有する空間を形成するためのフォトマスク保持部材と、
基板の周囲に設けられた複数の空気流通口と、
該空気流通口に連通する圧力源にして、前記空間内の空気を前記開放された周囲から外方へ導くための空気流を前記空気流通口を通して生じさせるための圧力源と、を備え、
前記空間内の空気が前記空気流によって前記開放された周囲から外方へ導かれることにより該空間内が負圧となり、該負圧の作用によってフォトマスクが基板に接触するようにした、露光装置。 - 請求項5に記載の露光装置において、前記圧力源が加圧源であり、前記空気流通口が、加圧空気を前記空間の外方へ向かって噴出させるノズルであり、該ノズルから噴出する空気が前記空気流を形成し、該空気流の中に前記空間内の空気が取り込まれるようになされている、露光装置。
- 請求項5に記載の露光装置において、前記圧力源が負圧源であり、前記空気流通口が、前記空間内の空気を吸引する吸引口であり、該吸引口内へ吸引される前記空間内の空気が前記空気流を形成する、露光装置。
- 請求項5ないし7のいずれかに記載の露光装置において、前記フォトマスク保持部材が、基板に対して高さが調整可能である、露光装置。
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