JP4918241B2 - 排ガス処理触媒、排ガス処理方法および排ガス処理装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の一実施形態に係る排ガス処理装置の概略図である。
2SO2 + O2 → 2SO3 ・・・・・・・・・・ (2)
4NO + 4NH3 + O2 → 4N2+ 6H2O ・・・・・ (3)
NO + NO2 + 2NH3 → 2N2+ 3H2O ・・・・・ (4)
また、自動車等の移動発生源の近傍では、振動による触媒の破損を回避するため、強度に優れたコージェライト(2MgO・2Al2O3・5SiO2)あるいはムライト(3Al2O3・2SiO2)等が基材として用いられる。
球状チタニア(直径:2mm〜4mm)に対し、塩化金酸(HAuCl4)溶液に含浸して、例えばAu濃度を40g/Lに調整した塩化金酸(HAuCl4)溶液に1分間含浸して、100重量部のチタニア当り1重量部のAuを該チタニアに含浸担持させた。例えば、球状チタニアの含水量がチタニア1g当り0.25mLのとき、球状チタニア100重量部に対し金1重量部を含浸担持させるには、塩化金酸溶液の濃度は、以下の通り計算される。
続いて、金を含浸担持した球状チタンを乾燥した後、500℃にて5時間焼成した。
粉末状チタニア(石原産業株式会社製)と塩化金酸(HAuCl4)溶液とを混合してスラリーを調整した後、このスラリーをスプレイドライ(噴霧乾燥)して、100重量部のチタニア粉末当り1重量部の金を該粉末に担持させ、500℃にて5時間焼成した。
粉末シリカ(富士シリシア化学株式会社製)と塩化金酸(HAuCl4)溶液とを混合してスラリーを調整した後、このスラリーをスプレイドライ(噴霧乾燥)して、100重量部のシリカ粉末当り1重量部の金を該粉末に担持させ、500℃にて5時間焼成した。
オルトチタン酸テトライソプロピル(日本曹達株式会社製、Ti(OiC3H7)4)1,126gとオルトケイ酸テトラエチル(多摩化学株式会社製、Si(OC2H5)4)57.6gを混合し、別の容器にある80℃の熱湯中へ添加し、前記混合物を2時間撹拌して、TiO2、SiO2原料を加水分解させ、TiO2−SiO2の水酸化物を含むスラリーを得た。その後、このスラリーをろ過し、乾燥した後、500℃で5時間焼成して、95重量部のTiO2と5重量部のSiO2からなるTiO2−SiO2の複合酸化物粉末(No.1)を調整した。
100重量部のチタニア(TiO2)当り、9重量部の酸化タングステン(WO3)を含有するハニカム型触媒に対し、塩化金酸(HAuCl4)溶液を含浸して、100重量部のチタニア−酸化タングステン触媒当り1重量部の金を該触媒に含浸させた。続いて、金を含浸担持したチタニア−酸化タングステン触媒を乾燥した後、500℃にて5時間焼成した。
100重量部のチタニア(TiO2)当り、9重量部の酸化タングステン(WO3)を含有するハニカム型触媒に対し、塩化金酸(HAuCl4)溶液を含浸して、100重量部のチタニア−酸化タングステン触媒当り2重量部の金を該触媒に含浸させた。続いて、金を含浸担持したチタニア−酸化タングステン触媒を乾燥した後、500℃にて5時間焼成した。
参考触媒調整法4と同様に操作して得られた複合酸化粉末(No.1)1000gと10%のメチルアミン溶液1Lにパラタングステン酸アンモニウム((NH4)10W12O41・5H2O)101.3gを溶解した溶液を混合した後、さらに水3Lを加え混合してスラリーを調整した。このスラリーをスプレイドライ(噴霧乾燥)して、100重量部の複合酸化粉末(No.1)当り、9重量部の酸化タングステン(WO3)を担持させ、500℃にて5時間焼成した。
基材として用いるコージェライトのハニカム(4.2mmピッチ、壁厚0.6mm)を触媒調整法2で得られたコート用スラリー(No.6)に浸漬し、この触媒を乾燥した後500℃にて5時間焼成した。
[比較触媒調整法1]
100重量部のチタニア(TiO2)当り、9重量部の酸化タングステン(WO3)を含有するハニカム型触媒(TiO2−WO3ハニカム型触媒)に対し、塩化金酸(HAuCl4)溶液を含浸して、100重量部のチタニア−酸化タングステン触媒当り1重量部の金を該触媒に含浸させた。続いて、金を含浸担持したチタニア−酸化タングステン触媒を乾燥した後、500℃にて5時間焼成した。
[比較触媒調整法2]
100重量部のチタニア(TiO2)当り、9重量部の酸化タングステン(WO3)を含有するハニカム型触媒を比較排ガス処理触媒(No.2)とした。
[比較触媒調整法3]
100重量部のチタニア(TiO2)当り、9重量部の酸化タングステン(WO3)と0.7重量部の五酸化バナジウム(V2O5)を含有するハニカム型触媒を比較排ガス処理触媒(No.3)とした。
上記参考排ガス処理触媒(No.1〜No.4)、排ガス処理触媒(No.1〜No.3)および比較排ガス処理触媒(No.1〜No.3)をそれぞれ表1に示す形状、すなわち30mm(5穴)×30mm(5穴)×462mm長さの触媒に形成し、排ガス処理触媒(No.4)を30mm(7穴)×30mm(7穴)×317mm長さの触媒に形成し、このように形成した触媒を直列に2本連結させる。このような形状の参考排ガス処理触媒(No.1〜No.4)、排ガス処理触媒(No.1〜No.4)および比較排ガス処理触媒(No.1〜No.3)に対して、下記の表1に示す条件で排ガスを流通させて、当該触媒の1本目出口(AV=42.74(m3N/m2・h))、2本目出口(AV=21.37(m3N/m2・h)において、SO3還元率および脱硝性能をそれぞれ測定した。表1において、Ugsは空塔速度(流体の流量/流路断面積)を示し、AVは面積速度(ガス量/触媒での全接触面積)を示す。
表2において、SO3還元率および脱硝率は、下記式にてそれぞれ表される。
SO3還元率(%) = (1−出口SO3濃度/入口SO3濃度)×100
脱硝率(%) = (1−出口NOx濃度/入口NOx濃度)×100
2 脱硝触媒
3 排ガス処理装置
4 排ガス
5 アンモニア
Claims (5)
- 排ガスに含まれる窒素酸化物および三酸化硫黄を除去する排ガス処理触媒であって、
チタニア、シリカの少なくとも1種の単独酸化物またはこれらの複合酸化物、及び酸化タングステンからなる担体に金を担持し、前記金を担持した担体を基材の表面に塗布してなる
ことを特徴とする排ガス処理触媒。 - 前記基材は、チタニア−酸化タングステン系脱硝触媒、コージェライト、またはムライトである
ことを特徴とする請求項1に記載された排ガス処理触媒。 - 前記基材の酸化タングステンは、前記基材のチタニア100重量部に対して0.1〜25重量部である
ことを特徴とする請求項2に記載された排ガス処理触媒。 - 排ガスに含まれる窒素酸化物および三酸化硫黄を除去する排ガス処理方法であって、
請求項1乃至請求項3の何れかに記載された排ガス処理触媒にアンモニアを添加した前記排ガスを接触させて、前記三酸化硫黄を還元させると共に、前記窒素酸化物を還元させた
ことを特徴とする排ガス処理方法。 - 排ガスに含まれる窒素酸化物および三酸化硫黄を除去する排ガス処理装置であって、
アンモニアを添加した前記排ガスに接触して配置され、請求項1乃至請求項3の何れかに記載された排ガス処理触媒と、前記排ガス処理触媒の下流に配置された脱硝触媒とを有し、前記排ガス処理触媒にて前記三酸化硫黄を還元させると共に前記窒素酸化物を還元させ、前記脱硝触媒にて前記窒素酸化物をさらに還元させた
ことを特徴とする排ガス処理装置。
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