JP4895682B2 - プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネルの製造装置 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネルの製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4895682B2 JP4895682B2 JP2006145347A JP2006145347A JP4895682B2 JP 4895682 B2 JP4895682 B2 JP 4895682B2 JP 2006145347 A JP2006145347 A JP 2006145347A JP 2006145347 A JP2006145347 A JP 2006145347A JP 4895682 B2 JP4895682 B2 JP 4895682B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- protective film
- gas
- plasma display
- sealing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Description
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、エージング時間を短縮することが可能なプラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネルの製造装置を提供することにある。
前記表面処理ガス供給工程では、前記表面処理ガスの圧力が0.1Pa以上大気圧以下となるように前記表面処理ガスを供給することが好ましい。
本発明によれば、吸着工程が、水素ガス、窒素ガス及びキセノンガスのうち少なくとも1種類の表面処理ガスを保護膜の表面に供給する表面処理ガス供給工程を有し、当該表面処理ガス供給工程では、保護膜の表面に供給する表面処理ガスの圧力が0.1Pa以上大気圧以下となるように表面処理ガスを供給するので、保護膜の表面に供給する表面処理ガスを高い圧力で供給することができる。これにより、保護膜表面にガスを吸着させやすくすることができる。
例えば紫外線硬化樹脂などの樹脂材料からなる封着材を用いて基板を貼り合わせた場合、貼り合わせの際に、紫外線が照射されることによってH2OやCO2などの不純物ガスが発生する。この不純物ガスがパネル内の保護膜の表面に付着し、エージングに悪影響を及ぼすことになるため、従来では低融点ガラスなど、高価ではあるが不純物ガスの発生が少ない材料を用いていた。
本発明によれば、保護膜形成工程から封着工程までを、真空雰囲気中又は露点−60℃以下の雰囲気中で行うこととしたので、保護膜の吸湿を効果的に防ぐことが可能となる。
保護膜の主成分としてSrOを含有する場合、プラズマディスプレイパネルの放電電圧を低下することができる。CaOを主成分として含有する場合、保護膜の耐スパッタ性を高めることができる。また、これらを混合することにより、放電電圧が低く、耐スパッタ性の高い保護膜を得ることができる。一方、SrOやCaOは、H2O、CO2、COなどのガスに対して活性であり、表面に付着したこれらガスと反応してSr(OH)2やCaCO3に変質してしまう。この結果、エージングに悪影響を及ぼし、エージング時間が長くなってしまう。
蒸着法によれば容易に保護膜を形成することができるが、一般的に、蒸着法によって保護膜を形成した場合、原子の欠損が生じることがある。例えば酸化物を蒸着法によって形成する場合、酸素原子の欠損が生じることがある。この原子の欠損部分もまたH2O、CO2、COなどの不純物ガスに対して活性であり、これらの不純物ガスの分子が吸着する虞がある。不純物ガスの分子が欠損部分に吸着すると、やはりエージングに悪影響を及ぼし、エージング時間が長くなってしまう。
本発明によれば、保護膜の形成から吸着、封着までを、真空雰囲気中又は露点−60℃以下の雰囲気中で行うことができるので、プラズマディスプレイパネルの内部を低湿度状態に維持することができる。これにより、長寿命のプラズマディスプレイパネルを製造することができる。
また、少なくとも前記封着部に接続され、前記第1基板又は前記第2基板のうち少なくとも一方に樹脂材料からなる封着材を形成する封着材形成部を更に具備することが好ましい。
本発明によれば、封着材形成部と封着部とが同一の装置内に設けられているので、封着材の形成と封着とを連続して行うことができる。これにより、プラズマディスプレイパネルの工程を簡略化することができる。
本発明によれば、封着材を形成する間、真空雰囲気又は露点−60℃以下の乾燥雰囲気にすることができるので、封着材にH2Oなどの不純物ガスが付着するのを防止することができる。また、封着材の形成から封着までを一つの装置内で行うため、不純物ガスの付着を一層確実に防止することができる。
(プラズマディスプレイパネル)
図1は、3電極AC型プラズマディスプレイパネル(PDP)の分解斜視図である。図2は、図1におけるPDPの一部の断面を示す断面図である。
図1に示すように、PDP100は、背面基板(第1基板)1と前面基板(第2基板)2とが対向配置され、当該背面基板1と前面基板2との間に複数の放電室16を有する構成になっている。
次に、図3に基づいて、本実施形態に係るPDP製造装置を説明する。
同図に示すように、PDP製造装置30は、前面基板2と背面基板1とを導入し、真空処理によってPDP100を製造するものであり、前面基板ロード室31、蒸着室(保護膜形成部)32、冷却・表面処理室(吸着部)33、背面基板ロード室34、背面基板脱ガス室35、UV樹脂塗布・脱ガス室(封着材形成部)39、搬送室36、アライメント・封着室(封着部)37、アンロード室38を有している。これら各室は、例えばロータリーポンプやターボ分子ポンプなどの真空排気機構(第1調節手段)48に接続されている。
蒸着室32は、前面基板2に保護膜14を蒸着させるスペースであり、上述の前面基板ロード室31及び冷却・表面処理室33に接続されている。蒸着室32には、前面基板2を加熱する加熱機構と、SrO及びCaOを主成分とする蒸発材料と、当該蒸発材料に対して電子ビームを照射する電子ビーム銃とが配置されている。蒸発材料に電子ビームを照射することで、当該蒸発材料を蒸発させることができるようになっている。また、蒸着室32には、蒸着時に当該蒸着室32内に酸素ガスを導入する酸素ガス導入機構が設けられている。
背面基板脱ガス室35は、背面基板1を加熱して当該背面基板1に吸着したガス(水蒸気など)を除去するスペースであり、上述した背面基板ロード室34及びUV樹脂塗布・脱ガス室39に接続されている。背面基板脱ガス室35内には、背面基板1を加熱及び冷却する加熱冷却機構が設けられている。
アンロード室38は、アライメント・封着室37において完成されたPDP100を外部に取り出すスペースであり、上述した搬送室36に接続されている。
次に、本実施形態に係るPDP100の製造方法を、図4に沿って説明する。図4は、本実施形態に係るPDP100の製造の流れを示すフローチャートである。本実施形態では、前面基板2と背面基板1とを別個に形成し、両基板を貼り合せるという手順でPDP100を製造する。
予め前面基板2に表示電極12及び誘電体層13を形成しておく。この状態で、前面基板2をPDP製造装置30の前面基板ロード室31に搬入する。前面基板2が搬入されたら、前面基板ロード室31内の搬送機構が前面基板2を蒸着室32に搬送する。
まず、前面基板2の基板温度が250℃程度になるように加熱し(ST11)、真空排気機構によって蒸着室32内を真空排気する。蒸着室32内を真空排気したら、酸素ガス供給機構によって蒸着室32内に酸素ガスを供給し、当該酸素ガスの分圧が3.0×10−2Pa程度になるように制御する。
このようにして、前面基板2を形成する。
予め背面基板1の内面にアドレス電極11、誘電体層19、隔壁15、蛍光体17を形成しておく。この状態で、PDP製造装置30の背面基板ロード室34に搬入する。背面基板1が搬入されたら、背面基板ロード室34内の搬送機構が背面基板を背面基板脱ガス室35に搬送する。背面基板脱ガス室35では、10−4Pa〜10−3Pa程度の圧力下で背面基板1の基板温度が100℃〜550℃程度、好ましくは350℃程度になるように、約5〜30分程度の間この背面基板1を加熱して、当該背面基板1の脱ガス処理を行う(ST21)。脱ガス処理が終了したら、背面基板1を一旦冷却し(ST22)、UV樹脂塗布・脱ガス室39へ搬送する。
その後、PDP100は、搬送室36を経由してアンロード室38に搬送され、アンロード室38から取り出される。
い範囲で適宜変更を加えることができる。
本願明細書における『真空雰囲気』とは、大気圧より低く減圧した状態の雰囲気であり、単なる減圧下のみならず、何らかのプロセスガスを導入した減圧下も意味するものである。
また、上記実施形態では、保護膜形成工程から封着工程までを、真空雰囲気中で行うこととして説明したが、これに限られることは無い。例えば、保護膜形成工程から封着工程までを露点−60℃以下の乾燥雰囲気中で行っても構わない。この場合、PDP製造装置30内(特に、蒸着室32内、冷却・表面処理室33内、背面基板脱ガス室35内、UV樹脂塗布・脱ガス室39内、搬送室36内、アライメント・封着室37内)にCDA(Clean Dry Air)を供給するCDA供給機構と、PDP製造装置30内からCDAを排出するCDA排出機構とを有していることが好ましい。PDP製造装置30内にCDAを供給することによって、当該PDP製造装置30内を容易に露点−60℃以下の乾燥雰囲気にすることができる。このように、露点−60℃以下の乾燥雰囲気であっても、保護膜14の吸湿
を十分に防ぐことが可能である。
また、上記実施形態では、保護膜14を背面基板1にのみ形成する構成であったが、これに限られることは無い。例えば、背面基板1と前面基板2との両方に保護膜14を形成
する構成であっても、勿論構わない。
したがって、例えば、冷却・表面処理室33に前面基板2を搬送した後、蒸着時の温度(250℃)のまま表面処理を行っても構わない。この場合であっても、表面処理ガスの分子や原子を保護膜14の表面に十分に吸着させることができる。
また、冷却・表面処理室33において前面基板2の冷却を行う場合、上記実施形態のように前面基板2の温度を室温まで低下させなくても、室温〜250℃(蒸着時の基板温度)の温度に基板温度を低下させれば、表面ガスの分子、原子を保護膜14の表面に十分に吸着させることができる。
図5は、(1)表面処理を施した保護膜、(2)表面処理を施さない保護膜、をそれぞれ用いたセルについて、エージング時間と放電開始電圧との関係を示している。図5のグラフの縦軸は放電開始電圧(単位はV)であり、横軸はエージング時間(単位はmin)である。ここで、セルについては、上述したPDP100とほぼ同じ条件のパネルである。セルの放電ギャップは80μmであり、放電ガスはNeとXeとの混合ガスであり、放電ガス中のXeの濃度は12体積%であり、放電ガスの圧力は400Torrであり、周波数は40kHzであるものとした。保護膜についても、上記実施形態と同一の組成、すなわち、SrO及びCaO(50mol%)を含有する保護膜を用いた。
これらのことから、保護膜に表面処理を施すことによって、必要なエージング時間を著しく短縮できることがわかる。
Claims (10)
- 第1電極が設けられた第1基板と第2電極が設けられた第2基板とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第1電極上及び前記第2電極上のうち少なくとも一方に保護膜を形成する保護膜形成工程と、
前記保護膜の表面に、水素分子、窒素分子及びキセノン原子のうち少なくとも1種類を吸着させる吸着工程と、
前記吸着工程の後、前記第1基板と前記第2基板との間に放電ガスが封入されるように当該第1基板と当該第2基板とを貼り合せる封着工程とを具備し、
前記吸着工程では、前記保護膜の形成された基板を室温以上250℃以下の温度にして吸着を行う
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 前記吸着工程が、水素ガス、窒素ガス及びキセノンガスのうち少なくとも1種類の表面処理ガスを前記保護膜の表面に供給する表面処理ガス供給工程を有し、
前記表面処理ガス供給工程では、前記表面処理ガスの圧力が0.1Pa以上大気圧以下となるように前記表面処理ガスを供給する
ことを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 前記封着工程では、樹脂材料からなる封着材を用いて前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる
ことを特徴とする請求項1又は至請求項2に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 前記保護膜形成工程から前記封着工程までを、真空雰囲気中又は露点−60℃以下の雰囲気中で行う
ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のうちいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 前記保護膜が、主成分にSrO及びCaOのうち少なくとも一方を含有する
ことを特徴とする請求項1乃至請求項4のうちいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 前記保護膜形成工程では、前記保護膜を蒸着法によって形成する
ことを特徴とする請求項1乃至請求項5のうちいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 第1基板に設けられた第1電極上及び第2基板に設けられた第2電極上のうち少なくとも一方に保護膜を形成する保護膜形成部と、
前記保護膜形成部に接続され、前記保護膜の表面に水素分子、窒素分子及びキセノン原子のうち少なくとも1種類を室温以上250℃以下の温度で吸着させる吸着部と、
前記吸着部に接続され、前記第1基板と前記第2基板との間に放電ガスが封入されるように当該第1基板と当該第2基板とを貼り合せる封着部とを具備する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造装置。 - 前記保護膜形成部、前記吸着部及び前記封着部が真空雰囲気又は露点−60℃以下の乾燥雰囲気になるように、前記保護膜形成部、前記吸着部及び前記封着部の雰囲気を調節する第1調節手段を更に具備することを特徴とする請求項7に記載のプラズマディスプレイパネルの製造装置。
- 少なくとも前記封着部に接続され、前記第1基板又は前記第2基板のうち少なくとも一方に樹脂材料からなる封着材を形成する封着材形成部を更に具備することを特徴とする請求項7又は請求項8に記載のプラズマディスプレイパネルの製造装置。
- 前記封着材形成部が真空雰囲気又は露点−60℃以下の乾燥雰囲気になるように、前記封着材形成部の雰囲気を調節する第2調節手段を更に具備することを特徴とする請求項9に記載のプラズマディスプレイパネルの製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006145347A JP4895682B2 (ja) | 2006-05-25 | 2006-05-25 | プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネルの製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006145347A JP4895682B2 (ja) | 2006-05-25 | 2006-05-25 | プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネルの製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007317485A JP2007317485A (ja) | 2007-12-06 |
JP4895682B2 true JP4895682B2 (ja) | 2012-03-14 |
Family
ID=38851172
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006145347A Expired - Fee Related JP4895682B2 (ja) | 2006-05-25 | 2006-05-25 | プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネルの製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4895682B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5173444B2 (ja) * | 2008-01-07 | 2013-04-03 | 株式会社アルバック | 封着パネルの製造方法及びそれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法 |
JP5173504B2 (ja) * | 2008-03-17 | 2013-04-03 | 株式会社アルバック | 封着パネルの製造方法及びそれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法 |
US9073776B2 (en) * | 2011-01-31 | 2015-07-07 | Luoyang Landglass Technology Co., Ltd | Device for continuously processing vacuum glass member |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3991504B2 (ja) * | 1999-05-20 | 2007-10-17 | 三菱マテリアル株式会社 | Pdp又はpalc用保護膜の製造方法及びそのpdp又はpalc用保護膜並びにこれを用いたpdp又はpalc |
JP2002033052A (ja) * | 2000-03-31 | 2002-01-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
JP2002117757A (ja) * | 2000-10-11 | 2002-04-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 |
JP4154944B2 (ja) * | 2002-07-29 | 2008-09-24 | 松下電器産業株式会社 | ガス放電パネルの製造方法 |
JP2004087433A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-18 | Fujitsu Hitachi Plasma Display Ltd | プラズマディスプレイパネルパネルの製造方法 |
JP2005235442A (ja) * | 2004-02-17 | 2005-09-02 | Pioneer Electronic Corp | 平面ディスプレイパネルの製造方法および装置ならびに平面ディスプレイパネル |
EP1808881B1 (en) * | 2004-11-05 | 2012-09-26 | Ulvac, Inc. | Plasma display panel-use protection film and production method for the protection film, plasma display panel and production method therefor |
-
2006
- 2006-05-25 JP JP2006145347A patent/JP4895682B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007317485A (ja) | 2007-12-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2010092867A (ja) | プラズマディスプレイパネル | |
JP3830288B2 (ja) | 真空装置、及びプラズマディスプレイ装置の製造方法 | |
US20080315768A1 (en) | Plasma Display Panel and Method for Manufacturing Same | |
JP4895682B2 (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネルの製造装置 | |
WO2001075926A1 (fr) | Procede de fabrication d'un ecran a plasma | |
JP4726699B2 (ja) | プラズマディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネルの製造装置 | |
JP4777827B2 (ja) | プラズマディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネルの製造装置 | |
JP2007317488A (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネルの製造装置 | |
JP4832161B2 (ja) | プラズマディスプレイパネル及びプラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
JP2000001771A (ja) | 誘電体保護層の製造方法とその製造装置、並びにそれを用いたプラズマディスプレイパネルと画像表示装置 | |
JP2007119833A (ja) | 蒸着膜の形成方法、保護膜の形成方法及びプラズマディスプレイパネル製造装置 | |
JP2007077446A (ja) | 保護膜の製造方法およびその製造装置 | |
JP2000311869A (ja) | Ito薄膜の表面改質方法 | |
JP2002033052A (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
WO2007119676A1 (ja) | 封着パネルおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
JP2004095452A (ja) | 膜の形成方法、膜の形成装置および保護膜 | |
US7304431B2 (en) | Plasma display panel | |
JP2000057939A (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
KR100670622B1 (ko) | 진공장치 및 플라즈마 디스플레이 장치의 제조방법 | |
JP4650201B2 (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法およびその製造装置 | |
JP2000348626A (ja) | プラズマディスプレイパネル、それを用いた表示装置及びその製造方法並びに製造装置 | |
JP2009099395A (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法及びそのための装置 | |
JP4396261B2 (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
KR20060100899A (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널 제조장치 | |
WO2002059927A1 (fr) | Procede de fabrication d'un panneau a decharge gazeuse |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081212 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100721 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100727 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100917 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110726 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111025 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20111102 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111122 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111220 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4895682 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150106 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |