JP4894987B2 - 表示用パネルの製造方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、文字や画像などを表示する表示装置に使用される表示用パネルの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置や液晶表示装置に用いられる表示用パネルは、発光素子や液晶、あるいはそれらを駆動する駆動素子などの表示用素子が設けられた表示基板を有して構成される。また、この表示基板は通常、その機能や品質などを維持するために、適宜の封止部材によって封止されることが多い。こうした用途に使用される封止部材には、金属製のカン(メタルカン)やガラスなどがあり、上記表示基板は接着剤によってそれらと貼り合わされて封止される。そして、この表示用パネルにおける表示基板の封止品質は、ひいては表示装置としての品質や寿命を決定づける重要な要素となっている。
【0003】
図9は、表示基板が封止部材によって封止される態様を模式的に示した図である。
図9(a)および(b)に示すように、表示基板33の一構成であるガラス基板31の一方面には、薄膜形成プロセスによって表示領域となる素子層32が形成されている。なおこの例では、複数の(12個の)表示用パネルを一括製造するために、1枚のガラス基板31に複数の(12個の)素子層32を一括形成し、表示基板33についてもこれを同時に複数個(12個)生成する場合について示している。上記ガラス基板31は、素子層32に対向して配置されている封止部材である封止用ガラス34の位置合わせマーク39を認識する画像処理装置などによって同封止用ガラス34との相対位置が決められたのち、図9(a)に示すZ方向に移動されて同ガラス34に貼り合わされる。この封止用ガラス34には、表示基板33(厳密にはその素子層32)を封止する形状に沿ってあらかじめ接着剤35が上記表示領域を囲繞する態様で塗布されている。また、封止用ガラス34の表示基板33との対向面は、上記素子層32の形状および配置に対応してエッチング等によって掘削されている。この封止用ガラス34の掘削部36は、封止される表示基板33の特性を維持するための吸湿剤などを塗布するために設けられている。なお、図9(b)においては、ガラス基板31の図示を割愛した。
【0004】
また、図10は、上記ガラス基板31が封止用ガラス34と貼り合わされるときの断面状態を模式的に示したものである。図10に示されるように、ガラス基板31は支持部材37に真空吸着されており、この真空吸着されたガラス基板31が、台(図示略)上に配置されている封止用ガラス34上に降下して貼り合わせが行われる。このとき、ガラス基板31と封止用ガラス34とのギャップGが所定の値となるように、ガラス基板31が支持部材37によって適宜加圧される。こうしてギャップGが所定の値とされたのちに接着剤35の硬化処理が行われて、表示基板33が封止用ガラス34によって封止される。なお、この封止に際して、ガラス基板31および封止用ガラス34が接着剤35と当接する幅、すなわちシール線幅Wは、接着剤35の量と粘度、およびギャップGや上記加圧圧力、加圧時間などによって決定される。また、接着剤35には所定の径を有するたとえば円筒状もしくは球状のスペーサ38が混入されており(図10中に模式的に図示)、このスペーサ38をストッパとして上記加圧を行うことにより上記ギャップGとして所定の値が得られるようになっている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
上記接着剤35としては、通常、樹脂製の接着剤が使用される。そして、その場合の樹脂の材質は、表示基板33の種類や封止の目的などに合わせて適切なものが選定される。また、これら樹脂の中には、粘度が調整できないものもある。
【0006】
たとえば、EL表示装置の表示用パネルに用いられる表示基板、すなわち上記素子層32にEL素子が形成された表示基板33などにおいては、EL素子の特性として耐熱性が低く、また水分による劣化が顕著であるため、水分の透過性が低く、しかも硬化時に加熱を要しない紫外線硬化性エポキシ樹脂が上記接着剤35として使用される。この紫外線硬化性エポキシ樹脂は、溶剤による希釈がなされないため一般に粘度が高く、したがって希釈によって使用しやすい粘度に調整することもできない。また、この紫外線硬化性エポキシ樹脂の成分を変更してその粘度を調整すると、水分の透過性が低いという同樹脂の特性を維持することが困難になる。
【0007】
こうした粘度の高い樹脂を接着剤35として使用する場合には、前述のようにガラス基板31を封止用ガラス34に貼り合わせる際に、両者の貼り合わせ面により大きな圧力を加えてギャップGを所望の値に到達させ、かつシール線幅Wを確保する必要がある。しかし、この加圧圧力を急激に増大させると、粘度の高い接着剤35がその加圧圧力の変化に追従して形状変化することができず、封止用ガラス34の平面図である図11に破線部として示すような貼り合わせ不良が発生することがある。
【0008】
すなわち、ギャップGが均一に所望の値に到達しない場合、図11に付記したA〜Cに対応して、
(A)封止される内部空間に残留する気体が抜け出すためのシールパスができる、
(B)安定したシール線幅Wが得られない、
(C)接着剤35が所定の封止位置からずれる、
などの不都合が発生することがある。これらの貼り合わせ不良は、形状不良となるばかりでなく、場合によっては封止不良を起こす、また加圧された気体が内部に残留する、あるいは水分の透過性を上昇させるなど、EL表示装置の表示用パネルとして、その品質や寿命に少なからず悪影響を及ぼすことになる。
【0009】
なお、上記EL素子が形成された表示基板に限らず、たとえば液晶表示基板やプラズマ表示基板などであっても、それら基板が適宜の封止部材および粘度の高い樹脂接着剤によって封止される表示用パネルにあっては、それら封止に際しての上記実情もおおむね共通したものとなっている。
【0010】
本発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、接着剤としてたとえ粘度の高いものが用いられる場合であれ、封止部材および接着剤による表示基板の封止を迅速かつ的確に行うことのできる表示用パネルの製造方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の発明は、表示領域に表示用素子が形成された表示基板の素子面と該素子面に対向して配置した封止部材とを前記表示領域を囲繞する態様で塗布した接着剤を介して貼り合わせたのち、この貼り合わせ面に圧力を加えるとともに前記接着剤を硬化させる表示用パネルの製造方法であって、前記封止部材と表示基板との貼り合わせ面に印加する圧力をそれら封止部材と表示基板とのギャップが前記目標値に到達するまで段階的に変化させることをその要旨とする。
【0012】
また、請求項2記載の発明は、請求項1記載の表示用パネルの製造方法において、前記封止部材と表示基板との貼り合わせ面に印加する圧力の段階的な変化が、同印加する圧力を連続的に変化せしめる圧力変更期間と、この増大した圧力を一定に保持する圧力保持期間との複数回の繰り返しとして行われることをその要旨とする。
【0013】
また、請求項3記載の発明は、請求項2記載の表示用パネルの製造方法において、前記各圧力保持期間は、相互に独立に設定されることをその要旨とする。
また、請求項4記載の発明は、請求項2または3記載の表示用パネルの製造方法において、前記圧力変更期間での圧力変化量が、それら各圧力変更期間ごとに独立に設定されることをその要旨とする。
【0014】
また、請求項5記載の発明は、請求項4記載の表示用パネルの製造方法において、前記各圧力変更期間での圧力変化量のうち、最後の圧力変更期間での圧力変化量を他の圧力変更期間での圧力変化量よりも小さくすることをその要旨とする。
【0015】
また、請求項6記載の発明は、請求項2〜5のいずれかに記載の表示用パネルの製造方法において、前記圧力変更期間の少なくとも一期間において、その圧力変化速度が可変とされることをその要旨とする。
【0016】
また、請求項7記載の発明は、請求項2〜6のいずれかに記載の表示用パネルの製造方法において、前記封止部材と表示基板との貼り合わせ面に印加する圧力の段階的な変化が、前記圧力変更期間と前記圧力保持期間との各3回の繰り返しとして行われることをその要旨とする。
【0017】
また、請求項8記載の発明は、請求項1〜7のいずれかに記載の表示用パネルの製造方法において、前記接着剤が、カチオン重合により硬化する紫外線硬化性エポキシ樹脂であり、同接着剤の硬化を紫外線照射によって行うことをその要旨とする。
【0018】
また、請求項9記載の発明は、請求項8記載の表示用パネルの製造方法において、前記接着剤に対する温度制御を併用することをその要旨とする。
また、請求項10記載の発明は、請求項9記載の表示用パネルの製造方法において、前記温度制御として、少なくとも前記封止部材と表示基板との貼り合わせ面に対する圧力の印加前に、前記接着剤を所定の温度に加熱する処理を行うことをその要旨とする。
【0019】
また、請求項11記載の発明は、請求項9記載の表示用パネルの製造方法において、前記温度制御として、前記接着剤を所定の温度に加熱しつつ、前記封止部材と表示基板との貼り合わせ面に対する圧力の印加を行うことをその要旨とする。
【0020】
また、請求項12記載の発明は、請求項10または11記載の表示用パネルの製造方法において、前記表示基板が、前記表示用素子としてエレクトロルミネッセンス素子を有して形成され、前記所定の温度が、前記エレクトロルミネッセンス素子としての素子特性に影響を及ぼさない温度に設定されることをその要旨とする。
【0021】
また、請求項13記載の発明は、請求項9記載の表示用パネルの製造方法において、前記温度制御として、前記封止部材と表示基板との貼り合わせ面に対する圧力の印加した状態に応じて前記接着剤に付与する温度を可変とする制御を行うことをその要旨とする。
【0022】
そして、請求項14記載の発明は、請求項13記載の表示用パネルの製造方法において、前記表示基板が、前記表示用素子としてエレクトロルミネッセンス素子を有して形成され、前記可変とされる前記接着剤に付与する温度が、前記エレクトロルミネッセンス素子としての素子特性に影響を及ぼさない温度の範囲で設定されることをその要旨とする。
【0023】
【発明の実施の形態】
(第1の実施の形態)
以下、本発明にかかる表示用パネルの製造方法を、前記表示用素子として有機EL素子を有して構成される表示基板を備える表示用パネルの製造方法に適用した第1の実施の形態について、図1〜図3を使って説明する。なお、この第1の実施の形態においても、基本的には先の図9および図10に例示したように、ガラス基板上に素子層が形成されてなる上記表示基板を封止用ガラスにて封止するに、それら封止用ガラスと表示基板との貼り合わせ面に同表示基板の表示領域を囲繞する態様であらかじめ接着剤を塗布しておく。そして、それら封止用ガラスと表示基板とを貼り合わせたのち、それら合わせ面に圧力を加えて両者のギャップを目標値に到達させたうえで、上記接着剤を硬化させる。
【0024】
図1は、この第1の実施の形態にかかる製造方法によって表示用パネルを製造する装置の構成例を示す模式図である。
図1に示すように、表示基板3の一構成であるガラス基板1の一方面には、薄膜形成プロセスによって有機EL素子等からなる素子層2が形成されている。なおここでも、複数の表示用パネルを一括製造するために、たとえば前述の図9に示したように1枚のガラス基板1に複数の素子層2を一括形成し、表示基板3についてもこれを同時に複数個生成する。そして、上記ガラス基板1は、素子層2に対向して配置されている封止部材である封止用ガラス4に貼り合わされる。この封止用ガラス4には、表示基板3を囲繞するかたちで、すなわち上記素子層2を封止する形状に沿って接着剤5が塗布されている。なお、この接着剤5は、粘度の高い紫外線硬化性樹脂、たとえばカチオン系紫外線硬化性エポキシ樹脂からなる。このカチオン系紫外線硬化性エポキシ樹脂は、硬化時の収縮率が小さく、かつ水分透過性が低い特性を有しており、有機EL素子等を封止する用途に適している。また、封止用ガラス4においてその表示基板3との対向面は、同表示基板3(厳密にはその素子層2)の形状および配置に対応してエッチング等によって掘削されている。この封止用ガラス4の掘削部6は、封止される表示基板3の特性を維持する吸湿剤などを塗布するために設けられている。
【0025】
上記各部材はチャンバ20内に配設されており、そのチャンバ20内部は外部につながったガス導入口21aおよびガス排出口21bにより給排気される窒素ガス(N2)で充満されている。この窒素ガスは、有機EL素子が雰囲気中に存在する水分によって劣化しないようにその水分含有率を5ppm以下のものを使用している。
【0026】
上記チャンバ20内において、ガラス基板1は、チャンバ20内部に設けられて位置制御および加圧制御される支持部材7に真空吸着されている。なお図1において、このガラス基板1を真空吸着するための装置の図示は割愛してある。他方、封止用ガラス4は、チャンバ20の底面に固定された石英ガラス11上に配置されている。そして、支持部材7を位置制御する装置24は、チャンバ20内部に備えられたCCDカメラ22によって撮影される位置合わせマーク(図示略)などの画像に基づき支持部材7ともどもガラス基板1をその水平方向に移動させて、対向する封止用ガラス4との相対位置を決定する。この位置決めが完了すると、支持部材7を加圧制御する装置25は、この支持部材7ともどもガラス基板1を封止用ガラス4上に矢印方向に押圧し、両者の貼り合わせ面に圧力を印加する。なお、この加圧制御する装置25は、上記押圧に際して、その加圧圧力をモニタする機能も有しており、同圧力をモニタしつつ、その加圧圧力を任意に制御可能となっている。また、この図1に示す製造装置において、符号23は、石英ガラス11および封止用ガラス4を介して上記カチオン系紫外線硬化性エポキシ樹脂からなる接着剤5に紫外線を照射することによりこれを硬化させる紫外線光源である。
【0027】
次に、このような装置を用いてEL表示装置の表示用パネルを製造する本実施の形態の製造方法について詳述する。
図2は、上記支持部材7を加圧制御する装置25による圧力の印加パターン例を示したタイムチャートである。
【0028】
この第1の実施の形態では、上記支持部材7を位置制御する装置24を通じてガラス基板1と封止用ガラス4との相対位置を決定したのち、この図2に示される圧力印加パターンにしたがって、それらガラス基板1と封止用ガラス4との貼り合わせ面に圧力を印加する。
【0029】
この圧力印加パターンでは、基本的に次の(イ)〜(ハ)に示す態様での圧力印加が行われる。
(イ)一定の速さで圧力を変化(増大)させる圧力変更期間(図2の期間T1、T3、およびT5)と、それら変化(増大)させた圧力を一定の圧力に保持する圧力保持期間(図2の期間T2、T4、およびT6)とを繰り返して、目標とする圧力および目標とするギャップに到達させる。
【0030】
(ロ)上記各圧力保持期間T2、T4、およびT6は、時間的にあとの期間の方が長くなるように期間設定される。すなわち、それら期間T2、T4、およびT6には以下の関係が成立している。
T2 < T4 < T6
(ハ)最後の圧力変更期間T5における圧力の変化量(増大量)δP5は、それ以前の圧力変更期間T1およびT3におけるそれぞれの圧力の変化量(増大量)δP1およびδP3よりも小さく設定される。すなわち、それら圧力変化量δP1、δP3、およびδP5には以下の関係が成立している。
δP1 > δP5
δP3 > δP5
こうして、ガラス基板1と封止用ガラス4との貼り合わせ面に所定のパターンの圧力が印加されることで、少なくとも上記圧力保持期間T6には、接着剤5に混入されているスペーサ(図10参照)がストッパとなってギャップGが目標値に到達する。このときのギャップGの値は約5μmである。封止部分における水分の透過を抑制するためにも、このギャップGの値は5μm±1μmとすることが望ましい。さらに、5μm±0.3μmとすることがより望ましい。そして、その後の期間T7においてもその圧力を継続して印加しつつ、時刻t6に上記紫外線光源23を点灯して紫外線を上記貼り合わせ面に照射する。この紫外線の照射は、実際には図示しない赤外線カットフィルタを通して、上記期間T7にわたって、すなわち時刻t7まで行われる。
【0031】
なお、上記塗布される接着剤5の吐出口の断面形状が直径約300μmの半円状であり、またガラス基板1の寸法が300mm×400mmであって、上記封止後はそれを切断して9枚〜96枚の表示基板3を得ようとする場合、上記圧力保持期間T2、T4、およびT6において貼り合わせ面に印加されている圧力は、図2に示されるように、それぞれ0.2kgw/cm2、0.4kgw/cm2、および0.5kgw/cm2である。また、上記圧力印加パターンの各期間は、期間T1から期間T6まで順に5秒、5秒、10秒、10秒、5秒、および15秒に設定されている。すなわち、圧力保持期間T2、T4、およびT6の比は1:2:3に設定されている。そして、接着剤5による封止部分のギャップGと上記シール線幅W(図10参照)とを均一にしてその封止品質を確保するためには、上記各圧力の値に対しては±20%以内の範囲、また上記各期間に対しては±50%以内の範囲でそれら各値を設定することが望ましいことが発明者等によって確認されている。また、紫外線の照射期間T7については、たとえば紫外線照度約100mW/cm2の場合、これを60秒に設定することで、接着剤5の十分な硬化が得られることが確認されている。
【0032】
また便宜上、上記各圧力についてはこれを1cm2あたりに印加される力を重量kgで表した値、すなわち[kgw/cm2]にて表記したが、これらは各値に定数98066.5を乗じることによりSI単位系に基づく圧力単位であるパスカル[Pa]に変換される。たとえば、0.2kgw/cm2は19.6kPaに、0.4kgw/cm2は39.2kPaに、また0.5kgw/cm2は49.0kPaに変換される。
【0033】
この第1の実施の形態においてはこのように、ガラス基板1および封止用ガラス4間に段階的に圧力を印加したのち接着剤5を硬化させるため、同接着剤5によるガラス基板1および封止用ガラス4の封止部分において、より均一なギャップGおよびシール線幅Wが得られるようになる。
【0034】
ここで参考までに、上記封止部分においてこうした均一なギャップGおよびシール線幅Wが得られる理由を、図3を参照して説明する。図3は、封止部分において接着剤5がガラス基板1および封止用ガラス4により押圧される状況を模式的に示したものである。図3に示されるように、塗布直後の断面形状が略半円状をなす接着剤5は、初期の段階では当接する上方のガラス面との接触面積が小さい。このため、ガラス基板1に印加される圧力が小さくてもこの接着剤5を容易に変形させることができる(図2の期間T1参照)。しかし、この封止部分が押圧されるにつれてギャップGが小さくなると、上方のガラス面との接触面積が大きくなり、より大きな圧力が必要とされるようになる(図2の期間T3、T5参照)。他方、粘度が高く弾力性を有する接着剤5は、上記印加される圧力に対して一定の時間遅れをもってゆっくりと変形する。そこで、印加する圧力を増大させたのちに、その増大させた圧力を所定期間保持することによって、接着剤5がその圧力変化に応じて変形する時間を確保することができるようになる(図2の期間T2、T4参照)。そののちに、次の段階の圧力に増大されるため、接着剤5の形状変化はきわめて円滑なものとなり、おのずとギャップGとシール線幅Wとが均一になるようになる。
【0035】
また通常、封止空間内部は気体が存在し、これがギャップGの縮小にともなって加圧され、外部に排出されようとする。そしてこのことが、先の図11に例示した封止不良(A)を引き起こす要因ともなっている。しかし上記方法の場合、圧力保持期間(図2の期間T2、T4、T6)を通じてこの内部に存在する気体が外部に排出される時間が確保されるため、封止完了時には封止空間内部は加圧された気体が残留することがない。すなわち、上記封止不良(A)の発生等も好適に回避される。
【0036】
なお、図3においては、封止用ガラス4上に塗布された接着剤5の断面形状が、塗布直後、略半円状であるとしたが、この断面形状が円形など他の形状であっても、基本的には同様のことがいえる。
【0037】
また、単に封止品質を確保するうえでは、上記圧力保持期間をもつことなく、ゆっくりと連続的に印加圧力を増大させて所定の圧力に到達させることも可能ではあるが、この場合には表示用パネルの製造にきわめて長い時間を要することになる。
【0038】
なお参考までに、上述の有機EL表示パネルとして利用される表示基板3に形成される素子層2の構成例を、以下に説明する。
図12は、表示装置の表示単位(画素)となるEL素子おのおのに対して、能動素子である薄膜トランジスタ(TFT)を付加したアクティブマトリクス型のEL表示パネルの構成について、その画素1つの周辺部を拡大して示す平面図である。
【0039】
EL表示パネルは、EL素子が電界の印加により発光する性質を利用した表示装置であり、表示基板にはスイッチング用TFTを駆動するためのゲート信号線と各画素を表示させるための信号線とが縦横のマトリクス状に形成される。
【0040】
図12に示したように、このEL表示パネルにおいては、上記信号線としてゲート信号線51とドレイン信号線52とが形成されている。そして、それらの交差部に対応して画素となる有機EL素子60が形成されている。なお、このEL表示パネルにおいては、フルカラー表示を実現するために発光色の異なる3種の有機EL素子60R、60G、および60Bが1つの繰り返し単位として形成されている。そして、これら3つが1組となって任意の色を発色するフルカラー表示装置としての1つの表示単位をなしている。
【0041】
両信号線の交差部付近にはゲート信号線51によりスイッチングを行うTFT70が形成されており、TFT70が「オン」になるとドレイン信号線52の信号がソース71Sに接続されて容量電極55に印加される。この容量電極55は、EL素子駆動用のTFT80のゲート81に接続されている。また、TFT80のソース83Sは有機EL素子60の陽極61に接続され、ドレイン83Dは有機EL素子60に電流を供給する電流源となる駆動電源線53に接続されている。
【0042】
また、これらTFT70および80に対応して、ゲート信号線51と平行に保持容量電極線54が形成されている。この保持容量電極線54はクロム(Cr)等の金属からなり、絶縁膜を介して上記容量電極55との間で電荷を蓄積して容量素子を構成している。この保持容量は、TFT80のゲート電極81に印加される電圧を保持するために設けられる。
【0043】
図13は、図12に示した画素周辺の断面を示すものであり、図13(a)はD−D線に沿った断面図、図13(b)はE−E線に沿った断面図である。
図13に示したように、上記有機EL表示パネルにおける表示基板の素子層は、ガラスや合成樹脂、または導体あるいは半導体基板等の基板90上に、TFTおよび有機EL素子60を順次積層して形成される。
【0044】
まず、容量電極55の充電を制御するTFT70の形成について説明する。
図13(a)に示したように、石英ガラス、無アルカリガラス等からなる絶縁性基板90上に、非晶質シリコン膜にレーザを照射して多結晶化した多結晶シリコン膜からなる能動層73を形成する。この能動層73にはいわゆるLDD(Lightly Doped Drain )構造が設けられている。すなわち、チャネルの両側に低濃度領域73LDとその外側に高濃度領域のソース73Sおよびドレイン73Dが設けられている。その上にゲート絶縁膜92、Cr、およびモリブデン(Mo)などの高融点金属からなるゲート信号線51の一部をなすゲート電極71を形成する。このとき同時に、保持容量電極54を形成する。続いて、ゲート絶縁膜92上の全面にシリコン酸化膜(SiO2膜)およびシリコン窒化膜(SiN膜)の順に積層された層間絶縁膜95を設け、ドレイン73Dに対応して設けたコンタクトホールにアルミニウム(Al)等の金属を充填するとともに、ドレイン信号線52とその一部であるドレイン電極96を設ける。さらにこの膜面の上に、たとえば有機樹脂からなり、表面を平坦にする平坦化絶縁膜97を設ける。
【0045】
次に、有機EL素子60を発光駆動するTFT80の形成について説明する。
図13(b)に示したように、石英ガラス、無アルカリガラス等からなる絶縁性基板90上に、先のTFT70の能動層73の形成と同時に、多結晶シリコン膜からなる能動層83を形成する。その能動層83には、ゲート電極81下方に真性または実質的に真性であるチャネル83Cと、このチャネル83Cの両側にp型不純物のイオンドーピングを施してソース83Sおよびドレイン83Dを設けて、p型チャネルTFTを構成する。その能動層83の上にゲート絶縁膜92、およびCr、Moなどの高融点金属からなるゲート電極81を設ける。このゲート電極81は、上述のようにTFT70のソース73Sに接続される。そして、ゲート絶縁膜92およびゲート電極81上の全面には、SiO2膜、SiN膜、およびSiO2膜の順に積層された層間絶縁膜95を形成し、ドレイン83Dに対応して設けたコンタクトホールにAl等の金属を充填するとともに、駆動電源線53を形成する。さらにこの膜面の上に、たとえば有機樹脂からなり、表面を平坦にする平坦化絶縁膜97を形成する。そして、この平坦化絶縁膜97にソース83Sと接続するためのコンタクトホールを形成し、このコンタクトホールを介してソース83Sと接続される透明電極61を平坦化絶縁膜97上に形成する。この透明電極61は、有機EL素子60の陽極をなすものであり、この上に積層される有機EL素子60から放出される光を基板90側へ透過させる。この透明電極としては、インジウムとスズとの酸化物である「ITO」(Indium Tin Oxide)などが用いられる。
【0046】
有機EL素子60は、上記陽極61の上層に発光素子層66とAlからなる陰極67とがこの順に積層形成されて構成されている。そして、発光素子層66はさらに4層構造をなしており、各層は陽極61の上層に、以下に示す順に積層形成されている。
【0047】
(1)ホール輸送層62:「NPB」。
(2)発光層63:各発光色に対応して次の材料を使用。
赤色…ホスト材料「Alq3」に「DCJTB」をドープしたもの。
【0048】
緑色…ホスト材料「Alq3」に「Coumarin 6」をドープしたもの。
青色…ホスト材料「BAlq」に「Perylene」をドープしたもの。
【0049】
(3)電子輸送層64:「Alq3」。
(4)電子注入層65:フッ化リチウム(LiF)。
ここで、上記に略称にて記載した材料の正式名称は以下のとおりである。
【0050】
・「NPB」…N,N'-Di(naphthalene-1-yl)-N,N'-diphenyl-benzidine。
・「Alq3」…Tris(8-hydroxyquinolinato)aluminum。
・「DCJTB」…(2-(1,1-Dimethylethyl)-6-(2-(2,3,6,7-tetrahydro-1,1,7,7-tetramethyl-1H,5H-benzo[ij]quinolizin-9-yl)ethenyl)-4H-pyran-4-ylidene)propanedinitrile。
【0051】
・「Coumarin 6」…3-(2-Benzothiazolyl)-7-(diethylamino)coumarin。
・「BAlq」…(1,1'-Bisphenyl-4-Olato)bis(2-methyl-8-quinolinplate-N1,08)Aluminum。
【0052】
これらホール輸送層62、電子輸送層64、電子注入層65、および陰極67は、図12に示した各画素に対応する有機EL素子60に共通に形成されている。発光層63は、陽極61に対応して島状に形成されている。また、陽極61の周辺には絶縁膜68(破線で示す領域の外側)を形成する。これは、陽極61の厚みによる段差に起因した発光層63の断切れによって生じる陰極67と陽極61との短絡を防止するために設けられる。
【0053】
こうして形成された有機EL素子60の画素は、上記TFT70および80により駆動されると、陽極61から注入されたホールと陰極67から注入された電子とが発光層66の内部で再結合して発光する。
【0054】
なお、有機EL素子60を構成する各層として上記材料を採用した場合、それら各層に特性劣化を与えることなく素子層2に印加できる温度は95℃以下とするのが望ましい。
【0055】
以上説明したように、この第1の実施の形態にかかる表示用パネルの製造方法によれば、以下のような効果を得ることができるようになる。
(1)ガラス基板1と封止用ガラス4とを接着剤5により貼り合わせる際に、両者の貼り合わせ面を押圧する圧力の印加パターンを、圧力変更期間とそれに続く圧力保持期間との繰り返しパターンとして設定した。これにより、粘度の高い接着剤5が押圧された圧力に追従して変形する時間を好適に確保することができ、ひいてはより短い時間でその封止部分のギャップGおよびシール線幅Wを均一なものとすることができるようになる。
【0056】
(2)また、上記貼り合わせ面の加圧に際して、封止される空間内に存在する気体が外部に排出される時間を上記圧力保持時間に確保することができる。このため、封止空間内部に加圧された気体が残留することがなくなる。
【0057】
(3)こうして得られるギャップGおよびシール線幅Wの均一な封止部分は信頼性の高いものであり、表示用パネルとしての所定の特性を長期にわたり維持することができるようにもなる。
【0058】
(4)さらに、上記封止を水分含有率の低い窒素ガス雰囲気中で行うことにより、上記封止空間内部に残留する水分を最小限に抑制することができるようになる。
【0059】
(第2の実施の形態)
次に、本発明にかかる表示用パネルの製造方法を、同じく有機EL素子を有して構成される表示基板を備える表示用パネルの製造方法に適用した第2の実施の形態について、上記第1の実施の形態と異なる部分を中心に図4〜図6を使って説明する。
【0060】
この第2の実施の形態においても、前記封止に際しては先の第1の実施の形態に示した接着剤と同じものが用いられる。そしてその粘度は、図4に示されるように温度の上昇とともに急激に低下することが確認されている。通常この封止が行われるクリーンルームの標準的な温度は約25℃であり、そのときの接着剤の粘度は、同図4からも明らかなように100000mPa・秒を超える高い値となっている。そしてこのことが、前記表示基板の封止を迅速かつ的確に行ううえでの障害の1つとなっている。
【0061】
そこで、この第2の実施の形態においては、この封止を前記窒素ガスの適切な温度制御のもとに行う。その設定温度としては、高く設定しすぎると前記表示基板3に形成されている有機EL素子の特性劣化を招くばかりでなく、前記接着剤5の粘度が低くなりすぎてこれが貼り合わせ面から流出してしまう懸念がある。このため、表示基板3を所望の態様で封止するためには、前記印加する圧力との関係を考慮して、チャンバ20内の温度、すなわち窒素ガスの温度を適切な温度範囲に設定することが望ましい。
【0062】
図5は、このような第2の実施の形態にかかる製造方法によって表示用パネルを製造する装置についてその構成例を示す模式図である。
図5に示されるように、この第2の実施の形態においては、表示基板3の封止を行う際に、チャンバ20に充満させる窒素ガスの温度を温度調節器24によってさらに制御できるようにしている。これにより接着剤5の温度も併せて制御することが可能となる。
【0063】
図6は、上記チャンバ20内部に充満させる窒素ガスの温度を35℃に設定して、チャンバ20内部の接着剤5を含む各部材が同温度に到達したのちに、ガラス基板1を封止用ガラス4に貼り合わせるときの、貼り合わせ面への圧力の印加パターン例を示したものである。なお、この窒素ガスの温度は、貼り合わせ面の押圧に適した接着剤5の粘度に基づいて決定したものである。
【0064】
図6に示されるように、この第2の実施の形態においては、上記貼り合わせ面に対する圧力印加パターンが、先の(イ)〜(ハ)に対応して、それぞれ次のようになっている。
【0065】
(イ’)一定の速さで圧力を変化(増大)させる圧力変更期間(図5の期間T1’、T3’、およびT5’)と、それら変化(増大)させた圧力を一定の圧力に保持する圧力保持期間(図5の期間T2’、T4’、およびT6’)とを繰り返して、目標とする圧力および目標とするギャップに到達させる。
【0066】
(ロ’)上記各圧力保持期間T2’、T4’、およびT6’は、すべて等しく設定される。すなわち、それら期間T2’、T4’、およびT6’には以下の関係が成立している。
T2’ = T4’ = T6’
(ハ’)最後の圧力変更期間T5’における圧力の変化量(増大量)δP5’は、それ以前の圧力変更期間T1’およびT3’におけるそれぞれの圧力の変化量(増大量)δP1’およびδP3’よりも小さく設定される。すなわち、それら圧力変化量δP1’、δP3’、δP5’には以下の関係が成立している。
δP1’ > δP5’
δP3’ > δP5’
こうして、ガラス基板1と封止用ガラス4との貼り合わせ面に所定のパターンの圧力が印加されることで、少なくとも上記圧力保持期間T6’には、接着剤5に混入されているスペーサ(図10参照)がストッパとなってギャップGが目標値に到達する。このときのギャップGの値は、先の第1の実施の形態に示した値と同じであり、約5μmである。そして、その後の期間T7’においてもその圧力を継続して印加しつつ、時刻t6’に上記紫外線光源23を点灯して紫外線を上記貼り合わせ面に照射する。この紫外線の照射も、先の第1の実施の形態にて説明したように、実際には図示しない赤外線カットフィルタを通して、上記期間T7’にわたって、すなわち時刻t7’まで行われる。
【0067】
なお、ここでも上記塗布される接着剤5の吐出口の断面形状が直径約300μmの半円状であり、またガラス基板1の寸法が300mm×400mmであって、上記封止後はそれを切断して9枚〜96枚の表示基板3を得ようとする場合、上記圧力保持期間T2’、T4’、およびT6’において貼り合わせ面に印加されている圧力は、図6に示されるように、それぞれ0.2kgw/cm2、0.4kgw/cm2、および0.5kgw/cm2である。これら圧力の各設定値を、先の第1の実施の形態にて示した値と等しくしているのは、ギャップGが目標値に到達するのをより確実にするためである。また、上記圧力印加パターンの各期間は、期間T1’から期間T6’まで順に5秒、5秒、10秒、10秒、5秒、および15秒に設定されている。すなわち、圧力保持期間T2’、T4’、およびT6’の比は1:1:1に設定されている。そしてこの場合も、接着剤5による封止部分のギャップGと上記シール線幅W(図10参照)とを均一にしてその封止品質を確保するためには、上記各圧力の値に対しては±20%以内の範囲、また上記各期間に対しては±50%以内の範囲でそれら各値を設定することが望ましいことが発明者等によって確認されている。また、紫外線の照射期間T7’についても、先の第1の実施の形態と同様に紫外線照度約100mW/cm2の場合、これを60秒に設定することで、接着剤5の十分な硬化が得られることが確認されている。これらも、先の第1の実施の形態において説明したとおりである。
【0068】
なお、上記圧力も、先の第1の実施の形態に説明した方法でSI単位系の圧力単位であるパスカル[Pa]への変換を行うことができる。
また、この第2の実施の形態においても、先の第1の実施の形態において説明した構成の有機EL素子層を表示基板に形成し、これにより有機EL表示パネルを構成することができる。
【0069】
以上説明したように、この第2の実施の形態にかかる表示用パネルの製造方法によれば、先の第1の実施の形態によって得られる効果に加えてさらに以下の効果が得られるようになる。
【0070】
(5)表示用パネルの表示基板3を接着剤5にて封止用ガラス4に封止する際に、温度制御を通じて同接着剤5の粘度を適切に制御することができるため、上記圧力保持期間の関係を
T2’ < T4’ < T6’
とする必要がなくなる。したがって、先の第1の実施の形態よりもさらに短時間で上記表示基板3の封止を完了することができるようになる。
【0071】
(6)上記制御する温度を35℃としたことで、表示基板3に形成されている有機EL素子の特性劣化を招くことがない。
(その他の実施の形態)
なお、上記各実施の形態は以下のように変更して実施してもよい。
【0072】
・上記各実施の形態においては、最後の圧力保持期間T6、T6’をガラス基板1と封止用ガラス4との貼り合わせ面間のギャップGが所定の値(目標値)に到達するまでの時間として設定したが、必ずしもこれに限定されるものではない。たとえば、ギャップGを監視するセンサ等をさらに備えて、そのセンサ等からのギャップGのフィードバック値に基づいて接着剤5の硬化処理を開始してもよい。これにより、ギャップGが目標値になったのちにただちに接着剤5を硬化させることができるため、上記封止にかかる時間をさらに短縮することができるようになる。そしてさらには、接着剤5を硬化させる処理は、必ずしもギャップGが目標値に到達したのちでなくてもよく、硬化処理中にギャップGが目標値に到達することを見越した設定としてもよい。
【0073】
・上記各実施の形態においては、ガラス基板1と封止用ガラス4との貼り合わせ面に印加する圧力の印加パターンについてそれぞれその一例を示したが、必ずしもそれらパターンに限定されるものではない。たとえば、第1の実施の形態においても上記圧力保持期間を等しく定めたり、逆に第2の実施の形態においても圧力保持期間を1:2:3などのように独立に設定したり、あるいは上記圧力変更期間と圧力保持期間とを2回、または4回以上繰り返すなどの圧力印加パターンとしてもよい。また、最後の圧力変更期間での圧力変化量(増大量)についても、これを必ずしもそれ以前の圧力変更期間での圧力変化量(増大量)よりも小さくする必要はない。また、上記圧力変更期間における圧力変化速度を一定にする必要もない。すなわち、圧力変更期間の少なくとも一期間において、その圧力変化速度を積極的に可変としてもよい。さらに、上記印加圧力を目標値に到達させる際に、必ずしも同圧力を単調に増大させる必要はなく、場合によっては同圧力を減少させる期間が存在してもよい。要は、ガラス基板1と封止用ガラス4との貼り合わせ面を押圧する圧力の段階的な印加に基づいて同ガラス基板1と封止用ガラス4とのギャップGおよびシール線幅Wが均一かつ安定的に得られさえすればよい。
【0074】
・上記各実施の形態においては、圧力保持期間を設けることで接着剤5が押圧圧力に追従して変形する期間を確保したが、必ずしもこれに限定されるものではない。接着剤5が変形する期間、ガラス基板1(支持部材7)の移動を停止するようにしてもよい。
【0075】
・上記各実施の形態においては、ガラス基板1と封止用ガラス4との貼り合わせに使用する接着剤5は紫外線硬化性の樹脂としたが、必ずしもこれに限定されるものではない。接着剤5としては、たとえば熱硬化性の樹脂でも、また他の手段により硬化される接着剤であってもよい。上記貼り合わせ面を確実に貼り合わせて表示基板3を的確に封止することができさえすれば、どのような接着剤であってもよい。
【0076】
・上記各実施の形態においては、チャンバ20の内部に充満させる気体として窒素ガスを用いる場合について例示したが、必ずしもこれに限定されるものではない。水分の含有率が低く表示基板3に対して悪影響を及ぼすことのない不活性の気体であれば、どのような気体をもこの窒素ガスに代わる気体として用いることができる。
【0077】
・上記各実施の形態においては、有機EL素子が形成された表示基板3を封止する場合について例示したが、必ずしもこれに限定されるものではない。発光用素子として無機EL素子が形成された表示基板であってもよいし、また、たとえば液晶表示基板やプラズマ表示基板であっても、その封止に本発明を適用することはできる。また、表示用素子の形成面となる基板の材質は、上記各実施の形態において例示したガラス基板1のように、ガラスに限らず、たとえば紫外線等を透過する適宜の透明な樹脂基板であってもよい。
【0078】
・上記各実施の形態においては、表示基板3を封止する封止部材として封止用ガラス4を用いる場合について例示したが、必ずしもこれに限定されるものではない。たとえば、金属のケース(メタルカン)などで表示基板3を封止してもよい。その場合でも、それら封止部材に合った適切な接着剤を選択するようにすればよい。
【0079】
・上記各実施の形態においては、表示基板3に形成する素子層2の構成について例示したが、必ずしもこの構成に限定されるものではなく、どのような構成にて素子層を形成してもよい。
【0080】
・上記第2の実施の形態においては、上記封止を行う温度を35℃に設定する場合について例示したが、必ずしもこの温度に限定されるものではない。上記封止を行う温度としては、表示基板3に形成されている有機EL素子に特性劣化を与えず、かつ接着剤5が適度な粘度となる27℃〜55℃の範囲に設定すればよく、また29℃〜40℃の範囲に設定するのがより好ましい。さらに、封止部分におけるギャップGおよびシール線幅Wが均一にかつ安定的に得られ、またこの封止を完了させる時間の短縮を図るためには、上記設定温度は32℃〜38℃の範囲に設定するのがもっとも好ましい。なお、上記第1の実施の形態にて示した物質を採用してこの第2の実施の形態の有機EL素子60を構成する場合には、それら各層に特性劣化を与えることなく設定可能な上記封止温度は95℃以下とするのが望ましい。
【0081】
・上記第2の実施の形態において、接着剤5の粘度を低くするための温度制御は、チャンバ20内に充満させる窒素ガスの温度を制御することによって行う例にて説明したが、必ずしもこれに限定されるものではない。たとえば、図7および図8にそれぞれ示すように、ヒータや赤外線などを利用して接着剤5を局所的に加熱するようにしてもよい。これにより、有機EL素子を加熱することによる特性劣化を最小限に抑制することができるようになる。ちなみに、図7の例においては、封止用ガラス4上において接着剤5が塗布されている部位下方の石英ガラス11a内にヒータ27を埋設するようにしている。この場合、石英ガラス11a内部に埋設するのは上記ヒータ27に代えてヒートパイプなど他の熱源であってもよい。また、図8の例においては、赤外線光源28から照射された赤外線が赤外線照射マスク29を通って接着剤5のみに照射されるようにしている。こうした製造方法によれば、いずれも接着剤5を局所的に加熱することができるため、有機EL素子の温度上昇を最小限に抑制して有機EL表示装置としての品質を確保しつつ、その表示用パネルの製造時間を短縮することができるようになる。
【0082】
・さらに上記第2の実施の形態においては、上記封止を行う温度を一定値に制御する場合について例示したが、必ずしもこの制御方法に限定されるものではない。同封止に用いられる接着剤5の粘度が、その封止のために適したものとなるようにその温度を積極的に変化させても、上記第2の実施の形態において得られる効果と同等の効果を得ることができるようになる。この場合であれ、たとえばEL素子などの表示用素子の特性に影響を及ぼさない範囲内で温度を制御することが望ましい。
【0083】
【発明の効果】
請求項1記載の表示用パネルの製造方法によれば、前記印加する圧力の段階的変化に応じて前記ギャップに塗布される前記接着剤の形状も段階的に変化するようになる。これにより、前記封止部材と表示基板とにより封止される内部空間に存在する気体が排出される期間が確保され、上記接着剤が粘度の高いものであっても上記圧力を円滑に印加することができるようになる。したがって、上記ギャップ距離、ひいては上記貼り合わせ面を封止する接着剤の当接幅を均一なものとすることができ、確実で信頼性の高い表示基板の封止を迅速に行えるようになる。
【0084】
また、請求項2記載の表示用パネルの製造方法によれば、上記貼り合わせ面に印加する圧力の段階的変化として、圧力を変化させる圧力変更期間とそれに続いて一定の圧力を保持する圧力保持期間とが交互に繰り返されるため、貼り合わせ面の加圧にともなって接着剤がより円滑に追従して変形できるようになる。これにより、上記表示基板の封止をより迅速かつ確実に行えるようになる。
【0085】
また、請求項3記載の表示用パネルの製造方法によれば、上記各圧力保持期間が相互に独立に設定されるため、上記印加される圧力が増大するにつれて上記接着剤が追従して変形する期間を長くするなど、接着材の変形に適したかたちで自由度高く圧力の印加パターンを設定することができるようになる。
【0086】
また、請求項4記載の表示用パネルの製造方法によれば、上記圧力変更期間での圧力変化量がそれぞれ独立に設定されるため、より自由度の高い圧力の印加パターンを設定することができ、用いられる接着剤に応じてより的確な圧力を印加することができるようになる。
【0087】
また、請求項5記載の表示用パネルの製造方法によれば、最後の圧力変更期間での圧力変化量を他の圧力変更期間での圧力変化量よりも小さくするため、それに対応した接着剤の形状変化量も小さくすることができる。したがって、貼り合わせ面への印加圧力が目標値に到達したときには、そのギャップ距離は目標値にきわめて近い値で安定したものとなる。
【0088】
また、請求項6記載の表示用パネルの製造方法によれば、上記圧力変更期間の少なくとも一期間においてその圧力変化速度が可変とされるため、より自由度の高い圧力の印加パターンを設定することができ、用いられる接着剤に応じてより的確な圧力を印加することができるようになる。
【0089】
また、請求項7記載の表示用パネルの製造方法によれば、上記圧力変更期間と圧力保持期間とを交互に3回繰り返すことにより、貼り合わせ面に簡素な圧力の印加パターンにより上記貼り合わせ面への印加圧力を迅速に目標値に到達させることができるようになる。
【0090】
また、請求項8記載の表示用パネルの製造方法によれば、上記接着剤を紫外線照射によるカチオン重合を利用して硬化させるため、上記表示基板を加熱することなく、また水分を発生させることなく封止することができる。そのため、その表示基板が耐熱性の低い表示用素子を有して構成されていても、また水分によって劣化が促進される特性をもつ表示用素子を有して構成されていても、これを劣化させることなく好適に封止することができるようになる。
【0091】
また、請求項9記載の表示用パネルの製造方法によれば、貼り合わせ面に印加する圧力の印加パターンに加えて、そのときの接着剤の温度も併せて調整される。このため、温度により粘度が大きく変化する接着剤にあっては、その温度を適切に制御することにより、上記表示基板を封止する際に同接着剤を適切な粘度において塗布することができるようになる。これにより、上記表示基板の封止をより短時間で行うことができるようになる。
【0092】
また、請求項10記載の表示用パネルの製造方法によれば、少なくとも上記貼り合わせ面に対する圧力の印加前に上記接着剤を所定の温度に加熱するため、上記表示基板の封止をさらに短時間で行うことができるようになる。
【0093】
また、請求項11記載の表示用パネルの製造方法によれば、上記接着剤の温度を所定の温度に制御しつつ、上記貼り合わせ面に対する圧力の印加を行うため、より迅速かつ円滑に上記表示基板の封止を行うことができるようになる。
【0094】
また、請求項12記載の表示用パネルの製造方法によれば、上記表示用素子としてEL素子を有して形成され、上記所定の温度が同EL素子としての素子特性に影響を及ぼさない温度に設定される。このため、耐熱性の低いEL素子を利用した表示用パネルにあっても、上記表示基板の封止を高温にすることなく好適に行うことができるようになる。
【0095】
また、請求項13記載の表示用パネルの製造方法によれば、上記貼り合わせ面に対する圧力の印加態様に応じて上記接着剤に付与する温度を可変とするため、上記封止に用いられる接着剤に対応してより自由度の高い温度制御を行うことができるようになる。
【0096】
そして、請求項14記載の表示用パネルの製造方法によれば、表示用素子としてEL素子を有して形成され、上記接着剤に付与する温度が同EL素子としての素子特性に影響を及ぼさない温度に設定される。このため、耐熱性の低いEL素子を利用した表示用パネルにあっても、上記表示基板の封止を高温にすることなく好適に行うことができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる表示用パネルの製造方法の第1の実施の形態についてこれを実施するための装置構成例を示す説明図。
【図2】同第1の実施の形態について表示基板と封止用ガラスとの貼り合わせ面を押圧する圧力の印加パターン例を示すタイムチャート。
【図3】接着剤の変形態様を説明するための略図断面図。
【図4】接着剤として用いられるカチオン系紫外線硬化性エポキシ樹脂の粘度と温度との関係を示すグラフ。
【図5】本発明にかかる表示用パネルの製造方法の第2の実施の形態についてこれを実施するための装置構成例を示す説明図。
【図6】同第2の実施の形態について表示基板と封止用ガラスとの貼り合わせ面を押圧する圧力の印加パターン例を示すタイムチャート。
【図7】同第2の実施の形態の変形例についてこれを実施するための装置構成例を示す説明図。
【図8】同第2の実施の形態の変形例についてこれを実施するための装置構成例を示す説明図。
【図9】一般の表示用パネルの製造方法としてガラス基板上に形成された複数の表示基板の封止用ガラスによる封止態様を示す説明図。
【図10】上記ガラス基板と封止用ガラスとを貼り合わせたときの断面状態を模式的に拡大して示す断面図。
【図11】従来の表示用パネルの製造方法による封止不良の例を示す平面図。
【図12】有機EL表示用パネルの素子層の構成例を示す平面図。
【図13】有機EL表示用パネルの素子層の構成例を示す断面図。
【符号の説明】
1…ガラス基板、2…素子面、3…表示基板、4…封止用ガラス、5…接着剤、6…掘削部、7…支持部材、11、11a…石英ガラス、20…チャンバ、21a…ガス導入口、21b…ガス排出口、22…CCDカメラ、23…紫外線光源、24…温度調節器、25…赤外線光源、26…赤外線照射マスク、27…ヒータ、38…スペーサ、39…位置合わせマーク。

Claims (10)

  1. 表示領域に表示用素子が形成された表示基板の素子面と該素子面に対向して配置した封止部材とを前記表示領域を囲繞する態様で塗布した接着剤を介して貼り合わせたのち、この貼り合わせ面に圧力を加えるとともに前記接着剤を硬化させる表示用パネルの製造方法であって、
    前記封止部材と表示基板との貼り合わせ面に印加する圧力をそれら封止部材と表示基板とのギャップが目標値に到達するまで段階的に変化させ、
    前記封止部材と表示基板との貼り合わせ面に印加する圧力の段階的な変化は、印加する圧力を連続的に変化せしめる圧力変更期間と、この増大した圧力を一定に保持する圧力保持期間とを含み、
    前記圧力の段階的変化が、前記圧力変更期間と前記圧力保持期間との少なくとも各3回の繰り返しとして行われ、
    前記各圧力変更期間での圧力変化量のうち、最後の圧力変更期間での圧力変化量を他の圧力変更期間での圧力変化量よりも小さくする
    ことを特徴とする表示用パネルの製造方法。
  2. 前記各圧力保持期間は、相互に独立に設定される
    ことを特徴とする請求項1記載の表示用パネルの製造方法。
  3. 前記圧力変更期間の少なくとも一期間において、その圧力変化速度が可変とされることを特徴とする請求項1〜2のいずれかに記載の表示用パネルの製造方法。
  4. 前記接着剤が、カチオン重合により硬化する紫外線硬化性エポキシ樹脂であり、同接着剤の硬化を紫外線照射によって行う
    ことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の表示用パネルの製造方法。
  5. 前記接着剤に対する温度制御を併用する
    ことを特徴とする請求項4記載の表示用パネルの製造方法。
  6. 前記温度制御として、少なくとも前記封止部材と表示基板との貼り合わせ面に対する圧力の印加前に、前記接着剤を所定の温度に加熱する処理を行う
    ことを特徴とする請求項5記載の表示用パネルの製造方法。
  7. 前記温度制御として、前記接着剤を所定の温度に加熱しつつ、前記封止部材と表示基板との貼り合わせ面に対する圧力の印加を行う
    ことを特徴とする請求項5記載の表示用パネルの製造方法。
  8. 前記表示基板が、前記表示用素子としてエレクトロルミネッセンス素子を有して形成され、前記所定の温度が、前記エレクトロルミネッセンス素子としての素子特性に影響を及ぼさない温度に設定される
    ことを特徴とする請求項6または7記載の表示用パネルの製造方法。
  9. 前記温度制御として、前記封止部材と表示基板との貼り合わせ面に対する圧力の印加した状態に応じて前記接着剤に付与する温度を可変とする制御を行う
    ことを特徴とする請求項5記載の表示用パネルの製造方法。
  10. 前記表示基板が、前記表示用素子としてエレクトロルミネッセンス素子を有して形成され、前記可変とされる前記接着剤に付与する温度が、前記エレクトロルミネッセンス素子としての素子特性に影響を及ぼさない温度の範囲で設定される
    ことを特徴とする請求項9記載の表示用パネルの製造方法。
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