JP2013125718A - 表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】表示装置の製造方法は、第1基板10の主面に表示素子を形成する表示素子形成工程と、複数の直線部からなり隣り合う直線部のそれぞれが向きを変えることなく延出して互いに連続する多角形の枠状をなすように、第1基板10又は第2基板20の主面の基板周縁部にフリットガラスを塗布するフリットガラスシール材塗布工程と、第1基板10及び第2基板20の各々の主面を対向させて基板貼合体を形成する基板貼合体形成工程と、フリットガラスが塗布された多角形枠を構成する複数の直線部の各々L1,L2に対して、その一端a1,b1から他端a3,b3にわたってレーザー照射を個別に行ってフリットガラス40aを焼成し、第1基板10及び第2基板20を接着するフリットガラス焼成工程と、を有する。
【選択図】図7
Description
図1は、本発明の実施形態1に係る有機EL表示装置1の平面図であり、図2は、図1のA−A断面図である。
図1及び2に示すように、有機EL表示装置1は、第1基板である矩形のTFT基板10と、TFT基板10に対向する第2基板である矩形の封止基板20と、TFT基板10上に形成されるとともに、TFT基板10及び封止基板20の間に設けられた有機EL素子30とを備えている。また、有機EL表示装置1は、有機EL素子30を封止するようにTFT基板10と封止基板20とを外周縁部において互いに貼り合わせるフリットガラスシール材40及びその外周側の樹脂シール材50を備えている。フリットガラスシール材40及び樹脂シール材50は、それぞれ、有機EL素子30を囲うように、基板の外周縁部に沿って矩形枠状に形成されている。
この有機EL表示装置1では、TFTをオンさせると、第1電極31から有機層32へホールが注入されると共に、第2電極33から有機層32へ電子が注入される。そして、ホールと電子とが発光層内で再結合する。再結合により励起状態となった電子が基底状態に戻る際に放出するエネルギーが、発光として取り出される。各発光領域の発光輝度を制御することで、有機EL表示装置1にて所定の画像を表示することができる。
次に、本実施形態の有機EL表示装置の製造方法の一例について、図3のフローチャートに基づいて説明する。図4〜8は、本発明の実施形態1に係る有機EL表示装置の製造方法を説明する図である。
はじめに、ステップS11において、図4に示すように、TFT基板10上に有機EL素子30を形成する。
一方、ステップS21において、封止基板20の主面の外周縁部に、フリットガラスシール材40となるフリット枠40aを形成する。
続いて、ステップS31において、真空雰囲気で、図6に示すように、有機EL素子30が形成されたTFT基板10上に、両基板間に有機EL素子30が挟まれるように、フリット枠40a及び樹脂枠50aが形成された封止基板20を載置する。
次いで、ステップS32において、樹脂枠50aに対して封止基板20側から紫外線を照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化させ、樹脂シール材50とする。このとき、有機EL素子30に紫外線が照射されないように、マスキング等の処理を行う。なお、照射する紫外線のエネルギーは、0.5〜10Jが好ましく、1〜6Jがより好ましい。紫外線照射雰囲気は、真空雰囲気、または、露点温度が−30度以下(より好ましくは−60度以下)の乾燥雰囲気とする。紫外線照射後は、真空雰囲気から基板貼合体を取り出すことができる。
次いで、ステップS33において、図7に示すように、フリット枠40aに対して封止基板20側からレーザー光源を用いてレーザーを照射して450〜700℃程度に加熱し、フリット枠40aを溶融することにより、TFT基板10と封止基板20との間を溶着する。このとき照射するレーザー光源としては、例えば、半導体レーザー、YAGレーザー等を用いることができる。照射雰囲気は、好ましくは、大気雰囲気、または、露点温度が−30度以下の乾燥雰囲気とする。
次に、本実施形態の作用効果について説明する。
(変形例1)
実施形態1では、フリットガラスからなるフリットガラスシール材40の外周側に紫外線硬化性樹脂からなる樹脂シール材50を設けるとして説明したが、図10に変形例1として示すように、フリットガラスシール材40の内周側に樹脂シール材50を設けてもよい。この場合でも、フリットガラスシール材40及び樹脂シール材50の塗布する領域を変更する以外は実施形態1と同様の方法で有機EL表示装置を作製することができる。
実施形態1では、樹脂シール材50を紫外線硬化性樹脂で設けるとして説明したが、熱硬化性樹脂を用いて樹脂シール材50を形成してもよい。この場合には、図3のステップS32の第2シール材硬化の工程と、ステップS33の第1シール材焼成の工程とを、両シール材40,50にレーザー照射することにより同時に行うことができる。
実施形態1では、フリットガラス焼成工程において使用するレーザービームの照射面の形状が矩形であるとして説明したが、レーザー照射装置のレーザーヘッドの形状(例えば、円形)のままでレーザー照射を行ってもよい。但し、レーザービームの照射面におけるエネルギー密度が均一である点からは、レーザービームの照射面を矩形にすることが好ましい。
10 TFT基板(第1基板)
20 封止基板(第2基板)
30 有機EL素子(表示素子)
40 フリットガラスシール材
50 樹脂シール材
Claims (8)
- 対向配置された第1基板及び第2基板と、
複数の直線部からなり隣り合う直線部のそれぞれが向きを変えることなく延出して互いに連続する多角形の枠状をなし、上記第1基板及び第2基板間の基板周縁部に配置されて両基板を貼り合わせるフリットガラスシール材と、
上記第1基板及び第2基板間の上記フリットガラスシール材で囲まれた領域に設けられた表示素子と、
を有する表示装置。 - 請求項1に記載された表示装置において、
上記第1基板及び第2基板は矩形であり、
上記フリットガラスシール材は、矩形枠状に形成されていることを特徴とする表示装置。 - 請求項1又は2に記載された表示装置において、
上記第1基板及び第2基板間の基板周縁部で、上記フリットガラスシール材の外周又は内周に枠状に配置され、上記第1基板及び第2基板を貼り合わせる樹脂シール材をさらに備えることを特徴とする表示装置。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載された表示装置において、
上記表示素子は、有機EL素子であることを特徴とする表示装置。 - 請求項1又は2の表示装置を製造する表示装置の製造方法であって、
第1基板の主面に表示素子を形成する表示素子形成工程と、
複数の直線部からなり隣り合う直線部のそれぞれが向きを変えることなく延出して互いに連続する多角形の枠状をなすように、上記第1基板又は第2基板の主面の基板周縁部にフリットガラスを塗布するフリットガラスシール材塗布工程と、
上記第1基板及び第2基板の各々の主面を対向させて基板貼合体を形成する基板貼合体形成工程と、
上記フリットガラスが塗布された多角形枠を構成する複数の直線部の各々に対して、その一端から他端にわたってレーザー照射を個別に行って上記フリットガラスを焼成し、上記第1基板及び第2基板を接着するフリットガラス焼成工程と、
を有する表示装置の製造方法。 - 請求項5に記載された表示装置の製造方法において、
上記フリットガラス焼成工程において、照射するレーザービームの照射面の形状が矩形であることを特徴とする表示装置の製造方法。 - 請求項3の表示装置を製造する表示装置の製造方法であって、
第1基板の主面に表示素子を形成する表示素子形成工程と、
複数の直線部からなり隣り合う直線部のそれぞれが向きを変えることなく延出して互いに連続する多角形の枠状をなすように、上記第1基板又は第2基板の主面の基板周縁部にフリットガラスを塗布すると共に、該フリットガラスシール材の内周又は外周に樹脂シール材を塗布するシール材塗布工程と、
上記第1基板及び第2基板の各々の主面を対向させて基板貼合体を形成する基板貼合体形成工程と、
上記貼合体形成工程の後、上記シール材塗布工程で塗布した樹脂シール材を硬化し、上記第1基板及び第2基板を接着する樹脂シール材硬化工程と、
上記フリットガラスが塗布された多角形枠を構成する複数の直線部の各々に対して、その一端から他端にわたってレーザー照射を個別に行って上記フリットガラスを焼成し、上記第1基板及び第2基板を接着するフリットガラス焼成工程と、
を有する表示装置の製造方法。 - 請求項7に記載された表示装置の製造方法において、
上記フリットガラス焼成工程において、照射するレーザービームの照射面の形状が矩形であることを特徴とする表示装置の製造方法。
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