JP4890067B2 - 基板処理装置および基板搬送方法 - Google Patents
基板処理装置および基板搬送方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4890067B2 JP4890067B2 JP2006089049A JP2006089049A JP4890067B2 JP 4890067 B2 JP4890067 B2 JP 4890067B2 JP 2006089049 A JP2006089049 A JP 2006089049A JP 2006089049 A JP2006089049 A JP 2006089049A JP 4890067 B2 JP4890067 B2 JP 4890067B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- holding
- positioning
- support
- contact portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
- H01L21/67075—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching
- H01L21/6708—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching using mainly spraying means, e.g. nozzles
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68742—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a lifting arrangement, e.g. lift pins
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Weting (AREA)
Description
そこで、基板搬送ロボットによって基板を搬送する過程で、基板保持ハンドに対する基板の位置合わせを行ったり、処理前の基板を一旦位置合わせステージ(アライメントステージ)に搬入して位置合わせを行ったりすることが考えられる。さらには、高精度な基板搬送ロボットを用いて必要な位置精度を確保することが考えられる。
そこで、この発明の目的は、コストを抑制しながらも、基板保持回転機構に精密に位置決めされた状態で基板を保持させることができ、これにより、安定な基板処理を実現できる基板処理装置および基板搬送方法を提供することである。
位置決め部材が基板保持回転機構のスピンベースに設けられているので、基板保持ハンド上や位置決めステージで位置合わせをする場合に比較して、精密に基板を位置決めすることができ、コストも削減できる。
さらに、この発明では、前記基板搬送機構が、基板を保持する基板保持ハンド(60)を含み、前記基板当接部が、前記基板保持ハンドに設けられており、前記基板当接部移動機構が、前記基板保持ハンドを前記位置決め部材に向けて移動させるハンド駆動機構(53)を含む。この構成により、ハンド駆動機構によって基板保持ハンドを位置決め部材に向けて移動させることによって、基板当接部を移動させることができ、基板保持回転機構に対して基板を正確に位置決めできる。
また、基板当接部が基板当接部移動機構によって移動させられることにより、基板を前記位置決め部材に向けて弾発的に押し付ける付勢手段(74)をさらに含むことが好ましい。この付勢手段は、たとえば、ばねその他の弾性部材であってもよい。
この構成によれば、ハンド駆動機構による基板保持ハンドの移動および相対移動機構による基板当接部の相対移動によって、基板を位置決め部材に向けて移動させることができる。これにより、ハンド駆動機構による基板保持ハンドの移動精度が不十分であっても、相対移動機構によって、さらに精密に基板当接部を移動させることができる。その結果、高価な高精度ハンド駆動機構を必要としないので、コストの削減に寄与することができる。
この構成によれば、相対移動機構による基板当接部の相対移動によって、基板を位置決め部材に向けて移動させることができる。これにより、ハンド駆動機構による基板保持ハンドの移動精度が不十分であっても、相対移動機構によって、さらに精密に基板当接部を移動させることができる。その結果、請求項2の発明の場合と同様に、高価な高精度ハンド駆動機構を必要としないので、コストの削減に寄与することができる。
請求項6記載の発明は、前記位置決め用基板支持部(66,79)が、前記基板搬送機構に設けられている、請求項4記載の基板処理装置である。この構成によれば、基板搬送機構から基板保持回転機構へと基板を受け渡す前に、基板の位置決めを行うことができる。この場合、前記位置決め用基板支持部は、基板を保持する基板保持ハンドに備えられていてもよい。
請求項8記載の発明は、前記処理用基板支持部に支持された基板の他方表面に向けて、基板を前記処理用基板支持部に押し付けるための流体(気体または液体)を供給する流体供給手段(21,9b)をさらに含む、請求項7記載の基板処理装置である。
前記基板保持回転機構は、ベース(5)と、このベースに対して前記処理用基板支持部を動かす支持部駆動機構(28,29,30:より具体的には、ベースの表面と支持位置との距離が変化するように処理用基板支持部を動かすもの)とをさらに含むものであってもよい。これにより、前述の位置決め用基板支持部から処理用基板支持部へと基板を受け渡すことができる。
請求項9記載の発明は、所定の基板保持位置に基板(W)を位置決めするための位置決め部材(55)を、基板を保持して回転するための基板保持回転機構(4)に備えられ回転軸線(J)回りに回転するスピンベース(5)に設けるステップと、この基板保持回転機構に基板を渡すための基板搬送機構(52)に設けた押し付け手段(53,60,70,75,77)によって、当該基板を前記位置決め部材に向けて押し付けるステップと、前記基板搬送機構から前記基板保持回転機構に基板を受け渡すステップとを含む、基板搬送方法である。この構成により、請求項1の発明に関連して説明したのと同様な効果を奏することができる。この方法の発明に関しても、前述の基板処理装置の発明に関連して述べたような変形を施すことができる。
図1は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置の構成を説明するための図解的な断面図である。この基板処理装置は、半導体ウエハ等の基板Wの表面に薬液やリンス液(たとえば純水(脱イオン化された純水))等の処理液を供給して基板Wに対して液処理を行った後、遠心力によって基板表面の液を振り切るスピン乾燥を行う装置である。この基板処理装置は、基板Wの下面に対して処理液を供給して、その下面の処理を行うことができ、また基板Wの下面に対して処理液を供給することにより、基板Wの下面から基板Wの周端面を伝ってその上面(デバイス形成面)に処理液を回り込ませ、基板Wの上面周縁部の処理(ベベル処理)を行うことができる。さらに、基板Wの上面に対して処理液を供給して、その上面の処理を行うことができる。
また、この基板処理装置は、図1に示すようにスピンベース5に対向して配置され、基板Wの上面側の雰囲気を遮断するための雰囲気遮断板9と、この雰囲気遮断板9と基板Wの上面との間に形成される空間SPに窒素ガス等の不活性ガスを供給するガス供給部21(流体供給手段)を備えている。そして、ガス供給部21から基板Wの上面に向けて空間SPに不活性ガスを供給することによって、基板Wを支持部7に押圧させて、基板Wをスピンチャック4に保持させることが可能となっている。これにより、支持部7と基板W下面との間の摩擦力により、スピンチャック4の回転力が支持部7を介して基板Wに伝えられる。
雰囲気遮断板9の中心の開口および支持軸11の中空部には、上部洗浄ノズル12が同軸に設けられ、その下端部のノズル口12aからスピンベース5に押圧保持された基板Wの上面の回転中心付近に薬液、リンス液等の処理液を供給できるように構成されている。この上部洗浄ノズル12は、配管13に連通接続されている。この配管13は、基端部において分岐しており、一方の分岐配管13aには薬液供給源31が接続され、他方の分岐配管13bにはリンス液供給源33が接続されている。各分岐配管13a、13bには開閉弁15、17が介装されており、装置全体を制御する制御部20による開閉弁15、17の開閉制御によって上部洗浄ノズル12から基板Wの上面に薬液とリンス液とを選択的に切換えて供給することができる。
支持部7は、スピンベース5の一部が上方に向けて凸状に延出した延出部5aの内部に設けられている。この支持部7は、基板Wの下面周縁部に当接/離間可能にスピンベース5の延出部5aの上面に埋設されたフィルム28と、上下方向に移動可能に支持されてフィルム28の下面側に当接/離間してフィルム28の上面中央部を押上可能となっている可動ロッド29と、この可動ロッド29を上下動させるモータ等の駆動部30とを備えている。なお、駆動部30にはモータに限らず、エアシリンダ等のアクチュエータ全般を用いてもよい。前記可動ロッド29および駆動部30などにより、支持部駆動機構が構成されている。
この位置合わせのために、この実施形態では、図2に示すように、スピンベース5の上面には、一対の位置決めガイド55が備えられている。これらの一対の位置決めガイド55は、図4に拡大斜視図を示すように、基板Wの周縁部の下面を点接触で支持する円錐台状の基板支持部56と、この基板支持部56よりも基板Wの半径方向外方側に位置し、基板Wの周端面に対向する位置決め面(ガイド面)57とを備えている。位置決め面57は、スピンチャック4にアクセスする基板保持ハンド60に対向する位置に配置されており、それらの位置決め面57に基板Wの周端面が当接したときに当該基板Wの中心(重心)とスピンベース5の回転軸線Jとが一致するように、スピンベース5の上面に位置決めガイド55が立設されている。なお、位置決め面57は、基板Wの上昇および下降時の擦れを軽減するため、鉛直から5度程度傾斜した傾斜面となっている。ただし、擦れが特に問題とならない場合は鉛直面であってもよい。
位置決めガイド55および位置決め時用基板支持ピン58の基板支持部56,59は、基板Wの位置決め時に基板Wの下面周縁部に接触して当該基板Wを支持する位置決め用基板支持部であり、スピンベース5の上面に対して一定の基板支持高さで基板Wの下面に当接するようになっている。基板Wの処理時に当該基板Wを支持する前述の支持部7は、位置決めガイド55および位置決め時用基板支持ピン58による基板支持高さよりも高い処理位置と、当該基板支持高さよりも低い退避位置との間で、基板支持高さ(フィルム28の上面の高さ)を変更することができるようになっている。支持部7の基板支持高さは、基板Wを処理するときには処理位置に制御され、基板Wの位置合わせ時には退避位置に制御されるようになっている。
基板保持ハンド60が基板Wを搬送しているとき、制御部20は、シリンダ70のロッド71を前進位置に制御している。これにより、基板Wは、基板保持ハンド60上で、落とし込みガイド63,75によってクランプされ、コイルばね74の働きにより弾性的に挟持されている。この状態では、前進端センサ81およびクランプ確認センサ83がオン状態であり、後退端センサ82はオフ状態である。なお、図7では、これらのセンサのうち、オン状態のものを塗りつぶした四角形「■」で表し、オフ状態のものを白抜きの四角形「□」で表してある。
続いて、制御部20は、ハンド駆動機構53を制御して、図7(c)に示すように、基板保持ハンド60を下降させる。これにより、基板Wは、落とし込みガイド63,75から、位置決めガイド55および位置決め時用基板支持ピン58の基板支持部56,59に受け渡される。基板保持ハンド60の高さは、前方の位置決めガイド63の上面が基板Wの下面よりも下方に位置するように制御される。このとき、後方の落とし込みガイド75の規制面77は、基板Wの周端面に対向している。すなわち、この規制面77は、基板保持ハンド60が下降した後にも、基板Wの周端面に対して水平方向に対向できるだけの高さを有している。
せる。これにより、基板Wに公差範囲での寸法誤差が生じていても、落とし込みガイド75の規制面77は、基板Wの周端面に確実に当接する。さらに、基板保持ハンド60の前進に伴って圧縮されるコイルばね74によって、基板Wは、位置決めガイド55に向けて弾性的に付勢される。こうして、基板Wが位置決めガイド55に確実に当接して、基板Wの位置決めが完了する。このとき、クランプ確認センサ83がオン状態となる。
さらに、制御部20は、ハンド駆動機構53を制御して、基板保持ハンド60をさらに下降させた後に後退させて、スピンチャック4から退避させる(図7(g))。
こうして、位置決めガイド55の位置決め面57に基板Wの周端面を押し当ててから、基板Wが支持部7に渡されることにより、スピンベース5の回転軸線Jに中心が整合した状態で基板Wが支持されることになる。
図8は、この発明の第2の実施形態に係る基板処理装置において、基板保持ハンドからスピンチャック4へと基板Wを受け渡すときの動作を順に示す図解図である。この実施形態の説明では、前述の図1〜図6を再び参照することとし、これらの図面に示された各部と対応する部分については、図8中に同一符号を付して示す。
板Wの周端面が位置決めガイド55の位置決め面57に当接し、その後は、基板保持ハンド60はコイルばね74を圧縮させながら前進し、これに伴って、基板Wの前方の周端面が落とし込みガイド63の規制面64から離れる。こうして、基板Wの前方の周端面が位置決め面57に当接させられることで、基板Wの位置決めが完了する。この状態では、前進端センサ81はオン、クランプ確認センサ83はオフ、位置決め確認センサ84はオン、後退端センサ82はオフとなる。
その後、さらに、制御部20は、ハンド駆動機構53を制御して、基板保持ハンド60をさらに下降させた後に後退させて、スピンチャック4から退避させる(図8(f))。
この後の動作は、前述の第1の実施形態の場合と同様である。
前述の第1の実施形態では、基板Wの位置決め時に位置決めガイド55および位置決め時用基板支持ピン58の基板支持部56,59上で基板Wがスライドさせられているのに対して、この実施形態では、基板保持ハンド60に備えられた落とし込みガイド63,75の支持爪66,79上で基板Wをスライドさせて、その位置決めを行うようになっている。この相違点に起因して、第2の実施形態の場合の方が、以下の点で有利である。
さらに、前述の第1の実施形態では、位置決めガイド55および位置決め時用基板支持ピン58の基板支持部56,59上で基板Wをスライドさせて当該基板Wの位置決めを行うようにしているが、位置決め時の基板Wのスライドを支持部7に支持させた状態で行ってもよい。この場合、位置決め時用基板支持ピン58は不要であり、位置決めガイド55は基板支持部56を有している必要がない。
さらに、前述の実施形態では、支持部7の基板支持高さを変更するために、モータ等の駆動部30がスピンベース5に組み込まれた構成を示したが、スピンベース5外に設けた駆動機構からの駆動力をスピンベース5内に設けたリンク機構等によって支持部7に伝達することにより、この支持部7の基板支持高さを変更する構成としてもよい。より具体的には、たとえば、特許文献2に開示された構造を利用することにより、スピンベース5外に設けた駆動機構からの駆動力をスピンベース5内のリンク機構に伝達できる。
3 モータ
4 スピンチャック
5 スピンベース
5a 延出部
7 支持部
9 雰囲気遮断板
9a 対向面
9b ガス噴出口
9c ガス流通空間
11 支持軸
12 上部洗浄ノズル
12a ノズル口
13 配管
13a,13b 分岐配管
15,17 開閉弁
18 気体供給路
19 開閉弁
20 制御部
21 ガス供給部
23 開閉弁
25,27 配管
28 フィルム
29 可動ロッド
30 駆動部
31 薬液供給源
33 リンス液供給源
35 気体供給源
41 下部洗浄ノズル
41a ノズル口
43 配管
43a,43b 分岐配管
45,47 開閉弁
48 気体供給路
49 開閉弁
50 配管
52 基板搬送ロボット
53 ハンド駆動機構
55 位置決めガイド
56 基板支持部
57 位置決め面
58 位置決め時用基板支持ピン
59 基板支持部
60 基板保持ハンド
61 片持ち梁
62 横断梁
63 落とし込みガイド
63A ボルト
64 規制面
65 本体部
66 支持爪
70 シリンダ
71 ロッド
72 フランジ
73 ブラケット
74 コイルばね
75 落とし込みガイド
76 ボルト
77 規制面
78 本体部
79 支持爪
81 前進端センサ
82 後退端センサ
83 クランプ確認センサ
84 位置決め確認センサ
J 回転軸線
NTR 非処理領域
TR 上面処理領域
SP 空間
W 基板
Claims (9)
- 基板を保持して回転するための基板保持回転機構と、
この基板保持回転機構に設けられ、所定の基板保持位置に基板を位置決めするための位置決め部材と、
前記基板保持回転機構に基板を渡す基板搬送機構と、
この基板搬送機構に設けられ、基板を前記位置決め部材に向けて押し付ける押し付け手段とを含み、
前記基板保持回転機構が、回転軸線回りに回転するスピンベースを含み、前記位置決め部材が前記スピンベースに備えられており、
前記押し付け手段が、基板の端面に当接する基板当接部と、この基板当接部を位置決め部材に向けて移動させる基板当接部移動機構とを含み、
前記基板搬送機構が、基板を保持する基板保持ハンドを含み、
前記基板当接部が、前記基板保持ハンドに設けられており、
前記基板当接部移動機構が、前記基板保持ハンドを前記位置決め部材に向けて移動させるハンド駆動機構を含む、基板処理装置。 - 前記基板当接部移動機構が、前記基板当接部を前記基板保持ハンドに対して相対的に移動させる相対移動機構をさらに含む、請求項1記載の基板処理装置。
- 基板を保持して回転するための基板保持回転機構と、
この基板保持回転機構に設けられ、所定の基板保持位置に基板を位置決めするための位置決め部材と、
前記基板保持回転機構に基板を渡す基板搬送機構と、
この基板搬送機構に設けられ、基板を前記位置決め部材に向けて押し付ける押し付け手段とを含み、
前記基板保持回転機構が、回転軸線回りに回転するスピンベースを含み、前記位置決め部材が前記スピンベースに備えられており、
前記押し付け手段が、基板の端面に当接する基板当接部と、この基板当接部を位置決め部材に向けて移動させる基板当接部移動機構とを含み、
前記基板搬送機構が、基板を保持する基板保持ハンドを含み、
前記基板当接部が、前記基板保持ハンドに設けられており、
前記基板当接部移動機構が、前記基板当接部を前記基板保持ハンドに対して相対的に移動させる相対移動機構を含む、基板処理装置。 - 前記位置決め部材に基板の端面が対向する位置で、前記位置決め部材に向けて基板が移動可能であるように当該基板を支持する位置決め用基板支持部をさらに含む、請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記位置決め用基板支持部が、前記基板保持回転機構に設けられている、請求項4記載の基板処理装置。
- 前記位置決め用基板支持部が、前記基板搬送機構に設けられている、請求項4記載の基板処理装置。
- 前記基板保持回転機構が、基板の処理時に当該基板の一方表面に当接して当該基板を支持する処理用基板支持部を含む、請求項1ないし6のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記処理用基板支持部に支持された基板の他方表面に向けて、基板を前記処理用基板支持部に押し付けるための流体を供給する流体供給手段をさらに含む、請求項7記載の基板処理装置。
- 所定の基板保持位置に基板を位置決めするための位置決め部材を、基板を保持して回転するための基板保持回転機構に備えられ回転軸線回りに回転するスピンベースに設けるステップと、
この基板保持回転機構に基板を渡すための基板搬送機構に設けた押し付け手段によって、当該基板を前記位置決め部材に向けて押し付けるステップと、
前記基板搬送機構から前記基板保持回転機構に基板を受け渡すステップとを含む、基板搬送方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006089049A JP4890067B2 (ja) | 2006-03-28 | 2006-03-28 | 基板処理装置および基板搬送方法 |
US11/689,194 US8262799B2 (en) | 2006-03-28 | 2007-03-21 | Substrate processing apparatus and substrate transferring method |
KR1020070028081A KR100888107B1 (ko) | 2006-03-28 | 2007-03-22 | 기판처리장치 및 기판반송방법 |
TW096110350A TWI347650B (en) | 2006-03-28 | 2007-03-26 | Substrate processing apparatus and substrate transferring method |
CN2007100914046A CN101047115B (zh) | 2006-03-28 | 2007-03-28 | 基板处理装置以及基板搬送方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006089049A JP4890067B2 (ja) | 2006-03-28 | 2006-03-28 | 基板処理装置および基板搬送方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007266287A JP2007266287A (ja) | 2007-10-11 |
JP4890067B2 true JP4890067B2 (ja) | 2012-03-07 |
Family
ID=38557001
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006089049A Expired - Fee Related JP4890067B2 (ja) | 2006-03-28 | 2006-03-28 | 基板処理装置および基板搬送方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8262799B2 (ja) |
JP (1) | JP4890067B2 (ja) |
KR (1) | KR100888107B1 (ja) |
CN (1) | CN101047115B (ja) |
TW (1) | TWI347650B (ja) |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100914743B1 (ko) * | 2007-09-06 | 2009-08-31 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 상기 장치의 기판 감지 방법 |
JP4922915B2 (ja) * | 2007-12-28 | 2012-04-25 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置および基板の芯合わせ方法 |
JP5352103B2 (ja) * | 2008-03-27 | 2013-11-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置および処理システム |
JP2010087473A (ja) * | 2008-07-31 | 2010-04-15 | Canon Anelva Corp | 基板位置合わせ装置及び基板処理装置 |
JP2012064300A (ja) | 2010-08-18 | 2012-03-29 | Showa Denko Kk | 引き上げ乾燥装置、これを用いた磁気記録媒体用基板又は磁気記録媒体の製造方法 |
US8567837B2 (en) * | 2010-11-24 | 2013-10-29 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Reconfigurable guide pin design for centering wafers having different sizes |
JP5451662B2 (ja) * | 2011-02-15 | 2014-03-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置及び液処理方法 |
JP5926086B2 (ja) * | 2012-03-28 | 2016-05-25 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
TWI636518B (zh) * | 2013-04-23 | 2018-09-21 | 荏原製作所股份有限公司 | 基板處理裝置及處理基板之製造方法 |
JP6229933B2 (ja) | 2013-09-27 | 2017-11-15 | 株式会社Screenホールディングス | 処理カップ洗浄方法、基板処理方法および基板処理装置 |
SG11201607386RA (en) * | 2014-03-25 | 2016-10-28 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | Substrate angle alignment device, substrate angle alignment method, and substrate transfer method |
CN103943546B (zh) * | 2014-04-28 | 2018-08-28 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 一种硅片支撑装置 |
US10128139B2 (en) | 2015-03-27 | 2018-11-13 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate holding method and substrate processing apparatus |
JP6674674B2 (ja) * | 2015-03-27 | 2020-04-01 | 株式会社Screenホールディングス | 基板保持方法および基板処理装置 |
JP6491044B2 (ja) * | 2015-05-29 | 2019-03-27 | Towa株式会社 | 製造装置及び製造方法 |
JP6614610B2 (ja) * | 2016-02-12 | 2019-12-04 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
JP6929652B2 (ja) * | 2016-02-17 | 2021-09-01 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および間隙洗浄方法 |
US10141206B2 (en) | 2016-02-17 | 2018-11-27 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus and gap washing method |
JP6923344B2 (ja) * | 2017-04-13 | 2021-08-18 | 株式会社Screenホールディングス | 周縁処理装置および周縁処理方法 |
CN107146768B (zh) * | 2017-06-16 | 2018-03-23 | 英特尔产品(成都)有限公司 | 用于安放物品的装置和对准装置 |
JP6842391B2 (ja) * | 2017-09-07 | 2021-03-17 | キオクシア株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
JP7116550B2 (ja) * | 2018-02-08 | 2022-08-10 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
TWI711115B (zh) * | 2019-06-26 | 2020-11-21 | 弘塑科技股份有限公司 | 基板傳送設備、半導體製程機台及基板傳送方法 |
JP7439376B2 (ja) | 2020-06-24 | 2024-02-28 | 株式会社東京精密 | ワーク処理システム |
CN111960313A (zh) * | 2020-07-21 | 2020-11-20 | 沈阳芯源微电子设备有限公司 | 基板升降机构 |
CN116274096A (zh) * | 2023-04-28 | 2023-06-23 | 苏州冠礼科技有限公司 | 一种夹持式晶圆清洗装置 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2855046B2 (ja) * | 1993-03-31 | 1999-02-10 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 回転式基板処理装置用の基板回転保持装置 |
JPH0638447B2 (ja) * | 1987-05-29 | 1994-05-18 | テラダイン株式会社 | ウエハ位置決め方法 |
US5608446A (en) * | 1994-03-31 | 1997-03-04 | Lucent Technologies Inc. | Apparatus and method for combining high bandwidth and low bandwidth data transfer |
JPH09232405A (ja) | 1996-02-22 | 1997-09-05 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JPH118287A (ja) * | 1997-06-16 | 1999-01-12 | Jeol Ltd | ウエハー搬送装置 |
JP2002151577A (ja) | 2000-11-15 | 2002-05-24 | Assist Japan Kk | 基板のエッジ保持アライナー |
JP4547524B2 (ja) * | 2000-12-05 | 2010-09-22 | 川崎重工業株式会社 | ワーク処理方法、ワーク処理装置およびロボット |
JP2002264065A (ja) | 2001-03-13 | 2002-09-18 | Yaskawa Electric Corp | ウエハ搬送ロボット |
JP3980941B2 (ja) * | 2002-06-04 | 2007-09-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
US7018555B2 (en) * | 2002-07-26 | 2006-03-28 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate treatment method and substrate treatment apparatus |
JP4262004B2 (ja) * | 2002-08-29 | 2009-05-13 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP4144000B2 (ja) * | 2002-11-11 | 2008-09-03 | 和夫 田▲邉▼ | ウエーハセンタリング装置 |
JP2004253756A (ja) | 2002-12-24 | 2004-09-09 | Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co Ltd | 基板搭載装置、搬送アーム、半導体ウェーハの位置決め方法、基板の検査装置、及び基板の検査方法 |
JP4339615B2 (ja) | 2003-03-04 | 2009-10-07 | 株式会社ダイヘン | ワークピースの保持機構 |
CN100508159C (zh) | 2004-06-14 | 2009-07-01 | 大日本网目版制造株式会社 | 基板处理装置和基板处理方法 |
JP4446875B2 (ja) * | 2004-06-14 | 2010-04-07 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
-
2006
- 2006-03-28 JP JP2006089049A patent/JP4890067B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-03-21 US US11/689,194 patent/US8262799B2/en active Active
- 2007-03-22 KR KR1020070028081A patent/KR100888107B1/ko active IP Right Grant
- 2007-03-26 TW TW096110350A patent/TWI347650B/zh not_active IP Right Cessation
- 2007-03-28 CN CN2007100914046A patent/CN101047115B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101047115A (zh) | 2007-10-03 |
CN101047115B (zh) | 2010-08-18 |
JP2007266287A (ja) | 2007-10-11 |
KR20070097320A (ko) | 2007-10-04 |
TWI347650B (en) | 2011-08-21 |
US20070227444A1 (en) | 2007-10-04 |
US8262799B2 (en) | 2012-09-11 |
KR100888107B1 (ko) | 2009-03-11 |
TW200802684A (en) | 2008-01-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4890067B2 (ja) | 基板処理装置および基板搬送方法 | |
US10964556B2 (en) | Substrate processing apparatus, substrate processing system, and substrate processing method | |
KR101798320B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
KR101725268B1 (ko) | 기판처리장치, 기판처리방법, 기판 파지기구, 및 기판 파지방법 | |
US7641404B2 (en) | Substrate processing apparatus | |
US6669808B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP4446875B2 (ja) | 基板処理装置 | |
CN108630569B (zh) | 基板处理装置 | |
JP4841451B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP4922915B2 (ja) | 基板処理装置および基板の芯合わせ方法 | |
KR20140058391A (ko) | 기판 액처리 장치, 및 기판 액처리 장치의 제어 방법 | |
JP7254163B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
KR20210009888A (ko) | 기판 처리 장치 및 회전 어셈블리 | |
US10331049B2 (en) | Substrate cleaning device and substrate processing apparatus including the same | |
JP6042149B2 (ja) | 基板搬送装置、基板処理装置、および、基板搬送方法 | |
KR102162188B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 방법 | |
JP2006019545A (ja) | 基板処理装置 | |
JP6562508B2 (ja) | 基板保持装置 | |
WO2022226684A1 (en) | Substrate processing apparatus | |
KR20220058146A (ko) | 반송 핸드 및 기판 처리 장치 | |
CN112542399A (zh) | 基板处理方法以及基板处理装置 | |
KR20220016416A (ko) | 처리액을 공급 및 회수하는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
KR102682854B1 (ko) | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 | |
KR102600411B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
US20230405649A1 (en) | Moving assembly for recovery guard and substrate processing apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081225 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100917 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100930 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110414 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110613 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111208 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111214 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4890067 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141222 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |