KR20210009888A - 기판 처리 장치 및 회전 어셈블리 - Google Patents

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KR20210009888A
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Abstract

본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 기판을 처리하는 장치는, 기판을 지지하는 지지판과 상기 지지판을 회전시키는 회전 구동 부재를 포함하는 지지 유닛과; 상기 지지판에 지지된 기판의 하면으로 유체를 공급하는 하부 유체 공급 유닛을 포함하되, 상기 회전 구동 부재는, 상기 지지판과 결합되는 중공축과; 상기 중공축을 회전시키는 구동기를 포함하고, 상기 하부 유체 공급 유닛은, 내부 공간을 가지고, 상기 중공축 내에 제공되는 고정 샤프트와; 상기 유체를 공급하고, 상기 내부 공간에 제공되는 유체 공급관을 포함하고, 상기 고정 샤프트의 외면에는 상기 중공축이 회전시 상기 중공축과 상기 고정 샤프트의 사이 공간에 하강 기류를 발생시키는 기류 발생부가 형성될 수 있다.

Description

기판 처리 장치 및 회전 어셈블리{Substrate processing apparatus and Rotating assembly}
본 발명은 기판 처리 장치 및 회전 어셈블리에 관한 것이다.
반도체 소자를 제조하기 위해서는 사진, 증착, 애싱, 식각, 그리고 이온주입 등과 같은 다양한 공정이 수행된다. 또한 이러한 공정들이 수행되기 전후에는 기판 상에 잔류된 파티클을 세정 처리하는 세정 공정이 수행된다.
세정 공정은 스핀척에 지지된 기판의 양면으로 세정액을 공급하여 이루어진다. 기판의 하면은 기판을 지지하는 스핀척과 기판의 하면 사이로 하부 유체 공급 유닛이 공급하는 처리액에 의해 세정된다.
도 1은 일반적인 기판 처리 장치를 보여주는 도면이다. 일반적인 기판 처리 장치(1000)는 스핀척(1100), 중공축(1200), 중공모터(1300), 고정 샤프트(1400), 유체 공급관(1500)을 포함할 수 있다.
스핀척(1100)에는 척 핀(1110)과 리프트 핀(1120)이 제공된다. 척 핀(1110)은 측 방향으로 이동 가능하며, 기판(W)의 측면을 파지한다. 리프트 핀(1120)은 기판(W)을 상하 방향으로 승강시키고, 기판(W)의 하면을 지지할 수 있다. 기판(W)은 리프트 핀(1120)과 척핀(1110)에 의해 스핀척(1100)에 지지된다.
스핀척(1100)은 중공축(1200)과 결합된다. 중공축(1200)은 내부에 공간을 가지며, 중공 모터(1300)와 연결된다. 중공 모터(1300)는 중공축(1200)을 회전시키고, 중공축(1200)은 스핀척(1100)을 회전시킨다.
중공축(1200)의 내부 공간에는 고정 샤프트(1400)가 제공된다. 고정 샤프트(1400) 내에는 유체 공급관(1500)들이 제공된다. 유체 공급관(1500)은 기판(W)의 하면으로 유체를 공급한다. 또한, 고정 샤프트(1400)는 스핀척(1100)이 회전되는 경우에도 고정된다.
고정 샤프트(1400)와 스핀척(1100)의 사이 공간에는 베어링(1130)이 제공된다. 중공 모터(1300)가 스핀척(1100)을 회전시키면, 베어링(1130)은 스핀척(1130) 및 고정 샤프트(1400)에 의해 마찰된다. 이에, 베어링(1130)이 갈리면서 파티클(P)이 발생된다. 파티클(P)은 위 방향으로 이동되어 기판(W)에 부착될 수 있다. 이는 기판 처리 공정의 불량을 초래할 수 있다. 또한, 파티클(P)이 베어링(1130)의 주위 영역에 잔류되면, 스핀척(1100)의 회전시 파티클(P)은 베어링(1130)과 또 다른 마찰을 일으킬 수 있다. 이는 베어링(1130)의 수명을 단축시킨다.
본 발명은 기판을 효율적으로 처리할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 기판을 처리하는 과정에서 파티클이 기판에 부착되는 것을 최소화 할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 지지 유닛 내에서 발생하는 파티클을 효과적으로 배출할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 바디가 회전되면서 발생하는 파티클을 효과적으로 배출할 수 있는 회전 어셈블리를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 기판을 처리하는 장치는, 기판을 지지하는 지지판과 상기 지지판을 회전시키는 회전 구동 부재를 포함하는 지지 유닛과; 상기 지지판에 지지된 기판의 하면으로 유체를 공급하는 하부 유체 공급 유닛을 포함하되, 상기 회전 구동 부재는, 상기 지지판과 결합되는 중공축과; 상기 중공축을 회전시키는 구동기를 포함하고, 상기 하부 유체 공급 유닛은, 내부 공간을 가지고, 상기 중공축 내에 제공되는 고정 샤프트와; 상기 유체를 공급하고, 상기 내부 공간에 제공되는 유체 공급관을 포함하고, 상기 고정 샤프트의 외면에는 상기 중공축이 회전시 상기 중공축과 상기 고정 샤프트의 사이 공간에 하강 기류를 발생시키는 기류 발생부가 형성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 기류 발생부는 나선 형상을 가질 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 장치는, 상기 회전 구동 부재를 제어하는 제어기를 포함하되, 상기 제어기는, 상기 기류 발생부가 가지는 나선 방향과 동일한 방향으로 상기 중공축을 회전시키도록 상기 회전 구동 부재를 제어할 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 기류 발생부는 상기 고정 샤프트의 외면에 돌기로 형성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 기류 발생부는 상기 고정 샤프트의 외면에 홈으로 형성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 유체 공급관은, 처리액을 토출하는 액 토출관과; 건조 가스를 토출하는 가스 토출관을 포함하고, 상기 액 토출관과 상기 가스 토출관은 상기 내부 공간에 제공될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 중공축과 상기 고정 샤프트는 서로 이격되게 위치될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 지지판과 상기 고정 샤프트 사이의 사이 공간에는 베어링이 제공될 수 있다.
또한, 본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 기판을 처리하는 장치는, 기판을 지지하는 지지판과 상기 지지판을 회전시키는 회전 구동 부재를 포함하는 지지 유닛과; 상기 지지판에 지지된 기판의 하면으로 유체를 공급하는 하부 유체 공급 유닛을 포함하되, 상기 회전 구동 부재는, 상기 지지판과 결합되는 중공축과; 상기 중공축을 회전시키는 구동기를 포함하고, 상기 하부 유체 공급 유닛은, 내부 공간을 가지고, 상기 중공축 내에 제공되는 고정 샤프트와; 상기 유체를 공급하고, 상기 내부 공간에 제공되는 유체 공급관을 포함하고, 상기 중공축의 내면에는 상기 중공축이 회전시 상기 중공축과 상기 고정 샤프트의 사이 공간에 하강 기류를 발생시키는 기류 발생부가 형성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 기류 발생부는 나선 형상을 가질 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 장치는, 상기 회전 구동 부재를 제어하는 제어기를 포함하되, 상기 제어기는, 상기 기류 발생부가 가지는 나선 방향과 동일한 방향으로 상기 중공축을 회전시키도록 상기 회전 구동 부재를 제어할 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 기류 발생부는 상기 중공축의 내면에 돌기로 형성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 기류 발생부는 상기 중공축의 내면에서 홈으로 형성될 수 있다.
또한, 본 발명은 회전 어셈블리를 제공한다. 회전 어셈블리는, 바디와; 상기 바디를 회전시키도록 상기 바디에 결합되는 중공축과; 상기 중공축 내에 제공되고, 상기 중공축과 이격되게 위치되어 상기 중공축이 회전시 그 위치가 고정되는 삽입체를 구비하되, 상기 삽입체의 외면에는 상기 중공축이 회전시 상기 중공축과 상기 삽입체의 사이 공간에 하강 기류를 발생시키는 기류 발생부가 형성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 기류 발생부는 나선 형상을 가질 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 기류 발생부는 상기 삽입체의 외면에 돌기로 형성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 기류 발생부는 상기 삽입체의 외면에 홈으로 형성될 수 있다.
또한, 본 발명은 회전 어셈블리를 제공한다. 회전 어셈블리는, 바디와; 상기 바디를 회전시키도록 상기 바디에 결합되는 중공축과; 상기 중공축 내에 제공되고, 상기 중공축과 이격되게 위치되어 상기 중공축이 회전시 그 위치가 고정되는 삽입체를 구비하되, 상기 중공축의 내면에는 상기 중공축이 회전시 상기 중공축과 상기 삽입체의 사이 공간에 하강 기류를 발생시키는 기류 발생부가 형성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 기류 발생부는 나선 형상을 가질 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 기류 발생부는 상기 중공축의 내면에 돌기로 형성될 수 있다.
일 실시 예에 의하면, 상기 기류 발생부는 상기 중공축의 내면에 홈으로 형성될 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 의하면, 본 발명은 기판을 효율적으로 처리할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 기판을 처리하는 과정에서 파티클이 기판에 부착되는 것을 최소화 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 지지 유닛 내에서 발생하는 파티클을 효과적으로 배출할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 바디가 회전되면서 발생하는 파티클을 효과적으로 배출할 수 있다.
본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 않은 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 일반적인 기판 처리 장치를 보여주는 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 설비를 보여주는 평면도이다.
도 3은 도 2의 기판 처리 장치를 보여주는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 지지 유닛, 하부 유체 공급 유닛, 회전 구동 부재의 일부를 보여주는 단면도이다.
도 5는 도 4의 하부 유체 공급 유닛을 보여주는 도면이다.
도 6은 지지 유닛이 회전 구동 부재에 의해 회전하는 모습을 보여주는 도면이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 하부 유체 공급 유닛을 보여주는 도면이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 회전 구동 부재를 보여주는 도면이다.
도 9는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 회전 구동 부재를 보여주는 도면이다.
도 10은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 지지 유닛을 보여주는 도면이다.
도 11은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 지지 유닛을 보여주는 도면이다.
도 12는 본 발명의 일 실시 예에 따른 회전 어셈블리를 보여주는 도면이다.
도 13은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 회전 어셈블리를 보여주는 도면이다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다. 또한, 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다.
어떤 구성요소를 '포함'한다는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다. 구체적으로, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 또한 도면에서 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.
이하, 도 2 내지 도 13를 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 설비를 보여주는 평면도이다. 도 2를 참조하면, 기판 처리 설비(1)는 인덱스 모듈(10)과 공정 처리 모듈(20)을 가진다. 인덱스 모듈(10)은 로드 포트(120) 및 이송 프레임(140)을 가진다. 로드 포트(120), 이송 프레임(140), 그리고 공정 처리 모듈(20)은 순차적으로 일렬로 배열된다. 이하, 로드 포트(120), 이송 프레임(140), 그리고 공정 처리 모듈(20)이 배열된 방향을 제1방향(12)이라 하고, 상부에서 바라볼 때, 제1방향(12)과 수직한 방향을 제2방향(14)이라 하며, 제1방향(12)과 제2방향(14)을 포함한 평면에 수직인 방향을 제3방향(16)이라 칭한다.
로드 포트(120)에는 기판(W)이 수납된 캐리어(130)가 안착된다. 로드 포트(120)는 복수 개가 제공되며 이들은 제2방향(14)을 따라 일렬로 배치된다. 로드 포트(120)의 개수는 공정 처리 모듈(20)의 공정효율 및 풋 프린트조건 등에 따라 증가하거나 감소할 수도 있다. 캐리어(130)에는 기판들(W)을 지면에 대해 수평하게 배치한 상태로 수납하기 위한 다수의 슬롯(미도시)이 형성된다. 캐리어(130)로는 전면개방일체형포드(Front Opening Unifed Pod;FOUP)가 사용될 수 있다.
공정 처리 모듈(20)은 버퍼 유닛(220), 이송 챔버(240), 그리고 공정 챔버(260)를 가진다. 이송 챔버(240)는 그 길이 방향이 제 1 방향(12)과 평행하게 배치된다. 이송 챔버(240)의 양측에는 각각 공정 챔버(260)들이 배치된다. 이송 챔버(240)의 일측 및 타측에서 공정 챔버(260)들은 이송 챔버(240)를 기준으로 대칭되도록 제공된다. 이송 챔버(240)의 일측에는 복수 개의 공정챔버(260)들이 제공된다. 공정 챔버(260)들 중 일부는 이송 챔버(240)의 길이 방향을 따라 배치된다. 또한, 공정 챔버(260)들 중 일부는 서로 적층되게 배치된다. 즉, 이송 챔버(240)의 일측에는 공정 챔버(260)들이 A X B의 배열로 배치될 수 있다. 여기서 A는 제1방향(12)을 따라 일렬로 제공된 공정 챔버(260)의 수이고, B는 제3방향(16)을 따라 일렬로 제공된 공정 챔버(260)의 수이다. 이송 챔버(240)의 일측에 공정 챔버(260)가 4개 또는 6개 제공되는 경우, 공정 챔버(260)들은 2 X 2 또는 3 X 2의 배열로 배치될 수 있다. 공정 챔버(260)의 개수는 증가하거나 감소할 수도 있다. 상술한 바와 달리, 공정 챔버(260)는 이송 챔버(240)의 일측에만 제공될 수 있다. 또한, 공정 챔버(260)는 이송 챔버(240)의 일측 및 양측에 단층으로 제공될 수 있다.
버퍼 유닛(220)은 이송 프레임(140)과 이송 챔버(240) 사이에 배치된다. 버퍼 유닛(220)은 이송 챔버(240)와 이송 프레임(140) 간에 기판(W)이 반송되기 전에 기판(W)이 머무르는 공간을 제공한다. 버퍼 유닛(220)의 내부에는 기판(W)이 놓이는 슬롯(미도시)이 제공된다. 슬롯(미도시)들은 서로 간에 제3방향(16)을 따라 이격되도록 복수 개가 제공된다. 버퍼 유닛(220)은 이송 프레임(140)과 마주보는 면 및 이송 챔버(240)와 마주보는 면이 개방된다.
이송 프레임(140)은 로드 포트(120)에 안착된 캐리어(130)와 버퍼 유닛(220) 간에 기판(W)을 반송한다. 이송 프레임(140)에는 인덱스 레일(142)과 인덱스 로봇(144)이 제공된다. 인덱스 레일(142)은 그 길이 방향이 제2방향(14)과 나란하게 제공된다. 인덱스 로봇(144)은 인덱스 레일(142) 상에 설치되며, 인덱스 레일(142)을 따라 제2방향(14)으로 직선 이동된다. 인덱스 로봇(144)은 베이스(144a), 몸체(144b), 그리고 인덱스암(144c)을 가진다. 베이스(144a)는 인덱스 레일(142)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(144b)는 베이스(144a)에 결합된다. 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 몸체(144b)에 결합되고, 몸체(144b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 인덱스암(144c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다. 인덱스암(144c)들 중 일부는 공정 처리 모듈(20)에서 캐리어(130)로 기판(W)을 반송할 때 사용되고, 이의 다른 일부는 캐리어(130)에서 공정 처리 모듈(20)로 기판(W)을 반송할 때 사용될 수 있다. 이는 인덱스 로봇(144)이 기판(W)을 반입 및 반출하는 과정에서 공정 처리 전의 기판(W)으로부터 발생된 파티클이 공정 처리 후의 기판(W)에 부착되는 것을 방지할 수 있다.
이송 챔버(240)는 버퍼 유닛(220)과 공정 챔버(260) 간에, 그리고 공정 챔버(260)들 간에 기판(W)을 반송한다. 이송 챔버(240)에는 가이드 레일(242)과 메인 로봇(244)이 제공된다. 가이드 레일(242)은 그 길이 방향이 제1방향(12)과 나란하도록 배치된다. 메인 로봇(244)은 가이드 레일(242) 상에 설치되고, 가이드 레일(242) 상에서 제1방향(12)을 따라 직선 이동된다. 메인 로봇(244)은 베이스(244a), 몸체(244b), 그리고 메인암(244c)을 가진다. 베이스(244a)는 가이드 레일(242)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(244b)는 베이스(244a)에 결합된다. 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 메인암(244c)은 몸체(244b)에 결합되고, 이는 몸체(244b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 메인암(244c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 메인암(244c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다.
공정 챔버(260)에는 기판(W)에 대해 액 처리하는 공정을 수행하는 기판 처리 장치(300)가 제공된다. 기판 처리 장치(300)는 수행하는 세정 공정의 종류에 따라 상이한 구조를 가질 수 있다. 이와 달리 각각의 공정 챔버(260) 내의 기판 처리 장치(300)는 동일한 구조를 가질 수 있다. 선택적으로 공정 챔버(260)들은 복수 개의 그룹으로 구분되어, 동일한 그룹에 속하는 공정 챔버(260) 내에 기판 처리 장치(300)들은 서로 동일하고, 서로 상이한 그룹에 속하는 공정 챔버(260) 내에 제공된 기판 처리 장치(300)의 구조는 서로 상이하게 제공될 수 있다.
기판 처리 장치(300)는 기판(W)을 액 처리한다. 본 실시예에는 기판의 액 처리 공정을 세정 공정으로 설명한다. 이러한 액 처리 공정은 세정 공정에 한정되지 않으며, 사진, 애싱, 그리고 식각 등 다양하게 적용 가능하다.
도 3은 도 2의 기판 처리 장치를 보여주는 단면도이다. 도 3을 참조하면, 기판 처리 장치(300)는 처리 용기(320), 지지 유닛(340), 승강 유닛(360), 상부 유체 공급 유닛(380), 하부 유체 공급 유닛(400), 베어링(500) 그리고 제어기(550)를 포함한다.
처리 용기(320)는 내부에 기판이 처리되는 처리 공간을 제공한다. 처리 용기(320)는 상부가 개방된 통 형상을 가진다. 처리 용기(320)는 내부 회수통(322) 및 외부 회수통(326)을 가진다. 각각의 회수통(322,326)은 공정에 사용된 처리액들 중 서로 상이한 처리액을 회수한다. 내부 회수통(322)은 기판 지지 유닛(340)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되고, 외부 회수통(326)은 내부 회수통(326)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 내부 회수통(322)의 내측공간(322a) 및 내부 회수통(322)은 내부 회수통(322)으로 처리액이 유입되는 제1유입구(322a)로서 기능한다. 내부 회수통(322)과 외부 회수통(326)의 사이공간(326a)은 외부 회수통(326)으로 처리액이 유입되는 제2유입구(326a)로서 기능한다. 일 예에 의하면, 각각의 유입구(322a,326a)는 서로 상이한 높이에 위치될 수 있다. 각각의 회수통(322,326)의 저면 아래에는 회수 라인(322b,326b)이 연결된다. 각각의 회수통(322,326)에 유입된 처리액들은 회수 라인(322b,326b)을 통해 외부의 처리액 재생 시스템(미도시)으로 제공되어 재사용될 수 있다.
지지 유닛(340)은 처리 공간에서 기판(W)을 지지한다. 지지 유닛(340)은 공정 진행 중 기판(W)을 지지 및 회전시킨다. 지지 유닛(340)은 지지판(342), 지지핀(344), 척핀(346), 그리고 회전 구동 부재(350)를 가진다. 지지판(342)은 대체로 원형의 판 형상으로 제공되며, 상면 및 저면을 가진다. 하부면은 상부면에 비해 작은 직경을 가진다. 상면 및 저면은 그 중심축이 서로 일치하도록 위치된다. 지지판(342)에는 지지핀(344), 그리고 척핀(346)이 제공될 수 있다. 지지핀(344), 그리고 척핀(346)은 각각 기판(W)의 측부와 후면을 지지할 수 있다. 이에, 지지판(342)은 기판(W)을 지지할 수 있다.
지지핀(344)은 복수 개 제공된다. 지지핀(344)은 지지판(342)의 상면의 가장자리부에 소정 간격으로 이격되게 배치되고 지지판(342)에서 상부로 돌출된다. 지지 핀(344)들은 서로 간에 조합에 의해 전체적으로 환형의 링 형상을 가지도록 배치된다. 지지핀(344)은 지지판(342)의 상부면으로부터 기판(W)이 일정거리 이격되도록 기판(W)의 후면 가장자리를 지지한다.
척핀(346)은 복수 개 제공된다. 척핀(346)은 지지판(342)의 중심에서 지지핀(344)보다 멀리 떨어지게 배치된다. 척핀(346)은 지지판(342)의 상면으로부터 위로 돌출되도록 제공된다. 척핀(346)은 지지판(342)이 회전될 때 기판(W)이 정 위치에서 측 방향으로 이탈되지 않도록 기판(W)의 측부를 지지한다. 척핀(346)은 지지판(342)의 반경 방향을 따라 외측 위치와 내측 위치 간에 직선 이동이 가능하도록 제공된다. 외측 위치는 내측 위치에 비해 지지판(342)의 중심으로부터 멀리 떨어진 위치이다. 기판(W)이 지지판(342)에 로딩 또는 언로딩 시 척핀(346)은 외측 위치에 위치되고, 기판(W)에 대해 공정 수행 시 척 핀(346)은 내측 위치에 위치된다. 내측 위치는 척핀(346)과 기판(W)의 측부가 서로 접촉되는 위치이고, 외측 위치는 척핀(346)과 기판(W)이 서로 이격되는 위치이다.
회전 구동 부재(350)는 지지판(342)을 회전시킨다. 지지판(342)은 회전 구동 부재(350)에 의해 자기 중심축을 중심으로 회전 가능하다. 회전 구동 부재(350)는 중공축(352) 및 구동기(354)를 포함한다. 중공축(352)은 제3방향(16)을 향하는 통 형상을 가진다. 중공축(352)의 상단은 지지판(342)의 저면에 고정 결합된다. 구동기(354)는 지지축(348)이 회전되도록 구동력을 제공한다. 구동기(354)는 모터일 수 있다. 구동기(354)는 중심이 상하 "?향으?* 개방된 중공 모터일 수 있다. 중공축(352)은 구동기(354)에 의해 회전되고, 지지판(342)은 중공축(352)과 함께 회전 가능하다.
승강 유닛(360)은 처리 용기(320)를 상하 방향으로 직선 이동시킨다. 처리 용기(320)가 상하로 이동됨에 따라 지지판(342)에 대한 처리 용기(320)의 상대 높이가 변경된다. 승강 유닛(360)은 기판(W)이 지지판(342)에 로딩되거나, 언로딩될 때 지지판(342)이 처리 용기(320)의 상부로 돌출되도록 처리 용기(320)는 하강된다. 또한, 공정이 진행될 시에는 기판(W)에 공급된 처리액의 종류에 따라 처리액이 기설정된 회수통(322,326)으로 유입될 수 있도록 처리 용기(320)의 높이가 조절한다. 승강 유닛(360)은 브라켓(362), 이동축(364), 그리고 구동기(366)를 가진다. 브라켓(362)은 처리 용기(320)의 외벽에 고정설치되고, 브라켓(362)에는 구동기(366)에 의해 상하 방향으로 이동되는 이동축(364)이 고정결합된다. 선택적으로, 승강 유닛(360)은 지지판(342)을 상하 방향으로 이동시킬 수 있다.
상부 유체 공급 유닛(380)은 기판(W)의 상면으로 처리액을 공급한다. 기판의 상면은 패턴이 형성된 패턴면일 수 있다. 상면 액 공급 유닛(380)은 복수 개로 제공되며, 각각은 서로 상이한 종류의 처리액들을 공급할 수 있다. 상면 액 공급 유닛(380)은 이동 부재(381) 및 노즐(389)을 포함한다.
이동 부재(381)는 노즐(390)을 공정 위치 및 대기 위치로 이동시킨다. 여기서 공정 위치는 노즐(390)이 기판 지지 유닛(340)에 지지된 기판(W)과 대향되는 위치이고, 대기 위치는 노즐(389)이 공정 위치를 벗어난 위치로 정의한다. 일 예에 의하면, 공정 위치는 전처리 위치 및 후처리 위치를 포함한다. 전처리 위치는 노즐(389)이 제1공급 위치에 처리액을 공급하는 위치이고, 후처리 위치는 노즐(389)이 제2공급 위치에 처리액을 공급하는 위치로 제공된다. 제1공급 위치는 제2공급 위치보다 기판(W)의 중심에 더 가까운 위치이고, 제2공급 위치는 기판의 단부를 포함하는 위치일 수 있다. 선택적으로 제2공급 위치는 기판의 단부에 인접한 영역일 수 있다.
이동 부재(381)는 지지축(386), 아암(382), 그리고 구동 부재(388)를 포함한다. 지지축(386)은 처리 용기(320)의 일측에 위치된다. 지지축(386)은 그 길이 방향이 제3방향을 향하는 로드 형상을 가진다. 지지축(386)은 구동 부재(388)에 의해 회전 가능하도록 제공된다. 지지축(386)은 승강 이동이 가능하도록 제공된다. 아암(382)은 지지축(386)의 상단에 결합된다. 아암(382)은 지지축(386)으로부터 수직하게 연장된다. 아암(382)의 끝단에는 노즐(389)이 고정 결합된다. 지지축(386)이 회전됨에 따라 노즐(389)은 아암(382)과 함께 스윙 이동 가능하다. 노즐(390)은 스윙 이동되어 공정 위치 및 대기 위치로 이동될 수 있다. 선택적으로 아암(382)은 그 길이방향을 향해 전진 및 후진 이동이 가능하도록 제공될 수 있다. 상부에서 바라볼 때 노즐(389)이 이동되는 경로는 공정 위치에서 기판(W)의 중심축과 일치될 수 있다. 예컨대, 처리액은 케미칼, 린스액, 그리고 유기 용제일 수 있다. 케미칼은 산 또는 염기 성질을 가지는 액일 수 있다. 케미칼은 황산(H2SO4), 인산(P2O5), 불산(HF) 그리고 수산화 암모늄(NH4OH)을 포함할 수 있다. 린스액은 순수(H20)일 수 있다. 유기용제는 이소프로필알코올(IPA) 액일 수 있다.
하부 유체 공급 유닛(400)은 기판(W)의 하면을 세정 및 건조 처리할 수 있다. 하부 유체 공급 유닛(400)은 기판(W)의 하면으로 유체를 공급할 수 있다. 기판(W)의 하면은 패턴이 형성되는 면과 반대되는 비패턴면일 수 있다. 하부 유체 공급 유닛(400)은 상부 유체 공급 유닛(380)과 동시에 액을 공급할 수 있다. 하부 유체 공급 유닛(400)은 회전되지 않게 고정될 수 있다.
도 4는 본 발명의 지지 유닛, 하부 유체 공급 유닛, 회전 구동 부재의 일부를 보여주는 단면도이고, 도 5는 도 4의 하부 유체 공급 유닛을 보여주는 도면이다. 도 4와 도 5를 참조하면, 하부 유체 공급 유닛(400)은 커버(410), 고정 샤프트(430), 그리고 유체 공급관(450)을 포함할 수 있다.
커버(410)는 고정 샤프트(430)의 상단에 제공될 수 있다. 커버(410)에는 복수의 홀이 형성될 수 있다. 커버(410)에 형성된 복수의 홀에는 후술하는 유체 공급관(450)들이 삽입될 수 있다. 커버(410)는 유체 공급관(450)들의 위치가 변경되는 것을 방지할 수 있다. 커버(410)는 고정 샤프트(430)에 탈착 가능하게 제공될 수 있다.
고정 샤프트(430)는 내부 공간(431)을 가질 수 있다. 고정 샤프트(430)는 중공축(352) 내에 제공될 수 있다. 고정 샤프트(430)는 중공축(352)과 서로 이격되게 위치될 수 있다. 고정 샤프트(430)는 중공축(352)의 내면으로부터 일정 거리 이격되게 위치될 수 있다. 또한, 고정 샤프트(430)는 지지판(342)에 형성된 홀에 삽입될 수 있다. 고정 샤프트(430)는 상부에서 바라볼 때 지지판(342)의 중앙 영역에 형성된 홀에 삽입될 수 있다. 고정 샤프트(430)가 가지는 내부 공간(431)에는 유체 공급관(450)이 제공될 수 있다. 고정 샤프트(430)가 가지는 내부 공간(431)에는 복수의 유체 공급관(450)들이 제공될 수 있다.
고정 샤프트(430)의 외면에는 기류 발생부(432)가 형성될 수 있다. 기류 발생부(432)는 중공축(352) 및 지지판(342)이 회전시 하강 기류를 발생시킬 수 있다. 기류 발생부(432)는 중공축(352) 및 지지판(342)이 회전시 중공축(352)과 고정 샤프트(430)의 사이 공간(S)에서 하강 기류를 발생시킬 수 있다. 기류 발생부(432)는 지지판(342)과 고정 샤프트(430)의 사이 공간(S)에서 하강 기류를 발생시킬 수 있다. 기류 발생부(432)는 고정 샤프트(430)의 길이 방향을 따라 고정 샤프트(430)의 외면에 형성될 수 있다. 기류 발생부(432)는 나선 형상을 가질 수 있다. 기류 발생부(432)는 고정 샤프트의 중심축에서 기류 발생부(432)의 외면을 향하는 방향으로 돌출되어 형성될 수 있다. 기류 발생부(432)는 고정 샤프트(430)의 외면에 돌기로 형성될 수 있다.
유체 공급관(450)은 기판(W)의 하면으로 유체를 공급할 수 있다. 유체 공급관(450)은 지지판(342)에 지지된 기판(W)의 하면으로 유체를 공급할 수 있다. 유체 공급관(450)은 액 토출관(452), 그리고 가스 토출관(454)을 포함할 수 있다. 액 토출관(452)과 가스 토출관(454)은 고정 샤프트(430)의 내부 공간(431)에 제공될 수 있다.
액 토출관(452)은 기판(W)의 하면으로 처리액을 토출한다. 액 토출관(452)으로부터 토출된 처리액은 기판(W)의 하면을 세정 처리한다. 액 토출관(452)은 위를 향하는 액 토출단을 가진다. 예컨대, 액 토출단은 수직 위를 향하도록 제공될 수 있다. 액 토출관(452)은 복수 개로 제공되며, 각각은 서로 상이한 종류의 액을 토출할 수 있다. 액 토출관(452)들은 커버(410)에 고정될 수 있다. 액 토출관(452)들은 커버(410)의 중심으로부터 이격되게 위치된다. 액 토출관(452)들은 커버(410)의 중심을 감싸도록 배열된다. 액 토출관(452)들로부터 토출되는 처리액은 케미칼 및 린스액을 포함할 수 있다. 케미칼은 산 또는 염기 성질을 가지는 액일 수 있다. 케미칼은 황산(H2SO4), 인산(P2O5), 불산(HF) 그리고 수산화 암모늄(NH4OH)을 포함할 수 있다. 린스액은 순수(H20)일 수 있다. 선택적으로 액 토출단은 위로 갈수록 기판(W)의 중심으로부터 멀어지게 상향 경사진 방향을 향하도록 제공될 수 있다.
가스 토출관(454)은 건조 가스를 토출한다. 가스 토출관(454)은 커버(410)에 고정될 수 있다. 가스 토출관(454)은 커버(410)의 중심축 상에 위치된다. 가스 토출관(454)은 상부 토출단을 포함한다. 상부 토출단은 수직 위를 향하도록 제공될 수 있다. 가스 토출관(454)으로부터 토출되는 가스는 기판(W)의 하면으로 공급된다. 가스 토출관(454)으로부터 토출된 가스는 기판(W)의 하면을 건조 처리한다. 예컨대, 건조 가스는 비활성 가스 또는 에어일 수 있다. 비활성 가스는 질소 가스(N2)일 수 있다.
베어링(500)은 지지판(342)과 고정 샤프트(430)의 사이 공간(S)에 제공될 수 있다. 베어링(500)은 지지판(342)이 회전시 고정 샤프트(430)와 지지판(342)이 서로 마찰되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 베어링(500)은 고정 샤프트(430)에 결합될 수 있다. 또한, 베어링(500)은 고정 샤프트(430)에 형성된 기류 발생부(432)보다 상부에 제공될 수 있다.
제어기(550)는 기판 처리 설비(1)를 제어할 수 있다. 제어기(550)는 기판 처리 장치(300)를 제어할 수 있다. 제어기(550)는 회전 구동 부재(350)를 제어할 수 있다. 제어기(550)는 구동기(354)를 제어할 수 있다. 제어기(550)는 구동기(354)를 제어하여 지지 유닛(340)의 회전 방향을 제어할 수 있다. 제어기(550)는 기류 발생부(432)가 가지는 나선 방향과 동일한 방향으로 중공축(352)을 회전시키도록 회전 구동 부재(350)를 제어할 수 있다.
도 6은 지지 유닛이 회전 구동 부재에 의해 회전하는 모습을 보여주는 도면이다. 도 6을 참조하면, 지지판(342)은 중공축(352)과 결합된다. 이에, 중공축(352)이 회전하면 지지판(342)도 마찬가지로 회전하게 된다. 이때, 고정 샤프트(430)는 회전하지 않고 고정된다. 지지판(342)과 중공축(352)이 회전하면 지지판(342)과 고정 샤프트(430) 사이의 사이 공간(S)에 제공되는 베어링(500)은 마찰된다. 이에, 베어링(500)은 파티클(Particle, P) 등의 불순물을 발생시킨다. 본 발명의 일 실시 예에 의하면 지지판(342), 그리고 중공축(352)이 회전하게 되면 지지판(342)과 고정 샤프트(430)의 사이 공간(S), 그리고 중공축(352)과 고정 샤프트(430)의 사이 공간(S)에는 하강 기류(C)가 발생할 수 있다. 구체적으로, 고정 샤프트(430)의 외면에 돌기로 형성된 기류 발생부(432)는 나선 형상으로 제공될 수 있다. 지지판(342)과 중공축(352)이 회전하게 되면, 사이 공간(S)에는 기류가 발생한다. 사이 공간(S)에 발생된 기류는 나선 형상의 기류 발생부(432)를 따라 아래 방향으로 흐르게 된다. 즉, 지지판(342)과 중공축(352)이 회전시 사이 공간(S)에는 하강 기류(C)가 발생한다. 사이 공간(S)에 발생된 하강 기류(C)는 베어링(500)이 발생시킨 파티클(P)과 함께 아래 방향으로 흐르게 된다.
일반적인 기판 처리 장치에서 스핀척이 회전하게 되면 스핀척과 고정 샤프트 사이에 제공되는 베어링이 마찰되고, 이에 파티클이 발생한다. 발생된 파티클은 기판(W)으로 유입되어 기판 처리 공정의 불량을 초래할 수 있다. 또한, 파티클이 고정 샤프트와 스핀척의 사이 공간에 잔류하게 되면, 파티클이 베어링과 추가로 마찰하게 되어 베어링의 수명을 단축하게 된다. 그러나, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 지지판(342) 및 중공축(352)이 회전시 고정 샤프트(430)와 지지판(342), 그리고 고정 샤프트(430)와 중공축(352)의 사이 공간(S)에는 하강 기류(C)가 발생된다. 이에 사이 공간(S)에서 발생된 파티클(P)을 효과적으로 배출할 수 있고, 파티클(P)에 의해 기판(W) 처리 공정의 불량을 초래하거나 베어링(500)의 수명이 단축되는 등의 문제를 최소화 할 수 있다.
상술한 예에서는, 고정 샤프트(430)의 외면에 형성되는 기류 발생부(432)가 돌기로 형성되는 것을 예로 들어 설명하였으나 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 고정 샤프트(430)의 외면에 형성되는 기류 발생부(432)는 도 7에 도시된 바와 같이 홈으로 형성될 수 있다. 홈으로 형성되는 기류 발생부(432)는 고정 샤프트(430)의 외면으로부터 고정 샤프트(430)의 중심을 향하는 방향으로 만입되어 형성될 수 있다.
상술한 예에서는 기류 발생부(432)가 고정 샤프트(430)의 외면에 형성되는 것을 예로 들어 설명하였으나 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 도 8에 도시된 바와 같이, 중공축(352)의 내면에는 중공축(352)이 회전시 중공축(352)과 고정 샤프트(430)의 사이 공간(S)에 하강 기류를 발생시키는 기류 발생부(353)가 형성될 수 있다. 이때, 기류 발생부(353)는 중공축(352)의 길이 방향을 따라 형성될 수 있다. 또한, 기류 발생부(353)는 나선 형상을 가질 수 있다. 또한, 기류 발생부(353)는 중공축(352)의 내면에 돌기로 형성될 수 있다. 또한, 기류 발생부(353)는 도 9에 도시된 바와 같이 중공축(352)의 내면에서 홈으로 형성될 수도 있다. 도 8과 도 9에 도시된 회전 구동 부재(350)의 구성으로 도출되는 기능 및 효과는 상술한 내용과 동일 또는 유사하므로 자세한 설명은 생략한다.
상술한 예에서는 기류 발생부(432, 353)가 고정 샤프트(430) 및/또는 중공축(352)에 형성되는 것을 예로 들어 설명하였으나 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 도 10과 도 11에 도시된 바와 같이 지지판(342)에도 기류 발생부(343)가 형성될 수 있다. 지지판(342)에 형성되는 기류 발생부(343)도 마찬가지로 홈 또는 돌기로 형성될 수 있다.
상술한 예에서는 기류 발생부(432, 353)가 고정 샤프트(430), 중공축(352)에 형성되는 것을 예로 들어 설명하였으나 이에 한정되는 것은 아니다. 기류 발생부는 중공 모터로 제공되는 구동기(354)의 내면에 형성될 수도 있다.
상술한 예에서는 고정 샤프트(430), 중공축(352), 지지판(342) 등에 기류 발생부(432, 353, 343)가 형성되며, 고정 샤프트(430), 중공축(352), 그리고 지지판(342)은 기판 처리 장치(300)에 제공되는 것을 예로 들어 설명하였으나 이에 한정되는 것은 아니다. 상술한 기술 사상은 기판을 처리하는 장치 뿐 아니라 바디를 회전시키는 다양한 회전 어셈블리에도 마찬가지로 적용될 수 있다. 예컨대, 도 12에 도시된 바와 같이 회전 어셈블리(600)는 바디(610), 중공축(620), 삽입체(630), 그리고 베어링(650)을 포함할 수 있다. 바디(610)에는 홀이 형성될 수 있다. 바디(610)에 형성된 홀에는 삽입체(630)가 삽입될 수 있다. 또한, 바디(610)에는 중공축(620)이 결합될 수 있다. 중공축(620)은 구동기(미도시)에 의해 회전될 수 있다. 이에, 중공축(620)과 결합된 바디(610)는 회전될 수 있다. 또한, 베어링(650)은 바디(610)와 삽입체(630)의 사이 공간에 제공될 수 있다.
또한, 삽입체(630)는 중공축(620) 내에 제공될 수 있다. 삽입체(630)는 중공축(620)과 이격되게 위치될 수 있다. 또한, 삽입체(630)는 중공축(620)이 회전시 그 위치가 고정될 수 있다. 삽입체(630)의 외면에는 중공축(620)이 회전시 중공축(620)과 삽입체(630)의 사이 공간에 하강 기류를 발생시키는 기류 발생부(632)가 형성될 수 있다. 기류 발생부(632)는 삽입체(630)의 길이 방향을 따라 형성될 수 있다. 기류 발생부(632)는 나선 형상을 가질 수 있다. 기류 발생부(632)는 삽입체(630)의 외면에 돌기로 형성될 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니고, 기류 발생부(632)는 삽입체(630)의 외면에 홈으로 형성될 수도 있다. 이에, 중공축(620)이 회전시 발생하는 기류는 나선 형상의 기류 발생부(632)를 따라 아래 방향으로 흐를 수 있다. 이에, 베어링(650)이 마찰되면서 발생하는 파티클은 하강 기류와 함께 외부로 배출될 수 있다.
상술한 예에서는, 삽입체(630)의 외면에 기류 발생부(632)가 형성되는 것을 예로 들어 설명하였으나 이에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 도 13에 도시된 바와 같이 중공축(620)의 내면에 기류 발생부(622)가 형성될 수 있다. 또한, 기류 발생부(622)는 중공축(620)의 내면에 돌기로 형성될 수 있다. 그러나 이에 한정되는 것은 아니고, 기류 발생부(622)는 중공축(620)의 내면에 홈으로 형성될 수 있다. 기류 발생부(622)가 중공축(620)의 내면에 형성되면서 도출되는 기능 및 효과는 상술한 내용과 동일 또는 유사하므로 자세한 설명은 생략한다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
지지 유닛 : 340
회전 구동 부재 : 350
중공축 : 352
구동기 : 354
하부 유체 공급 유닛 : 400
커버 : 410
고정 샤프트 : 430
내부 공간 : 431
기류 발생부 : 432
유체 공급관 : 450
액 토출관 : 452
가스 토출관 :454
사이 공간 : S
하강기류 : C
베어링 : 500
제어기 : 550
회전 어셈블리 : 600
바디 : 610
중공축 : 620
삽입체 : 630
기류 발생부 : 632
베어링 : 650

Claims (21)

  1. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    기판을 지지하는 지지판과 상기 지지판을 회전시키는 회전 구동 부재를 포함하는 지지 유닛과;
    상기 지지판에 지지된 기판의 하면으로 유체를 공급하는 하부 유체 공급 유닛을 포함하되,
    상기 회전 구동 부재는,
    상기 지지판과 결합되는 중공축과;
    상기 중공축을 회전시키는 구동기를 포함하고,
    상기 하부 유체 공급 유닛은,
    내부 공간을 가지고, 상기 중공축 내에 제공되는 고정 샤프트와;
    상기 유체를 공급하고, 상기 내부 공간에 제공되는 유체 공급관을 포함하고,
    상기 고정 샤프트의 외면에는 상기 중공축이 회전시 상기 중공축과 상기 고정 샤프트의 사이 공간에 하강 기류를 발생시키는 기류 발생부가 형성되는 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 기류 발생부는 나선 형상을 가지는 기판 처리 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 장치는,
    상기 회전 구동 부재를 제어하는 제어기를 포함하되,
    상기 제어기는,
    상기 기류 발생부가 가지는 나선 방향과 동일한 방향으로 상기 중공축을 회전시키도록 상기 회전 구동 부재를 제어하는 기판 처리 장치.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기류 발생부는 상기 고정 샤프트의 외면에 돌기로 형성되는 기판 처리 장치.
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기류 발생부는 상기 고정 샤프트의 외면에 홈으로 형성되는 기판 처리 장치.
  6. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유체 공급관은,
    처리액을 토출하는 액 토출관과;
    건조 가스를 토출하는 가스 토출관을 포함하고,
    상기 액 토출관과 상기 가스 토출관은 상기 내부 공간에 제공되는 기판 처리 장치.
  7. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 중공축과 상기 고정 샤프트는 서로 이격되게 위치되는 기판 처리 장치.
  8. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 지지판과 상기 고정 샤프트 사이의 사이 공간에는 베어링이 제공되는 기판 처리 장치.
  9. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    기판을 지지하는 지지판과 상기 지지판을 회전시키는 회전 구동 부재를 포함하는 지지 유닛과;
    상기 지지판에 지지된 기판의 하면으로 유체를 공급하는 하부 유체 공급 유닛을 포함하되,
    상기 회전 구동 부재는,
    상기 지지판과 결합되는 중공축과;
    상기 중공축을 회전시키는 구동기를 포함하고,
    상기 하부 유체 공급 유닛은,
    내부 공간을 가지고, 상기 중공축 내에 제공되는 고정 샤프트와;
    상기 유체를 공급하고, 상기 내부 공간에 제공되는 유체 공급관을 포함하고,
    상기 중공축의 내면에는 상기 중공축이 회전시 상기 중공축과 상기 고정 샤프트의 사이 공간에 하강 기류를 발생시키는 기류 발생부가 형성되는 기판 처리 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 기류 발생부는 나선 형상을 가지는 기판 처리 장치.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 장치는,
    상기 회전 구동 부재를 제어하는 제어기를 포함하되,
    상기 제어기는,
    상기 기류 발생부가 가지는 나선 방향과 동일한 방향으로 상기 중공축을 회전시키도록 상기 회전 구동 부재를 제어하는 기판 처리 장치.
  12. 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기류 발생부는 상기 중공축의 내면에 돌기로 형성되는 기판 처리 장치.
  13. 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기류 발생부는 상기 중공축의 내면에서 홈으로 형성되는 기판 처리 장치.
  14. 바디와;
    상기 바디를 회전시키도록 상기 바디에 결합되는 중공축과;
    상기 중공축 내에 제공되고, 상기 중공축과 이격되게 위치되어 상기 중공축이 회전시 그 위치가 고정되는 삽입체를 구비하되,
    상기 삽입체의 외면에는 상기 중공축이 회전시 상기 중공축과 상기 삽입체의 사이 공간에 하강 기류를 발생시키는 기류 발생부가 형성되는 회전 어셈블리.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 기류 발생부는 나선 형상을 가지는 회전 어셈블리.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 기류 발생부는 상기 삽입체의 외면에 돌기로 형성되는 회전 어셈블리.
  17. 제15항에 있어서,
    상기 기류 발생부는 상기 삽입체의 외면에 홈으로 형성되는 회전 어셈블리.
  18. 바디와;
    상기 바디를 회전시키도록 상기 바디에 결합되는 중공축과;
    상기 중공축 내에 제공되고, 상기 중공축과 이격되게 위치되어 상기 중공축이 회전시 그 위치가 고정되는 삽입체를 구비하되,
    상기 중공축의 내면에는 상기 중공축이 회전시 상기 중공축과 상기 삽입체의 사이 공간에 하강 기류를 발생시키는 기류 발생부가 형성되는 회전 어셈블리.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 기류 발생부는 나선 형상을 가지는 회전 어셈블리.
  20. 제19항에 있어서,
    상기 기류 발생부는 상기 중공축의 내면에 돌기로 형성되는 회전 어셈블리.
  21. 제19항에 있어서,
    상기 기류 발생부는 상기 중공축의 내면에 홈으로 형성되는 회전 어셈블리.
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