JP4884411B2 - 感光性ペースト組成物、これを用いたプラズマディスプレイ用バリアリブ及びこれを備えるプラズマディスプレイパネル - Google Patents
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Description
<実施例1>
バインダー1(ポリ(メチルメタクリレート−co−ブチルメタクリレート−co−メチルメタクリル酸)共重合体、分子量12,000g/mol、酸価150mgKOH/g)60質量%、バインダー2(ヒドロキシプロピルセルロース、平均分子量(Mw)=80,000g/mol)2質量%、光開始剤1(2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン)1.5質量%、光開始剤2(2,4−ジエチルチオキサントン)0.5質量%、架橋剤1(メトキシジエチレングリコールアクリレート)25質量%、架橋剤2(トリメチロールプロパントリアクリレート)10質量%、保存安定剤(マロン酸)1質量%の組成を有する有機成分に溶解及び粘度調節のために、前記有機成分100質量部に対して20質量部の溶剤(テキサノール)を有する感光性ペースト組成物の有機成分を、前述した方法によって製造した。
前記実施例1で製造された有機成分(溶剤除外)40体積%、低融点ガラス粉末(SiO2−B2O3−Al2O3−F系、無定形、D50=3.4μm、屈折率=1.47)50.0体積%、高融点ガラス粉末(SiO2−Al2O3−BaO系、無定形、D50=2.3μm、屈折率=1.46)10.0体積%(無機成分の平均屈折率=1.47)で構成された感光性ペースト組成物を、前述した方法によって製造した。
バインダー(ポリ(2,4,6−トリブロモフェニルメタクリレート−co−ブチルメタクリレート−co−メチルメタクリル酸)共重合体、分子量8,000g/mol、酸価150mgKOH/g)62質量%、光開始剤1(2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン)1.5質量%、光開始剤2(2,4−ジエチルチオキサントン)0.5質量%、架橋剤(ビスフェノールA変性エポキシジアクリレート)35質量%、保存安定剤(マロン酸)1質量%の組成を有する有機成分に溶解及び粘度調節のために前記有機成分100質量部に対して20質量部の溶剤(テキサノール)を有する感光性ペースト組成物の有機成分を、前述した方法によって製造した。
まず、前記実施例1、実施例2及び比較例1で製造した感光性ペースト組成物のそれぞれを、6インチガラス基板上にコータを利用して塗布した後、ドライオーブンに入れて100℃で30分間乾燥させた。次いで、ストライプ(線間幅=50μm、ピッチ=200μm)パターンを有するフォトマスクが装着された高圧水銀ランプ紫外線露光装置を利用して300ないし700mJ/cm2で照射した。照射されたガラス基板は、30℃で0.4%の炭酸ナトリウム水溶液をノズル圧力1.5kgf/cm2で120秒間噴射して現像した後、常温の純水をノズル圧力1.0kgf/cm2で30秒間噴射して洗浄した。次いで、エアナイフを利用して乾燥させた後、電気焼成炉に入れて560℃で20分間焼成してバリアリブを形成した。次いで、光学顕微鏡を利用して形成されたバリアリブの厚さおよび幅を評価した。
111 前面基板、
111a 前面基板の背面、
112 Y電極、
112a、113a バス電極、
112b、113b 透明電極、
113 X電極、
114 維持電極対、
115 前方誘電体層、
116 保護膜、
120 後方パネル、
121 背面基板、
121a 背面基板の前面、
122 アドレス電極、
123 後方誘電体層、
124 バリアリブ、
125 蛍光体層、
126 発光セル。
Claims (29)
- 有機成分及び無機成分を含む感光性ペースト組成物において、前記有機成分は、溶剤を含んでいてもよく、前記有機成分(溶剤除外)及び無機成分の平均屈折率がそれぞれ1.5以下であり、
前記有機成分は、バインダー、架橋剤及び光開始剤を含み、前記無機成分は、低融点ガラス粉末及び高融点ガラス粉末を含み、
前記低融点ガラス粉末の軟化温度T s1 は、下記数式1を満足し、
前記高融点ガラス粉末の軟化温度T S2 は、下記数式2を満足し、
- 前記バインダー及び前記架橋剤は、芳香族基を含まず、その屈折率は、それぞれ1.5未満であることを特徴とする請求項1に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記バインダーは、アクリル系樹脂を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記アクリル系樹脂は、カルボキシル基を有するモノマーとエチレン性不飽和基を有するモノマーとの共重合反応によって製造された共重合体であって、
前記カルボキシル基を有するモノマーは、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン酸、およびビニル酢酸からなる群から選択される1以上であり、
前記エチレン性不飽和基を有するモノマーは、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、sec−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、tert−ブチルアクリレート、n−ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールアクリレート、シクロへキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、2−エチルへキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、イソボルニルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、ステアリルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート及びアミノエチルアクリレートからなる群から選択されるモノアクリレート、及び前記モノアクリレート分子内のアクリレートをメタクリレートに置換したものからなる群から選択される1以上であることを特徴とする請求項3に記載の感光性ペースト組成物。 - 前記バインダーは、前記共重合体のカルボキシル基と、エチレン性不飽和基を有する化合物とを反応させることによって形成される架橋性基を有する化合物を含み、
前記エチレン性不飽和基を有する化合物は、アクリロイルクロライド、メタクリロイルクロライド、アリルクロライド、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、3,4−エポキシシクロへキシルメチルアクリレート、および3,4−エポキシシクロへキシルメチルメタクリレートからなる群から選択されることを特徴とする請求項4に記載の感光性ペースト組成物。 - 前記バインダーは、セルロース、メチルセルロース、エチルセルロース、n−プロピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、2−ヒドロキシエチルセルロース、メチル−2−ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシブチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート、セルロースニトレート、セルロースアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースプロピオネート、(アクリルアミドメチル)セルロースアセテートプロピオネート、(アクリルアミドメチル)セルロースアセテートブチレート、シアノエチレートセルロース、ペクチン酸、キトサン、キチン、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム塩、カルボキシエチルセルロース及びカルボキシエチルメチルセルロースからなる群から選択される1以上の物質をさらに含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記共重合体の重量平均分子量は、5,000ないし50,000g/molであり、酸価は、50ないし250mgKOH/gであることを特徴とする請求項4〜6のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記バインダーの含量は、前記有機成分(溶剤除外)100質量部に対して30ないし80質量部であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記架橋剤は、モノアクリレート系架橋剤または多官能アクリレート系架橋剤であって、
前記モノアクリレート系架橋剤は、アクリル酸、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、sec−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、tert−ブチルアクリレート、n−ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールアクリレート、シクロへキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、2−エチルへキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、イソボルニルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、ステアリルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート及びアミノエチルアクリレートからなる群から選択されるモノアクリレート、または前記モノアクリレート分子内のアクリレートをメタクリレートに置換したものであり、
前記多官能アクリレート系架橋剤は、1,6−へキサンジオールジアクリレート、1,6−へキサンジオールエトキシ化ジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート及びテトラエチレングリコールジアクリレートからなる群から選択されるジアクリレート系架橋剤;トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンエトキシ化トリアクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンプロポキシ化トリアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート、及びトリメチロールプロパンプロポキシ化−3−トリアクリレートからなる群から選択されるトリアクリレート系架橋剤;ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールプロパンテトラアクリレート及びペンタエリトリトールテトラアクリレートからなる群から選択されるテトラアクリレート系架橋剤;ペンタアクリレート系架橋剤;ヘキサアクリレート系架橋剤;及びその混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。 - 前記架橋剤の含量は、前記有機成分(溶剤除外)100質量部に対して15ないし60質量部であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成
物。 - 前記光開始剤は、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,4’−ビス(ジメチルアミン)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニル−2−フェニルアセトフェノン、2−メチル−[1−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタノン、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシド及びビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシドからなる群から選択される1以上であることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記光開始剤の含量は、前記有機成分(溶剤除外)100質量部に対して0.5ないし20質量部であることを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記有機成分は、増感剤、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸光剤、消泡剤、分散剤、レベリング剤、可塑剤及び揺変剤からなる群から選択される1以上の添加剤をさらに含むことを特徴とする請求項1〜12のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記有機成分は、沸点が150℃以上の溶剤を含むことを特徴とする請求項1〜13のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記溶剤は、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、テキサノール、テルピン油、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、セロソルブアセテート及びブチルセロソルブアセテートからなる群から選択される1以上であることを特徴とする請求項14に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記有機成分(溶剤除外)の含量は、前記感光性ペースト組成物(溶剤除外)100体積部に対して20ないし70体積部であることを特徴とする請求項1〜15のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記無機成分の含量は、前記感光性ペースト組成物(溶剤除外)100体積部に対して30ないし80体積部であることを特徴とする請求項1〜16のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記低融点ガラス粉末は、平均屈折率が1.52未満であることを特徴とする請求項1〜17のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記低融点ガラス粉末は、ケイ素(Si)、ホウ素(B)、アルミニウム(Al)、バリウム(Ba)、亜鉛(Zn)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、リン(P)、バナジウム(V)、モリブデン(Mo)及びテルル(Te)からなる群から選択される元素の酸化物を3種以上含む複合酸化物であることを特徴とする請求項1〜18のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記低融点ガラス粉末は、SiO2−B2O3−Al2O3系、SiO2−B2O3−BaO系、SiO2−B2O3−CaO系、ZnO−B2O3−Al2O3系、ZnO−SiO2−B2O3系、P2O5系、SnO−P2O5系、V2O5−P2O5系、V2O5−Mo2O3系、V2O5−P2O5−TeO2系、SiO2−B2O3−Al2O3−F系、SiO2−B2O3−BaO−F系、SiO2−B2O3−CaO−F系、ZnO−B2O3−Al2O3−F系、ZnO−SiO2−B2O3−F系、P2O5−F系、SnO−P2O5−F系、V2O5−P2O5−F系、V2O5−Mo2O3−F系及びV2O5−P2O5−TeO2−F系からなる群から選択される1以上のガラス粉末であることを特徴とする請求項19に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記低融点ガラス粉末の粒子径は、中央値D50が2ないし5μmであり、最小値Dminが、0.1μm以上であり、最大値Dmaxが、20μm以下であることを特徴とする請求項1〜20のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記低融点ガラス粉末の含量は、前記無機成分100体積部に対して60ないし95体積部であることを特徴とする請求項1〜21のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記高融点ガラス粉末は、平均屈折率が1.50未満であることを特徴とする請求項1〜22のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記高融点ガラス粉末は、Si、B、Al、Ba、Zn、Mg及びCaからなる群から選択される元素の酸化物を2種以上含む複合酸化物であることを特徴とする請求項1〜23のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記高融点ガラス粉末は、SiO2−B2O3系、SiO2−B2O3−Al2O3系、SiO2−B2O3−BaO系、SiO2−B2O3−CaO系、SiO2−B2O3−MgO系、SiO2−Al2O3−BaO系、SiO2−Al2O3−CaO系及びSiO2−Al2O3−MgO系からなる群から選択される1以上のガラス粉末であることを特徴とする請求項24に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記高融点ガラス粉末の粒子径は、中央値D50が1ないし4μmであり、最小値Dminが、0.1μm以上であり、最大値Dmaxが、20μm以下であることを特徴とする請求項1〜25のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 前記高融点ガラス粉末の含量は、前記無機成分100体積部に対して5ないし40体積部であることを特徴とする請求項1〜26のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物。
- 請求項1〜27のいずれか1項に記載の感光性ペースト組成物を利用して製造されたプラズマディスプレイパネル用バリアリブ。
- 請求項28に記載のバリアリブを含むプラズマディスプレイパネル。
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Families Citing this family (8)
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KR100658714B1 (ko) * | 2004-11-30 | 2006-12-15 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 조성물, 이를 포함하는 격벽 형성용 감광성페이스트 조성물, 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이패널용 격벽의 제조방법. |
JP5169757B2 (ja) * | 2008-11-14 | 2013-03-27 | Jsr株式会社 | 感光性組成物および焼成体の形成方法並びにフラットディスプレイパネルの製造方法 |
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KR101130296B1 (ko) * | 2009-12-23 | 2012-03-22 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물 |
CN102064064B (zh) * | 2010-10-18 | 2012-08-29 | 安徽鑫昊等离子显示器件有限公司 | 前介质浆料及其制备方法 |
KR102143374B1 (ko) * | 2013-11-29 | 2020-08-13 | 엘지디스플레이 주식회사 | 광반응성 혼합물과 이를 포함하는 플라스틱 액정표시소자 제조방법 |
WO2017010189A1 (ja) | 2015-07-15 | 2017-01-19 | 株式会社村田製作所 | 塗膜形成用組成物及び電子部品 |
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Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6197480B1 (en) | 1995-06-12 | 2001-03-06 | Toray Industries, Inc. | Photosensitive paste, a plasma display, and a method for the production thereof |
JP3567591B2 (ja) * | 1995-06-12 | 2004-09-22 | 東レ株式会社 | プラズマディスプレイの製造方法 |
JP3239759B2 (ja) | 1995-06-12 | 2001-12-17 | 東レ株式会社 | 感光性ペースト |
JP3716469B2 (ja) * | 1995-06-12 | 2005-11-16 | 東レ株式会社 | パターン加工用感光性ペースト |
JP3520663B2 (ja) * | 1996-05-10 | 2004-04-19 | 東レ株式会社 | 感光性ペースト |
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