JP4883203B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
ところが、レーザー光によって絶縁膜にビアホールを形成する際には、半導体素子に熱的ダメージを与えてしまう。半導体素子の熱的ダメージを抑えるべく、レーザー光の強度が弱いと、絶縁膜にビアホールを形成することができなくなる場合がある。
そこで、本発明が解決しようとする課題は、レーザー光による半導体素子への熱的ダメージを抑えながらビアホールの位置精度を向上させることである。
前記第1絶縁膜は繊維強化樹脂を含むことが好ましい。
前記第1絶縁膜には少なくとも1層以上の金属マスク層が設けられており、前記第2ビアホールを形成後、前記金属マスク層を除去することが好ましい。
前記第1レーザー光は紫外線レーザー光であることが好ましい。
前記第1ビアホールは、前記第1レーザー光より強度の強い第2レーザー光を前記第1絶縁膜に照射することによって形成されることが好ましい。
前記第1ビアホールは、炭酸ガスレーザー光を前記第1絶縁膜に照射することによって形成されることが好ましい。
前記金属層は、前記第2ビアホールから前記第1絶縁膜上にわたって連続して形成されており、前記金属層をパターニングして前記電極に接続された配線を形成することが好ましい。
前記第1絶縁膜に接着された前記半導体素子を封止層で封止することが好ましい。
前記第1絶縁膜の一方の面に接着された前記半導体素子と、第2基材に配置された第2絶縁膜と、の間に前記封止層を挟み、前記第1基材及び第2基材の両側から加圧することが好ましい。
前記第2絶縁膜は前記第1絶縁膜と同じ材料であることが好ましい。
前記第2絶縁膜に上部接地層を形成することが好ましい。
前記半導体素子の周囲における前記第1絶縁膜の前記一方の面に下部接地層を形成することが好ましい。
前記第2絶縁膜にヒートシンクを形成することが好ましい。
前記第1絶縁膜と前記第1基材との間に、前記第1基材と異なる材料を有する第1金属層が設けられており、前記第1絶縁膜に炭酸ガスレーザー光を照射して、前記第1絶縁膜に前記第1ビアホールを形成し、前記第1絶縁膜をマスクとして、前記第1ビアホールから前記第1金属層をエッチングすることが好ましい。
前記第1絶縁膜と前記第1金属層との間に、前記第1金属層と異なる材料を有する第2金属層が設けられており、前記第1絶縁膜をマスクとして、前記第1ビアホールから前記第2金属層をエッチングすることが好ましい。
図1は、半導体装置1の断面図である。
この半導体装置1は、半導体構成体2をパッケージしたものである。半導体構成体2は、トランジスタ等の集積回路を有する半導体素子3及び複数の電極4を備える。半導体素子3は、シリコン基板といった半導体基板の下面に集積回路を設けたものである。半導体素子3の下面に複数の電極4が設けられている。電極4は、Cuを含むものである。なお、電極4は、配線の一部であってもよい。半導体素子3の下面の4辺の周縁には図示しない複数の接続パッドが配列されている。接続パッドは、半導体素子3に形成された集積回路に接続されている。
図2の断面図に示すように、半導体素子3には、CSP(Chip Size Package)といわれるパッケージが施されている。つまり、パッケージとなる絶縁膜5が半導体素子3の下面に形成され、その絶縁膜5には、複数の接続パッドにそれぞれ対応した複数のビアホール6が形成されている。一端がビアホール6に埋められることによって接続パッドに接続された再配線層となる複数の電極4が設けられている。複数の電極4の他端は、接続用の端子であって、絶縁膜5の表面全体において縦横に並んでマトリクス状に配置されている。絶縁膜5としては、無機絶縁層(例えば、酸化シリコン層又は窒化シリコン層)若しくは樹脂絶縁層(例えば、ポリイミド樹脂層)又はこれらの積層体である。絶縁膜5が積層体である場合、無機絶縁層が半導体素子3の下面に成膜され、樹脂絶縁層がその無機絶縁層の表面に成膜されていてもよいし、その逆であってもよい。
図4の例では、図2の電極4及び絶縁膜5を覆うカバーコート8が形成されている。なお、図3のようにポスト7が形成されている場合でも、図4のように電極4及び絶縁膜5がカバーコート8によって覆われていてもよい。その場合、ポスト7の凸面がカバーコート8によって覆われていてもよいし、覆われていなくてもよい。
半導体構成体2の電極4を露出するビアホール14の形成をビアホール12の形成と別に行うことが可能となり、また接着剤層13は繊維強化されていないので、接着剤層13のビアホール14を、紫外線レーザー光(UVレーザー光)のような出力が小さいレーザー光で形成できるため、半導体構成体2への伝熱を抑制できる。
そして、絶縁膜11はガラス布基材といったガラス繊維が含有されていることで繊維強化をされているために紫外線レーザー光のような出力が小さいレーザー光では消失しないので、絶縁膜11をマスクとして、絶縁膜11に設けられたビアホール12と自己整合的にビアホール14を形成することができる。このため、ビアホール14の形成のために、別途フォトリソグラフィーによって形成されるレジストマスクを形成する必要がない。
まず、図5に示すように、製造工程中、半導体構成体2を搬送するための第1の基材41上に、繊維強化樹脂(例えば、ガラス繊維含有エポキシ樹脂又はガラス繊維含有ポリイミド樹脂)を含む絶縁膜11を成膜する。基材41は、絶縁膜11の取り扱いを容易にするためのキャリアであり、具体的には銅等の金属板である。このように準備した基材41、絶縁膜11のサイズは、図1に示された1つの半導体装置1が複数個まとまったサイズとなっており、図5〜図15は1つの半導体装置1を代表して示しているが、実際は複数の半導体装置1が横方向に連続して設けられている製造工程に係る図面である。
非導電性ペーストの場合、絶縁膜11上及びビアホール12で露出した基材41上に非導電性ペーストを塗布し、塗布された非導電性ペーストに半導体素子3を載置してから硬化する以外にも、電極4を含む半導体素子3の下面全体に非導電性ペーストを塗布して、塗布された非導電性ペーストを絶縁膜11に接するように半導体素子3を載置してから硬化してもよい。
さらに、接着剤層13の半導体構成体2の電極4を露出するビアホール14の形成をビアホール12の形成と別に行うことが可能となり、また接着剤層13は繊維強化されていないので、接着剤層13のビアホール14を紫外線レーザー光のような出力が小さいレーザー光で形成できるため、半導体構成体2への伝熱を抑制できる。
また、先に除去した基材41を除去せずに基材41をマスクとして用いるべく、基材41をフォトリソグラフィー法・エッチング法によってパターニングして、ビアホール12に重なる開口を基材41に形成するという手間も省くことができ、自己整合なのでフォトリソグラフィーのマスク位置合わせを調整する必要がない。よって、低コスト且つ迅速にビアホール14を形成することができる。
また、充填物13aの消失やビアホール14の形成に用いるレーザー光が低強度であるので、半導体素子3に熱的ダメージを与えないようにすることができ、特に紫外線レーザー光の場合デスミア処理が不要となる。
なお、ディップコート法又はスピンコート法により感光性樹脂を絶縁膜11、下層配線15、絶縁膜10及び上層配線17の表面全体にコーティングするとともに、感光性樹脂を上下導通部20の中空部内に充填した後、塗布した感光性樹脂を露光・現像することによって、下層オーバーコート層21、上層オーバーコート層23及び充填材25をパターニングしてもよい。
次に、図15に示すように、開口22内に半田バンプ26を形成する。
図16は、第2実施形態における半導体装置1Aの断面図である。この半導体装置1Aと第1実施形態の半導体装置1との間で互いに対応する部分には、同一の符号を付す。
下層配線15、上層配線17及び上下導通部20を形成するまでの工程は、第1実施形態の場合と同様である(図5〜図13参照)。
下層配線15、上層配線17及び上下導通部20の形成後、上下導通部20の中空内に充填材25を充填する。
次に、絶縁膜10の表面及び上層配線17を第2絶縁膜29によって被覆する。レーザーからレーザー光を照射して第2絶縁膜29にビアホール30を形成し、第2上層配線32をパターニング形成し、上層オーバーコート層23をパターニング形成する。
そして、絶縁膜11の表面及び下層配線15を第2絶縁膜27によって被覆する。レーザーからレーザー光を照射して第2絶縁膜27にビアホール28を形成し、第2下層配線31をパターニング形成する。下層オーバーコート層21をパターニングし、下層オーバーコート層21の開口22内に半田バンプ26を形成する。次に、ダイシング処理により複数連なった半導体装置1を個々に分割する。また、半導体構成体2の上方における絶縁膜10と上層オーバーコート層23との間には、接地されている遮光兼接地層54が介在してもよい。
図17は、第3実施形態における半導体装置1Bの断面図である。この半導体装置1Bと第1実施形態の半導体装置1との間で互いに対応する部分には、同一の符号を付す。
図18は、第4実施形態における半導体装置1Cの断面図である。この半導体装置1Cと第1実施形態の半導体装置1との間で互いに対応する部分には、同一の符号を付す。
また、この半導体装置1Cは、接地用の配線を有したものとなっている。即ち、絶縁膜11と封止層9の層間に接地層45が設けられ、絶縁膜11にビアホール12が形成され、絶縁膜11と下層オーバーコート層21の層間に接地用配線47が設けられ、接地用配線47の一部がビアホール46に埋められて接地層45に接続し、下層オーバーコート層21に開口48が形成され、その開口48内に半田バンプ49が設けられ、半田バンプ49が接地用配線47に接続している。
また、半導体構成体2の上方における絶縁膜10と上層オーバーコート層23との間には、接地されている遮光兼接地層54が介在していることによって、半導体素子3が外部光及び外部ノイズから保護されている。遮光兼接地層54は、半導体構成体2の放熱部材としても機能する。
他の部分については半導体装置1Bと半導体装置1は同様に設けられている。
第1の基材41上に絶縁膜11を成膜する工程は、第1実施形態の場合と同様である(図5参照)。その後、炭酸ガスレーザー光を絶縁膜11に照射して絶縁膜11にビアホール12を形成する。次いで図19に示すように、絶縁膜11上に接地層45を形成する。その後、半導体構成体2を絶縁膜11上に実装する工程から、ビアホール12内の充填物13aを消失するとともに接着剤層13にビアホール14を形成する工程までは、第1実施形態の場合と同様である(図19、図7〜図11参照)。ただし、接地層45を形成してから第1の基材41を除去後に、絶縁膜11の下面に向けて炭酸ガスレーザー光を照射し、絶縁膜11の所定の位置にビアホール46を形成する。また、接地層45は、ビアホール12形成後に限らず、図5に示す工程において、絶縁膜11の表面に形成してもよく、この場合、接地層45形成後に、絶縁膜11にビアホール12を形成する。またビアホール46は、紫外線レーザー光で形成してもよく、この場合、接地層45を形成してから、図6に示す工程においてビアホール12と同時にビアホール46を形成してもよい。いずれにしても、ビアホール46は、接地層45の形成後に形成する。
次に、上層オーバーコート層23を単に成膜するが、上層オーバーコート層23のパターニングは行わない。一方、下層オーバーコート層21のパターニングを行うことによって、下層オーバーコート層21に開口22及び開口48を形成し、下層配線15を開口22内で露出させるとともに、接地用配線47を開口48内で露出させる。
次に、下層オーバーコート層21の開口22内に半田バンプ26を形成するとともに、開口48内に半田バンプ49を形成する。
次に、ダイシング処理により複数連なった半導体装置1を個々に分割する。
図20は、第5実施形態における半導体装置1Dの断面図である。この半導体装置1Dと第1実施形態の半導体装置1との間で互いに対応する部分には、同一の符号を付す。
この半導体装置1Dは、半導体装置1と比較すると、スルーホール19、充填材25、上下導通部20、上層配線17、パッド18及び開口24が設けられていない。
また、この半導体装置1Dは、半導体装置1と比較して、放熱性に優れた構造となっている。即ち、半導体素子3の上であって絶縁膜10と封止層9の層間には、伝熱膜50が設けられ、絶縁膜10には複数のビアホール51が形成され、絶縁膜10上に膜状のヒートシンク52が成膜され、ヒートシンク52の一部がビアホール51に埋められて伝熱膜50に接触し、上層オーバーコート層23に開口53が形成され、ヒートシンク52が開口53内において露出している。伝熱膜50及びヒートシンク52は、銅その他の金属材料を含む。半導体構成体2の熱は伝熱膜50及びヒートシンク52によって放熱される。このヒートシンクは接地され、シールド層として機能することが好ましい。
半導体素子3を絶縁膜11上に実装する工程までは、第1実施形態の場合と同様である(図5〜図7)。
その後、第2の基材42上に絶縁膜10が成膜されたものを準備するとともに、熱硬化樹脂シート9aを準備する(図21)。絶縁膜10の下面には伝熱膜50が半導体素子3ごとにパターニングされている。
その後、第1実施形態のようなスルーホール19を形成する工程を行わずに、絶縁膜10にビアホール51を形成し、ビアホール51内にて伝熱膜50を露出させる。
次に、ヒートシンク52をパターニングする。ヒートシンク52をパターニングすることによって、ヒートシンク52の一部がビアホール51内に埋まり、ヒートシンク52が伝熱膜50に接触する。次に、上層オーバーコート層23をパターニングし、上層オーバーコート層23に開口53を形成し、ヒートシンク52を開口53内で露出させる。
そして下層配線15をパターニング後、下層オーバーコート層21を形成し、下層オーバーコート層21に開口22を形成し、下層配線15を開口22内で露出させ、下層オーバーコート層21の開口22内に半田バンプ26を形成する。
本実施形態における半導体装置の構造は、第1実施形態における半導体装置1の構造と同じである。本実施形態における半導体装置の製造方法は、第1実施形態に半導体装置1の製造方法と相違する。
まず、図22に示すように、第1の基材41上には第1の金属膜61が成膜され、第1の金属膜61上には第2の金属膜62が成膜されている。第2の金属膜62と第1の基材41が共に主に銅からなり、第1の金属膜61が主にニッケルからなる。なお、金属膜61,62は他の金属を含むものとしてもよい。また、第2の金属膜62が成膜されていなくて、第1の金属膜62の一層のみであってもよい。また、第1の基材41上に積層された金属膜が金属膜61,62の二層ではなく、三層以上であってもよい。
その後、半導体素子3を実装する工程から、半導体素子3を封止層9によって封止する工程までは、第1の実施の形態の場合と同様である(図25〜図27)。なお、半導体素子3を実装すると、非導電性ペースト又は非導電性フィルムの一部が開口63,64及びビアホール12内に埋まって充填物13aとして硬化する。
次に、図30に示すように、エッチングにより第2の基材42、第1の金属膜61及び第2の金属膜62を除去する。なお、第1の金属膜61をエッチングによって除去する工程は、レーザー光によってビアホール14を形成する工程の前であって且つ第1の基材41をエッチングにより除去した後であってもよい。
その後、下層配線15、上層配線17及び上下導通部20のパターンニングをする工程から、ダイシング工程までは、第1の実施の形態の場合と同様である(図12〜図15参照)。
本実施形態における半導体装置の構造は、第1、第6実施形態における半導体装置1の構造と同じである。本実施形態における半導体装置の製造方法は、第1、第6実施形態に半導体装置1の製造方法と相違する。
第2の金属膜62上に絶縁膜11を成膜する工程から、ビアホール14やスルーホール19を形成する工程までは、第6実施形態の場合と同様である(図22〜図29参照)。
その後、図31に示すように、第1の金属膜61をエッチングにより除去するが、第2の金属膜62及び第2の基材42は残留させる。
次に、フォトリソグラフィー法及びエッチング法によって金属層15aを下層配線15、上層配線17及び上下導通部20にパターニングする(図13参照)。
その後、上層オーバーコート層23、下層オーバーコート層21及び充填材25を形成する工程から、ダイシング工程までは、第1の実施の形態と同様である(図14〜図15参照)。
本実施形態における半導体装置の構造は、第1、第6、第7実施形態における半導体装置の構造と同じである。本実施形態における半導体装置の製造方法は、第1、第6、第7実施形態に半導体装置の製造方法と相違する。
第2の金属膜62上に絶縁膜11を成膜する工程から、ビアホール14やスルーホール19を形成する工程までは、半導体素子3を封止層9によって封止する工程までは、第6実施形態の場合と同様である(図22〜図27参照)。但し、第2の金属膜62と第1の金属膜61の密着性が低く、第1の金属膜61及び第1の基材41が第2の金属膜62から剥離可能となっている。
次に、図33に示すように、紫外線レーザー光によってビアホール12及び開口64内に埋められた充填物13aを消失するとともに、ビアホール12及び開口64に連なったビアホール14を接着剤層13に形成する。この際、レーザー光の径はビアホール12の径より大きいので、レーザー光はビアホール12の内部全体及びビアホール12の周囲の絶縁膜11に照射されることになるが、第2の金属膜62がマスクとして機能するから、レーザー光によってビアホール12が広がらず、レーザー光照射前のビアホール12と自己整合的なビアホール14を形成するとともに絶縁膜11のダメージを抑えることができる。また、ビアホール12が予め形成されており、第2の金属膜62及び絶縁膜11がマスクとして機能するから、レーザー光強度を低くすることができる。
種々の典型的な実施の形態を示しかつ説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されない。従って、本発明の範囲は、特許請求の範囲によってのみ限定されるものである。
2 半導体構成体
3 半導体素子
10 絶縁膜(第2絶縁膜)
11 絶縁膜(第1絶縁膜)
12 ビアホール(第1のビアホール)
13 接着剤層
14 ビアホール(第2のビアホール)
15 配線
41 第1の基材
42 第2の基材
61 第1の金属膜
62 第2の金属膜
Claims (16)
- 第1基材に配置された、第1ビアホールを有する第1絶縁膜の一方の面に、接着剤層を介して、電極が形成された半導体素子を接着し、
前記第1基材を前記第1絶縁膜から除去し、
前記第1ビアホールを介して前記接着剤層に第1レーザー光を照射して前記接着剤層に第2ビアホールを形成して、前記接着剤層から前記電極を露出させ、
前記第2ビアホールに金属層を形成して、前記金属層を前記電極と接続することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1に記載の半導体装置の製造方法において、前記第1レーザー光の径は前記第1ビアホールの径より大きく、前記第1絶縁膜をマスクとして前記第2ビアホールを形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1又は2に記載の半導体装置の製造方法において、前記第1絶縁膜は繊維強化樹脂を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1から3の何れか一項に記載の半導体装置の製造方法において、前記第1絶縁膜には少なくとも1層以上の金属マスク層が設けられており、前記第2ビアホールを形成後、前記金属マスク層を除去することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1から4の何れか一項に記載の半導体装置の製造方法において、前記第1レーザー光は紫外線レーザー光であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1から5の何れか一項に記載の半導体装置の製造方法において、前記第1ビアホールは、前記第1レーザー光より強度の強い第2レーザー光を前記第1絶縁膜に照射することによって形成されることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項6に記載の半導体装置の製造方法において、前記第1ビアホールは、炭酸ガスレーザー光を前記第1絶縁膜に照射することによって形成されることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1から7の何れか一項に記載の半導体装置の製造方法において、前記金属層は、前記第2ビアホールから前記第1絶縁膜上にわたって連続して形成されており、
前記金属層をパターニングして前記電極に接続された配線を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1から8の何れか一項に記載の半導体装置の製造方法において、前記第1絶縁膜に接着された前記半導体素子を封止層で封止することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項9に記載の半導体装置の製造方法において、前記第1絶縁膜の一方の面に接着された前記半導体素子と、第2基材に配置された第2絶縁膜と、の間に前記封止層を挟み、前記第1基材及び第2基材の両側から加圧することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項10に記載の半導体装置の製造方法において、前記第2絶縁膜は前記第1絶縁膜と同じ材料であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項10又は11に記載の半導体装置の製造方法において、前記第2絶縁膜に上部接地層を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1から12の何れか一項に記載の半導体装置の製造方法において、前記半導体素子の周囲における前記第1絶縁膜の前記一方の面に下部接地層を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項10に記載の半導体装置の製造方法において、前記第2絶縁膜にヒートシンクを形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1から3の何れか一項に記載の半導体装置の製造方法において、前記第1絶縁膜と前記第1基材との間に、前記第1基材と異なる材料を有する第1金属層が設けられており、
前記第1絶縁膜に炭酸ガスレーザー光を照射して、前記第1絶縁膜に前記第1ビアホールを形成し、
前記第1絶縁膜をマスクとして、前記第1ビアホールから前記第1金属層をエッチングすることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項15に記載の半導体装置の製造方法において、前記第1絶縁膜と前記第1金属層との間に、前記第1金属層と異なる材料を有する第2金属層が設けられており、
前記第1絶縁膜をマスクとして、前記第1ビアホールから前記第2金属層をエッチングすることを特徴とする半導体装置の製造方法。
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