JP4876237B2 - 複数のルツボを利用した有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源 - Google Patents

複数のルツボを利用した有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源 Download PDF

Info

Publication number
JP4876237B2
JP4876237B2 JP2007111466A JP2007111466A JP4876237B2 JP 4876237 B2 JP4876237 B2 JP 4876237B2 JP 2007111466 A JP2007111466 A JP 2007111466A JP 2007111466 A JP2007111466 A JP 2007111466A JP 4876237 B2 JP4876237 B2 JP 4876237B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crucible
housing
thin film
evaporation source
organic light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2007111466A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007314873A (ja
Inventor
盧一鎬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Semes Co Ltd
Original Assignee
Semes Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Semes Co Ltd filed Critical Semes Co Ltd
Publication of JP2007314873A publication Critical patent/JP2007314873A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4876237B2 publication Critical patent/JP4876237B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/12Organic material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

本発明は、複数のルツボを利用した有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源に係り、より詳細には、複数のルツボで蒸発した有機物質が大面積基板に対して均一な蒸着を行わせる有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源に関する。
一般的に、有機発光素子を製造する方法は、低分子物質を真空中に蒸発させて製造する方法と、高分子物質を溶剤に溶かしてスピンコーティングする方法とが知られている。
このような方法のうち、高真空で薄膜を製作する低分子有機発光素子製造方法の場合、任意の形状の開口部を持つシャドーマスクを基板の前に整列して、この基板に有機物質を蒸着して薄膜を製作する。
このような薄膜製作には有機物質蒸発源が利用される。有機物質蒸発源は、上面が開放されて有機物質を入れるルツボ、加熱により蒸発または昇華された有機物質が通過するように複数の穿孔が形成された蓋部を備えて構成される。生産性向上のために大面積基板を使用する場合、大面積薄膜の均一度が確保されるように線形蒸発源が必要になる。この時、大面積基板100または線形蒸発源が動いて基板の全面積に対して蒸着が行われる。
線形蒸発源の外側部分は中央に比べて蒸発されたガスの重畳する部分が少ないために、薄膜の均一度が基板の中央より外側で顕著に小さくなる。このような現象を防止するためには、蒸発源の長さが基板の長さよりかなり長くならねばならないが、この時は蒸発源の使用効率が落ちる。
図1は、従来の有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源を示す断面図であり、図2は、図1に図示したルツボ蓋部20の平面図である。従来には、大面積均一度の確保のために、蓋部20の穿孔25の間隔とその面積とを調節して長手方向の終端での均一度を向上させようとした。すなわち、図面に示したように、蓋部20の中心から外側へ行くほど穿孔25の間隔を狭め(d1>d2>d3)、穿孔25の面積を広げて(S1<S2<S3)多量の有機物を外側に通過させた。
しかし、このように大面積均一度確保のために、穿孔25の大きさが互いに異なり、その間隔が互いに異なる蓋部20を使用する場合、穿孔25の大きさと間隔は非常に微細に調節されねばならない。特に、穿孔25の大きさは、数百μmから数mmまで非常に多様でその加工が非常にむずかしいという問題点がある。また、非常に微細な穿孔25の場合には、蓋部20の熱源変化により有機物が固まって穿孔25が閉塞されがちな問題点がある。
本発明は、前記した問題点に鑑みてなされたものであり、本発明は、複数のルツボで蒸発した有機物質がルツボの開口から放射状に広がる高さを異にすることによって、微細な穿孔を加工せずに、大面積基板に対して均一な蒸着を行わせるところに目的がある。
本発明の目的は、以上で言及した目的に制限されず、言及されていない他の目的は下の記載から当業者に明確に理解されうる。
前記目的を達成するために、本発明の実施形態による複数のルツボを利用した有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源は、長い筒状ないし箱状に形成されるハウジングと、上面は開放されており、内部に蒸着用物質を入れるものであり、前記ハウジングに挿入される複数のルツボと、前記ルツボを加熱する加熱装置と、を備え、各ルツボの開口の高さが各々異なり、前記ルツボで蒸発された前記蒸着用物質が前記異なる高さのルツボの開口から広がるように構成されている。
本発明の有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源によれば、次のような効果が一つあるいはそれ以上ある。
第1に、加工し難い微細穿孔をあけなくても有機物質を蒸着させうる。
第2に、微細な穿孔が不要なので、有機物が固くなって穿孔が閉塞される問題がない。
第3に、ハウジング内で各ルツボの有機物質が放射状に広がるルツボの開口の高さを異にして、大面積基板に対して有機物質の均一な蒸着をなしうる。
その他の実施例の具体的な事項は詳細な説明及び図面に含まれている。
本発明の利点及び特徴、そしてこれを達成する方法は添付された図面に基づいて詳細に後述されている実施例を参照すれば明確になる。しかし、本発明は以下で開示される実施例に限定されるものではなく、この実施例から外れて多様な形に具現でき、本明細書で説明する実施例は本発明の開示を完全にし、本発明が属する技術分野で当業者に発明の範ちゅうを完全に報せるために提供されるものであり、本発明は請求項及び発明の詳細な説明によってのみ定義される。一方、明細書全体に亙って同一な参照符号は同一な構成要素を示す。
以下、本発明の実施形態により、複数のルツボを利用した有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源を説明するための図面を参考して本発明について説明する。
図3は、本発明の第1実施形態による複数のルツボを利用した有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源を示す断面図である。本発明の有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源は、複数のルツボ10を収容するハウジング60、蒸着用物質を入れるルツボ10、ルツボ10を加熱して蒸着用物質を気化または昇華させる加熱装置を備えて構成される。
ハウジング60は、上面は開放されており、側面と下面とは閉鎖された長い筒状ないし箱状であり、内部に複数のルツボ10を収容するように内部空間を具備する。大面積基板または線形蒸発源が動いて基板の全面積に対して有機物質疑蒸着が行われるように、ハウジング60の幅は基板幅よりはもう少し大きいことが望ましい。
ルツボ10は、上面は開放されており、側面と下面とは閉鎖された長い円筒状であり、ルツボ10の内部に蒸着用有機物質50が保存または維持されるように内部空間を具備する。ルツボ10の上端は、そこから蒸発された蒸着用有機物質が広がる開口となっている。ハウジング60には、ルツボ10の上端の開口がハウジング60の上面よりも上方に突出するように、ルツボ10が受け入れられている。図示の例では、各ルツボ10は同じ断面寸法を有しており、したがって、ルツボ10の開口の面積は同じである。
図4は、本発明の一実施形態による熱線80が連結されたルツボ10を示す斜視図である。図4を参照して説明すれば、ルツボ10の形状は長い円筒状であることが望ましい。しかし、上面が開放されており、内部に有機物質50が保存または維持されうるならば、長い四角柱などの形状に多様に変わりうる。ルツボ10の外壁には、後述するルツボ固定部70の係止支持台72に置かれてルツボ10を固定させる係止部12が形成されている。ルツボ10の外壁での係止部12の位置は、ルツボ10がハウジング60に挿入される深さによってルツボ10ごとに異なるが、後述する加熱装置が置かれる位置よりはルツボ10の上部にある必要がある。ルツボ10の外部下端部には加熱装置が形成される。
図3を参照すれば、ルツボ10はその高さ寸法がいずれも同じである。そして、ハウジング60内でハウジングの長手方向に沿って一列に配置され、深さを異にして挿入される。ルツボ10の外壁に形成された係止部12の位置をそれぞれ異なって形成できるので、係止支持台72上に係止部12が置かれて、各ルツボ10は深さを異にして挿入されうる。この時、ルツボ10は、中央部から外側(ハウジングの長手方向端部)へ行くほどハウジング60に挿入される深さを浅くする。したがって、中央部から外側へ行くほど蒸発された有機物質50がルツボ10の開口から放射状に広がる高さ(すなわち、ルツボ10の上端の開口の高さ)が高くなる。
加熱装置は、ルツボ10の外壁に設置されてルツボ10を加熱する。ルツボ10の加熱によりルツボ10の内部に置かれた有機物質50は、温度が上昇して蒸発する。加熱装置は、図4のように熱線80で形成されることが望ましい。熱線80が形成される高さ部位は、ルツボ10の全体高さではなく、ルツボ10の内部に置かれる有機物質50の高さに合わせて形成することが望ましい。各ルツボ10には同量の有機物質50を入れるので、各ルツボ10ごとに熱線80が形成される高さと間隔とを同じくして、各ルツボ10ごとに均一な熱伝逹をなすことが望ましい。したがって、各ルツボ10ごとに蒸発される有機物質50の量は同一になる。加熱装置は、熱線80だけでなくルツボ10の一定高さを加熱できるならば多様な方法で具現できる。
図5は、本発明の第2実施形態による複数のルツボ10を利用した有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源を示す断面図である。複数のルツボ10を収容するハウジング60、蒸着用物質を入れるルツボ10、ルツボ10を加熱して蒸着用物質を気化または昇華させる加熱装置を備えて構成されるが、このような構成要素は前述した第1実施形態と同一であるので、説明を省略する。
ただし、図5を参照すれば、ルツボ10はその高さ寸法が異なる。そして、ハウジング60内でハウジングの長手方向に沿って一列に配置され、挿入される深さはいずれも同じである。この時、ハウジング60の中央から外側へ行くほど高くなるルツボ10を挿入させる。したがって、中央部から外側へ行くほど蒸発された有機物質50がルツボ10の開口から放射状に広がる高さ(すなわち、ルツボ10の上端の開口の高さ)が高くなる。
図6は、本発明の第3実施形態による複数のルツボ10を利用した有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源を示す断面図である。複数のルツボ10を収容するハウジング60、蒸着用物質を入れるルツボ10、ルツボ10を加熱して蒸着用物質を気化または昇華させる加熱装置を備えて構成されるが、このような構成要素は前述した第1実施形態と同一であるので、説明を省略する。
ただし、図6を参照すれば、ルツボ10はその高さ寸法がいずれも同じである。そして、ハウジング60内でハウジングの長手方向に沿って一列に配置され、挿入される深さがいずれも同じである。この時、ハウジング60の中央部から外側へ行くほど高さ寸法が大きくなる高さ調節部14がルツボ10上にそれぞれ結合される。高さ調節部14の上端の開口がルツボの開口となっている。したがって、中央部から外側へ行くほど蒸発された有機物質50がルツボ10の開口から放射状に広がる高さ(すなわち、ルツボ10の高さ調節部14の上端の開口の高さ)が高くなる。
図7は、蒸発源からの距離による蒸発状態を示す図面である。図面を参照して、本発明によって大面積基板100に対して均一な蒸着が行われる原理を説明する。図7は、有機物質50が蒸発される地点から基板までの距離が近い場合(図7の左側)と、相対的に距離の遠い場合(図7の右側)とを示す。ルツボ10内の一定位置で蒸発された有機物質50は、基板に向う垂直方向を中心に放射状に広がる。放射状に広がるために、有機物質50が蒸発される地点から基板までの距離が近い場合は、遠い場合より狭い地域に有機物質50が到達する。同量の物質が蒸発してさらに狭い地域に有機物質50が到達するので、単位面積当たり有機物質50の量は、距離が近い場合にさらに多くなる。
有機物質50がルツボ10の開口から放射状に広がる高さ(ルツボ10の開口の高さ)がそれぞれ同じ場合、外側部分は中央に比べて蒸発された有機物質50の重畳する部分が少なくなる。したがって、蒸発された有機物質50が基板100に蒸着する時、薄膜の均一度が基板100の中心より外側で顕著に小さくなる。
本発明によれば、ルツボ10の開口で有機物質が放射状に広がる高さ(ルツボ10の開口の高さ)が、中央のルツボ10から外側のルツボへ行くほど高くなるように形成される。したがって、外側にあるルツボ10で蒸発した有機物質50は、中央にあるルツボ10で蒸発された有機物質50に比べて重畳する部分は少ないが、基板に垂直な地点のルツボ10から到達する単位面積当たり有機物質50の量は多くなる。したがって、全体ルツボ10で蒸発する有機物質50により大面積基板100に均一な蒸着が行われる。
図8は、本発明の一実施形態によるルツボ固定部70の平面図である。ルツボ10の形状によってルツボ10が挿入されるように複数の孔があけられている。ルツボ10に形成された係止部12によりルツボ10が固定されるように、孔には図面のように係止支持台72が形成される。図面に図示していないが、係止部12と係止支持台72とに他の結合手段を付加して、ルツボ10が動かないように固定できる。ルツボ10が挿入される深さを異にして固定する方法は、前記の方法だけでなく多様な方法で具現できる。
前記のように構成される本発明による有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源の作用を説明すれば、次の通りである。
ハウジング60上にルツボ固定部70が置かれて結合される。ルツボ固定部70の係止支持台72にルツボ10の係止部12が係止されてルツボ10が固定されるように、各ルツボ10らがハウジング60内に挿入される。この時、それぞれのルツボ10中には同量の有機物が置かれる。ルツボ10に形成された加熱装置は、各ルツボ10において同じ位置に同じ間隔で形成され、各ルツボ10に均一な熱伝逹を行う。したがって、各ルツボ10ごとに同量の有機物質50が蒸発されうる。加熱装置により各ルツボ10で有機物質50が蒸発して、基板に向って上昇する。本発明においては、ハウジング60内の中央から左右方向へ行くほど有機物質50が放射状に広がるルツボ10の開口の高さを高くして、大面積基板に対して均一な有機物質の蒸着が行われる。
本発明が属する技術分野で当業者ならば本発明がその技術的思想や必須特徴を変更せずとも他の具体的な形に実施されうるということが理解できるであろう。したがって、前述した実施例は全ての面で例示的なものであって、限定的なものではないと理解せねばならない。本発明の範囲は詳細な説明よりは特許請求の範囲により表れ特許請求の範囲の意味及び範囲、そしてその等価概念から導かれるあらゆる変更または変形された形態が本発明の範囲に含まれると解釈されねばならない。
本発明は、有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源関連の技術分野に好適に用いられる。
従来の有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源を示す断面図である。 図1に図示したルツボ蓋部の平面図である。 本発明の第1実施形態による複数のルツボを利用した有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源を示す断面図である。 本発明の一実施形態による熱線が連結されたルツボを示す斜視図である。 本発明の第2実施形態による複数のルツボを利用した有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源を示す断面図である。 本発明の第3実施形態による複数のルツボを利用した有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源を示す断面図である。 蒸発源からの距離による蒸発形態を示す図である。 本発明の一実施形態によるルツボ固定部の平面図である。
符号の説明
10 ルツボ
12 係止部
50 有機物質
60 ハウジング
70 ルツボ固定部
72 係止支持台
80 熱線

Claims (7)

  1. 長い筒状ないし箱状に形成されるハウジングと、
    上面は開放されており、内部に蒸着用物質を入れるものであり、前記ハウジングに一列に挿入される複数のルツボと、
    前記ルツボを加熱する加熱装置と、を備える有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源において、
    各ルツボの開口の高さが各々異なり、前記ルツボで蒸発された前記蒸着用物質が前記異なる高さのルツボの開口から広がるように構成され、前記高さは、前記ハウジングの中央から外側へゆくほど高くなる、有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源。
  2. 前記ルツボは、その高さ寸法がいずれも同じであり、前記ハウジング内で一列に配置され、前記ハウジングの中央から外側へ行くほど前記ルツボが前記ハウジングに挿入される深さが浅くなる請求項1に記載の有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源。
  3. 前記ルツボは、その高さ寸法がいずれも異なり、前記ハウジング内で一列に配置され、前記ハウジングの中央から外側へ行くほど高さ寸法が大きくなる前記ルツボが挿入され、前記ルツボの挿入深さがいずれも同じである請求項1に記載の有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源。
  4. 前記ルツボは、その高さ寸法がいずれも同じであり、前記ハウジング内で一列に配置され、前記ルツボが挿入される深さがいずれも同じく、前記ハウジングの中央から外側へ行くほど高さ寸法が大きくなる高さ調節部が前記ルツボ上に形成される請求項1に記載の有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源。
  5. 前記ハウジングの上面は開放されており、前記ハウジングの上面を覆うように設けられ、前記ハウジングに挿入される前記ルツボの上部が貫通されるように複数の孔があけられており、前記孔には係止支持台が形成されたルツボ固定部をさらに備え、前記ルツボの外壁には前記係止支持台に係止する係止部が形成されて、前記ルツボ固定部の係止支持台により前記ルツボが前記ハウジングに固定される請求項1ないし4のうちいずれか1項に記載の有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源。
  6. 前記加熱装置は熱線を利用するものであり、前記ルツボの下部で所定高さ部位を加熱できるように、前記熱線がルツボ外壁の周囲に形成された請求項1ないし5のうちいずれか1項に記載の有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源。
  7. 前記所定高さ部位は、前記ルツボ内部に置かれる有機物質の高さより高い請求項6に記載の有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源。
JP2007111466A 2006-05-23 2007-04-20 複数のルツボを利用した有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源 Active JP4876237B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060046222A KR100784953B1 (ko) 2006-05-23 2006-05-23 다수의 도가니를 이용한 유기발광소자 박막 제작을 위한선형증발원
KR10-2006-0046222 2006-05-23

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007314873A JP2007314873A (ja) 2007-12-06
JP4876237B2 true JP4876237B2 (ja) 2012-02-15

Family

ID=38748342

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007111466A Active JP4876237B2 (ja) 2006-05-23 2007-04-20 複数のルツボを利用した有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20070272156A1 (ja)
JP (1) JP4876237B2 (ja)
KR (1) KR100784953B1 (ja)
CN (1) CN101078104A (ja)
TW (1) TWI364125B (ja)

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007035166B4 (de) * 2007-07-27 2010-07-29 Createc Fischer & Co. Gmbh Hochtemperatur-Verdampferzelle mit parallel geschalteten Heizbereichen, Verfahren zu deren Betrieb und deren Verwendung in Beschichtungsanlagen
US20090255467A1 (en) * 2008-04-15 2009-10-15 Global Solar Energy, Inc. Apparatus and methods for manufacturing thin-film solar cells
WO2009134041A2 (en) * 2008-04-29 2009-11-05 Sunic System. Ltd. Evaporator and vacuum deposition apparatus having the same
US20100159132A1 (en) * 2008-12-18 2010-06-24 Veeco Instruments, Inc. Linear Deposition Source
US20100247809A1 (en) * 2009-03-31 2010-09-30 Neal James W Electron beam vapor deposition apparatus for depositing multi-layer coating
JP5400653B2 (ja) * 2010-02-16 2014-01-29 株式会社日立ハイテクノロジーズ 真空蒸着装置
JP2011176148A (ja) * 2010-02-24 2011-09-08 Nitto Denko Corp 太陽電池モジュールの製造方法およびそれを用いて得られた太陽電池モジュール
CN102212784A (zh) * 2010-04-12 2011-10-12 无锡尚德太阳能电力有限公司 沉积蒸发源
KR101730498B1 (ko) * 2010-10-22 2017-04-27 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
EP2447393A1 (en) * 2010-10-27 2012-05-02 Applied Materials, Inc. Evaporation system and method
JP5715802B2 (ja) * 2010-11-19 2015-05-13 株式会社半導体エネルギー研究所 成膜装置
JP6049355B2 (ja) * 2012-08-29 2016-12-21 キヤノントッキ株式会社 蒸発源
KR20150065883A (ko) * 2012-11-14 2015-06-15 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 성막 장치
CN103898450B (zh) * 2012-12-25 2017-06-13 北京创昱科技有限公司 一种铜铟镓硒共蒸发线性源装置及其使用方法
KR102227546B1 (ko) * 2014-01-20 2021-03-15 주식회사 선익시스템 대용량 증발원 및 이를 포함하는 증착장치
CN105102087A (zh) * 2014-03-01 2015-11-25 Hzo股份有限公司 优化通过材料沉积设备的前驱材料的蒸发的船形器皿
CN104178734B (zh) * 2014-07-21 2016-06-15 京东方科技集团股份有限公司 蒸发镀膜装置
JP6291696B2 (ja) * 2014-07-28 2018-03-14 株式会社Joled 蒸着装置および蒸発源
KR101932943B1 (ko) * 2014-12-05 2018-12-27 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 재료 증착 시스템 및 재료 증착 시스템에서 재료를 증착하기 위한 방법
KR101649689B1 (ko) * 2015-04-14 2016-08-19 한국표준과학연구원 유도 가열 선형 증발 증착 장치
CN105112855A (zh) * 2015-09-29 2015-12-02 京东方科技集团股份有限公司 蒸镀坩埚和蒸镀系统
JP2017157782A (ja) * 2016-03-04 2017-09-07 ソニー株式会社 有機電界発光素子、および有機電界発光素子の製造方法
CN105624611B (zh) * 2016-03-29 2018-04-24 苏州方昇光电股份有限公司 一种旋转式有机材料蒸发装置
CN107058957A (zh) * 2017-04-18 2017-08-18 武汉华星光电技术有限公司 一种蒸发源装置
CN110191976B (zh) * 2017-07-18 2021-12-10 京东方科技集团股份有限公司 蒸发坩埚和蒸发设备
US20210062323A1 (en) * 2017-09-14 2021-03-04 Alpha Plus Co., Ltd. Vacuum evaporation source
CN110055498B (zh) * 2018-01-19 2022-08-12 京东方科技集团股份有限公司 面蒸镀源及其制作方法、蒸镀方法、蒸镀装置
DE102020133979A1 (de) 2020-12-17 2022-06-23 Phoenix Silicon International Corp. Tiegel und aufdampfvorrichtung
CN114836721B (zh) * 2022-04-25 2024-01-26 山东国晶新材料有限公司 一种用于水平横置的陶瓷点源

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3904607A1 (de) * 1989-02-16 1990-08-23 Leybold Ag Direkt beheizbarer schmelzenbehaelter fuer induktionsschmelzoefen
US5525156A (en) * 1989-11-24 1996-06-11 Research Development Corporation Apparatus for epitaxially growing a chemical compound crystal
JP3371454B2 (ja) * 1993-01-13 2003-01-27 石川島播磨重工業株式会社 連続真空蒸着装置
US5803976A (en) * 1993-11-09 1998-09-08 Imperial Chemical Industries Plc Vacuum web coating
US5616180A (en) * 1994-12-22 1997-04-01 Northrop Grumman Corporation Aparatus for varying the flux of a molecular beam
US6413416B1 (en) * 1997-11-12 2002-07-02 P.P.A. Water Industries Water treatment vessel with cartridge holder for holding tablets
US6068441A (en) * 1997-11-21 2000-05-30 Asm America, Inc. Substrate transfer system for semiconductor processing equipment
US6310281B1 (en) * 2000-03-16 2001-10-30 Global Solar Energy, Inc. Thin-film, flexible photovoltaic module
US20040035360A1 (en) * 2002-05-17 2004-02-26 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Manufacturing apparatus
US20030221620A1 (en) * 2002-06-03 2003-12-04 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Vapor deposition device
TWI277363B (en) * 2002-08-30 2007-03-21 Semiconductor Energy Lab Fabrication system, light-emitting device and fabricating method of organic compound-containing layer
KR100532657B1 (ko) * 2002-11-18 2005-12-02 주식회사 야스 다증발원을 이용한 동시증착에서 균일하게 혼합된 박막의증착을 위한 증발 영역조절장치
WO2005061756A1 (en) * 2003-12-09 2005-07-07 Osemi, Inc. High temperature vacuum evaporation apparatus
KR20060030426A (ko) * 2004-10-05 2006-04-10 삼성에스디아이 주식회사 진공 증착장치 및 진공 증착 방법
JP4552184B2 (ja) * 2004-10-22 2010-09-29 富士電機ホールディングス株式会社 有機発光素子用基板に有機層を蒸着させる装置および方法
KR100592304B1 (ko) * 2004-11-05 2006-06-21 삼성에스디아이 주식회사 가열 용기와 이를 구비한 증착 장치

Also Published As

Publication number Publication date
US20070272156A1 (en) 2007-11-29
TWI364125B (en) 2012-05-11
KR20070113410A (ko) 2007-11-29
JP2007314873A (ja) 2007-12-06
TW200744242A (en) 2007-12-01
CN101078104A (zh) 2007-11-28
KR100784953B1 (ko) 2007-12-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4876237B2 (ja) 複数のルツボを利用した有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源
KR100712217B1 (ko) 증발원 및 이를 이용한 진공증착기
KR100758694B1 (ko) 유기발광소자 박막 제작을 위한 선형증발원
JP4847365B2 (ja) 蒸着源および蒸着装置
JP2011127217A (ja) 線形蒸発源及びそれを用いた蒸着装置
KR100862340B1 (ko) 유기 발광 소자 박막 제작을 위한 선형 증발원
KR20120131947A (ko) 증발원 및 이를 이용한 증착장치
JP2008024998A (ja) 真空蒸着源および真空蒸着装置
JP2007224393A (ja) 蒸着源セル、薄膜の製造方法、絞り部材、及び蒸着源加熱ヒータ
JP4478113B2 (ja) 加熱容器支持台及びそれを備えた蒸着装置
JP2005520933A (ja) 蒸着工程用蒸発源及びこれに適用される絶縁固定板、熱線ワインディングプレート並びに熱線固定方法
KR102138990B1 (ko) 재료를 용납 및 가열하는 도가니 및 도가니와 히터 구성을 포함하는 시스템
KR20190080044A (ko) 선형 증발원용 도가니 및 선형 증발원
KR20040043361A (ko) 증착 공정용 원추형 노즐 증발원
KR101131599B1 (ko) 증발 장치 및 이를 구비하는 진공 증착 장치
KR102182114B1 (ko) 증발장치
KR101582672B1 (ko) 증발용 도가니와 이를 포함하는 진공 증발원 및 진공 증착 장치
JP2007270261A (ja) 蒸着装置、蒸着方法、有機el装置の製造方法、及び蒸着用セル
KR100829736B1 (ko) 진공 증착장치의 가열용기
KR20100108086A (ko) 증발 장치 및 이를 구비하는 진공 증착 장치
KR20070051602A (ko) 유기물 진공 증착 장치
JP4841872B2 (ja) 蒸発源及び蒸着装置
KR100761084B1 (ko) 증발원 및 이를 이용한 진공증착기
KR100696531B1 (ko) 가열용기와 이를 이용한 증착장치
KR100625983B1 (ko) 증발원

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100428

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100506

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100729

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101130

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20111025

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20111102

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4876237

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141209

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250