KR101582672B1 - 증발용 도가니와 이를 포함하는 진공 증발원 및 진공 증착 장치 - Google Patents

증발용 도가니와 이를 포함하는 진공 증발원 및 진공 증착 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 박막 형성용 물질과의 반응을 방지할 수 있는 증발용 도가니를 제공하는 것이 그 기술적 과제이다. 이를 위해, 본 발명의 증발용 도가니는, 진공 증발원에 사용되는 증발용 도가니에 있어서, 상기 증발용 도가니의 몸체를 이루며 박막 형성용 물질이 담기는 도가니 몸체; 및 상기 도가니 몸체의 내면에 형성되어 상기 도가니 몸체와 상기 박막 형성용 물질의 반응을 차단하는 반응 차단막을 포함한다.

Description

증발용 도가니와 이를 포함하는 진공 증발원 및 진공 증착 장치{Crucible for evaporation, vacuum effusion cell and vacuum deposition apparatus including the same}
본 발명은 기판 상에 박막을 형성하기 위해 사용되는 증발용 도가니와 이를 포함하는 진공 증발원 및 진공 증착 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 진공 증착 장치는 반도체 제조 공정에서 웨이퍼 표면에 특정 물질로 이루어진 박막을 형성하거나, 대형 평판 디스플레이 장치의 제조에 있어서, 유리 기판 등의 표면에 원하는 물질의 박막을 형성하는 데 사용되고 있다.
이러한 진공 증착 장치는 고진공의 챔버 내에 배치된 기판상에 소정의 박막을 형성하기 위하여 박막 형성용 물질을 가열하여 증발시키고, 증발된 박막 형성용 물질을 상대적으로 차가운 기판의 표면에 가하여 응축시키는 기술 구성을 갖는다.
특히, 박막 형성용 물질은 진공 증착 장치의 핵심 부품인 진공 증발원을 이용하여 가열한다. 진공 증발원은 박막 형성용 물질이 담기는 증발용 도가니와, 증발용 도가니를 가열하는 히터를 포함한다.
하지만, 기존의 진공 증발원에서는 박막 형성용 물질이 고온에서 도가니를 식각시켜 도가니에 구멍을 낼 수 있다. 또한, 증착공정 종료 후 도가니를 냉각시키는 과정에서 내부에 잔류하고 있던 박막 형성용 물질이 그 표면에서부터 고체화되면서 발생되는 표면 장력, 열팽창 또는 열수축으로 인해 도가니가 변형되는 등 도가니의 수명이 단축될 수 있다.
본 발명의 기술적 과제는, 박막 형성용 물질과의 반응을 방지할 수 있는 증발용 도가니와 이를 포함하는 진공 증발원 및 진공 증착 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 기술적 과제는, 박막 형성용 물질의 표면 장력, 열팽창 또는 열수축으로 인한 변형을 방지할 수 있는 증발용 도가니와 이를 포함하는 진공 증발원 및 진공 증착 장치를 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예에 따른 증발용 도가니는, 진공 증발원에 사용되는 증발용 도가니에 있어서, 상기 증발용 도가니의 몸체를 이루며 박막 형성용 물질이 담기는 도가니 몸체; 및 상기 도가니 몸체의 내면에 형성되어 상기 도가니 몸체와 상기 박막 형성용 물질의 반응을 차단하는 반응 차단막을 포함한다.
또한, 상기 도가니 몸체는 금속 재질로 이루어질 수 있고, 상기 반응 차단막은 절연 재질로 이루어질 수 있다.
상기 도가니 몸체와 상기 반응 차단막은 일체로 이루어질 수 있다.
상기 반응 차단막은 상기 도가니 몸체의 내면이 질화처리되어 상기 도가니 몸체의 내면에 일체로 형성될 수 있다.
상기 반응 차단막은 상기 도가니 몸체의 내면이 산화처리되어 상기 도가니 몸체의 내면에 일체로 형성될 수 있다.
상술한 본 발명의 실시예에 따른 증발용 도가니는, 상기 도가니 몸체의 내부에 구비되며 상기 도가니 몸체의 바닥면에 일단이 놓이고 타단이 상기 박막 형성용 물질의 수위보다 높게 위치되어 상기 박막 형성용 물질이 냉각되는 동안 상기 도가니 몸체의 변형을 막는 변형 방지 부재를 더 포함할 수 있다.
일 예로, 상기 변형 방지 부재는, 상기 도가니 몸체의 길이 방향과 평행한 방향으로 놓인 복수개의 원기둥 막대; 및 상기 복수개의 원기둥 막대를 상기 도가니 몸체의 바닥면에 지지하는 받침대를 포함하여 이루어질 수 있다.
다른 예로, 상기 변형 방지 부재는, 상기 도가니 몸체의 길이 방향과 평행한 방향으로 놓이며 상기 도가니 몸체의 바닥면에 지지되는 원통형 구조물일 수 있다.
한편, 본 발명의 실시예에 따른 진공 증발원은, 박막 형성용 물질이 담기는 상술한 본 발명의 실시예에 따른 증발용 도가니; 상기 증발용 도가니의 외부에 구비되며 상기 증발용 도가니를 가열하는 가열부; 및 상기 증발용 도가니의 외부에 구비되며 상기 증발용 도가니를 냉각시키는 냉각부를 포함한다.
다른 한편, 본 발명의 실시예에 따른 진공 증착 장치는, 내부를 진공 분위기로 유지하기 위한 챔버; 상기 챔버 내에서 기판의 일면을 지지하는 기판 지지부; 및 상기 챔버의 한 면에 구비되어 상기 기판에 박막 형성용 물질을 가하는 상술한 본 발명의 실시예에 따른 진공 증발원을 포함한다.
이상에서와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 증발용 도가니와 이를 포함하는 진공 증발원 및 진공 증착 장치는 다음과 같은 효과를 가질 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 반응 차단막이 도가니 몸체와 박막 형성용 물질 사이에 형성되는 기술구성이 제공되므로, 박막 형성용 물질이 반응 차단막에 대부분 가로 막혀 고온에서 박막 형성용 물질과 도가니 몸체의 반응이 방지되어, 박막 형성용 물질로부터 도가니 몸체가 식각되는 현상을 최소화할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 의하면, 변형 방지 부재가 도가니 몸체의 내부에 놓이되 그 일단이 도가니 몸체의 바닥면에 놓이고 타단이 박막 형성용 물질의 수위보다 높게 위치되는 기술구성이 제공되므로, 증착공정 종료 후 도가니 몸체를 냉각시키는 과정에서 내부에 잔류하고 있던 박막 형성용 물질이 그 표면에서부터 고체화되면서 발생되는 표면 장력, 열 팽창력 또는 열 수축력이 변형 방지 부재에 의해 분산되어 도가니 몸체의 변형을 최소화할 수 있다. 특히, 변형 방지 부재가 도가니 몸체의 길이 방향과 평행한 방향으로 놓일 경우, 표면 장력 등에 의해 발생되는 도가니 몸체의 수직 방향의 변형(즉, 도가니 몸체의 길이 방향에 대해 수직한 방향으로 작용하는 변형)을 최소화하여, 즉 박막 형성용 물질의 표면부에서 도가니 몸체를 외측으로 밀거나 내측으로 끌어 당기는 힘을 분산시켜 도가니 몸체의 변형을 최소화할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 증발용 도가니를 포함하는 진공 증발원을 개략적으로 나타낸 부분 단면도이다.
도 2는 도 1의 증발용 도가니를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 3은 도 1의 증발용 도가니에 변형 방지 부재가 구비된 제1 실시 형태를 나타낸 것으로, (a)에는 증발용 도가니, (b)에는 변형 방지 부재 및 (c)에는 이들의 결합체를 나타낸 도면이다.
도 4는 도 3(c)의 증발용 도가니에 증착공정 후 남은 박막 형성용 물질이 채워진 상태를 나타낸 도면이다.
도 5는 도 1의 증발용 도가니에 변형 방지 부재가 구비된 제2 실시 형태를 나타낸 것으로, (a)에는 증발용 도가니, (b)에는 변형 방지 부재 및 (c)에는 이들의 결합체를 나타낸 도면이다.
도 6은 도 5(c)의 증발용 도가니에 증착공정 후 남은 박막 형성용 물질이 채워진 상태를 나타낸 도면이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 증발원을 포함한 진공 증착 장치를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 증발용 도가니를 포함하는 진공 증발원을 개략적으로 나타낸 부분 단면도이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 증발용 도가니는 이를 포함하는 진공 증발원을 설명하면서 함께 설명하기로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 진공 증발원(100)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 증발용 도가니(110)와, 가열부(120)와, 그리고 냉각부(130)를 포함한다.
증발용 도가니(110)는 박막 형성용 물질이 담기는 것으로, 열전도도가 우수한 금속 등의 재질로 이루어질 수 있다. 또한, 도가니(110)는 박막 형성용 물질이 외부로 증발될 수 있도록 한 면이 개방된 형태를 가질 수 있다. 한편, 설명의 편의상, 증발용 도가니(110)에 대한 보다 구체적인 설명은 진공 증발원(100)에 대한 설명을 마친 후에 하기로 한다.
가열부(120)는 도가니(110)의 외부에 구비되며 도가니(110)를 가열하는 역할을 한다. 일 예로, 가열부(120)는 전원 공급부(190)로부터 전원을 공급받아 발열하는 열선일 수 있다. 이러한 가열부(120)는 받침부(125)에 의해 지지된다. 받침부(125)는 가열부(120)가 열팽창되는 동안 가열부(120)가 하방으로 이동되는 것을 막아 상방으로만 가열부(120)의 열팽창이 이루어지도록 가열부(120)의 저면을 받치는 구성요소이다.
냉각부(130)는 증발용 도가니(110)의 외부에 구비되며, 증착공정이 완료된 후에 증발용 도가니(110)를 냉각시키는 역할을 한다.
이와 더불어, 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 증발원(100)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 케이스(140)(150)를 더 포함할 수 있다. 구체적으로, 제1 케이스(140)는 증발용 도가니(110), 가열부(120) 및 받침부(125)를 수용하며, 증발용 도가니(110)의 개방부와 상응하는 면이 개방된 형상을 가질 수 있다. 제2 케이스(150)는 제1 케이스(140)를 수용하며 제1 케이스(140)의 개방부와 상응하는 면이 개방된 형상을 가질 수 있다. 이렇게, 제1 및 제2 케이스(140)(150)가 더 포함될 경우, 상술한 냉각부(130)는 제1 케이스(140)와 제2 케이스(150) 사이에 구비되어 제1 케이스(140) 및 증발용 도가니(110)의 열을 냉각시킬 수 있다.
이와 더불어, 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 증발원(100)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 열 반사판(160)을 더 포함할 수 있다. 구체적으로, 열 반사판(160)은 제1 케이스(140)의 내주면에 구비되어 가열부(120)의 열을 증발용 도가니(110)로 반사시킬 수 있다.
이와 더불어, 상술한 본 발명의 실시예에 따른 진공 증발원(100)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 지지봉(170)과, 지지대(180)와, 전원 공급부(190)를 더 포함할 수 있다. 지지봉(170)은 제1 케이스(140) 등을 지지대(180)에 지지시키는 역할을 하고, 그리고 전원 공급부(190)는 상술한 열선(120)에 전류를 공급한다.
이하, 도 2 내지 도 6을 참조하여, 상술한 본 발명의 일 실시예에 따른 증발용 도가니(110)에 대해 보다 상세히 설명한다.
도 2는 도 1의 증발용 도가니를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 3은 도 1의 증발용 도가니에 변형 방지 부재가 구비된 제1 실시 형태를 나타낸 것으로, (a)에는 증발용 도가니, (b)에는 변형 방지 부재 및 (c)에는 이들의 결합체를 나타낸 도면이고, 도 4는 도 3(c)의 증발용 도가니에 증착공정 후 남은 박막 형성용 물질이 채워진 상태를 나타낸 도면이다.
도 5는 도 1의 증발용 도가니에 변형 방지 부재가 구비된 제2 실시 형태를 나타낸 것으로, (a)에는 증발용 도가니, (b)에는 변형 방지 부재 및 (c)에는 이들의 결합체를 나타낸 도면이고, 도 6은 도 5(c)의 증발용 도가니에 증착공정 후 남은 박막 형성용 물질이 채워진 상태를 나타낸 도면이다.
상술한 본 발명의 일 실시예에 따른 증발용 도가니(110)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 도가니 몸체(111)와 반응 차단막(112)을 포함한다.
도가니 몸체(111)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 증발용 도가니(110)의 몸체를 이루고, 박막 형성용 물질(도 4의 “L” 참조)이 담길 수 있는 형상을 가지며, 그리고 박막 형성용 물질(L)이 외부로 증발될 수 있도록 한 면이 개방된 형태를 가진다. 예를 들어, 도가니 몸체(111)는 열전도가 우수한 금속 재질로 이루어질 수 있다.
반응 차단막(112)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 도가니 몸체(111)의 내면에 형성되어 도가니 몸체(111)와 박막 형성용 물질(L)의 반응을 차단하는 역할을 한다. 예를 들어, 도가니 몸체(111)가 금속 재질로 이루어질 경우, 반응 차단막(112)은 도가니 몸체(111)와의 통전을 차단하는 절연 재질로 이루어질 수 있다.
따라서, 반응 차단막(112)이 도가니 몸체(111)와 박막 형성용 물질(L) 사이에 형성되는 기술구성이 제공되므로, 박막 형성용 물질(L)이 반응 차단막(112)에 대부분 가로 막혀 고온에서 박막 형성용 물질(L)과 도가니 몸체(111)의 반응이 방지되어, 박막 형성용 물질(L)로부터 도가니 몸체(111)가 식각되는 현상을 최소화할 수 있다.
나아가, 도 2에 도시된 바와 같이, 도가니 몸체(111)와 반응 차단막(112)은 일체로 이루어질 수 있다. 반응 차단막(112)은, 일 예로 도가니 몸체(111)의 내면이 질화처리되어 도가니 몸체(111)의 내면에 일체로 형성되거나, 다른 예로 도가니 몸체(111)의 내면이 산화처리되어 도가니 몸체(111)의 내면에 일체로 형성될 수 있다. 구체적으로, 질화처리 또는 산화처리에 의해 도가니 몸체(111)의 내면에 표면 열처리가 이루어지면 금속 재질인 도가니 몸체(111)의 내면이 질화 또는 산화되면서 절연 재질로 변질이 일어나고, 절연 재질로 변질되는 동안 도가니 몸체(111)와 일체를 이루는 절연 재질의 반응 차단막(112)이 생성된다. 결과적으로, 도 2의 확대도에 도시된 바와 같이, 증발용 도가니(110)는 일체형의 2층 구조를 가질 수 있다.
따라서, 도가니 몸체(111)와 반응 차단막(112)을 일체로 형성하는 기술이 제공되므로, 도가니 몸체(111)의 내면에 별도로 절연 재질의 반응 차단막을 부착하는 기술에 비해, 증발용 도가니(110)의 내구성을 향상시킬 뿐만 아니라 증발용 도가니(110)의 구성을 단순화시킬 수 있다.
이와 더불어, 상술한 본 발명의 일 실시예에 따른 증발용 도가니(110)는, 도 3 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 변형 방지 부재(PM)를 더 포함할 수 있다.
변형 방지 부재(PM)는, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 도가니 몸체(111)의 내부에 구비되며, 도가니 몸체(111)의 바닥면에 그 일단이 놓이고 그 타단이 박막 형성용 물질(L)의 수위보다 높게 위치되어, 박막 형성용 물질(L)이 냉각되는 동안 도가니 몸체(111)의 변형을 막는 역할을 한다.
따라서, 변형 방지 부재(PM)가 도가니 몸체(111)의 내부에 놓이되 그 일단이 도가니 몸체(111)의 바닥면에 놓이고 타단이 박막 형성용 물질(L)의 수위보다 높게 위치되는 기술구성이 제공되므로, 증착공정 종료 후 도가니 몸체(111)를 냉각시키는 과정에서 내부에 잔류하고 있던 박막 형성용 물질(L)이 그 표면에서부터 고체화되면서 발생되는 표면 장력, 열 팽창력 또는 열 수축력이 변형 방지 부재(PM)에 의해 분산되어 도가니 몸체(111)의 변형을 최소화할 수 있다.
일 예로, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 변형 방지 부재(PM)는, 도가니 몸체(111)의 길이 방향과 평행한 방향으로 놓인 복수개의 원기둥 막대(113a)와, 복수개의 원기둥 막대(113a)를 도가니 몸체(111)의 바닥면에 지지하는 받침대(113b)를 포함하여 이루어질 수 있다. 다른 예로, 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 변형 방지 부재(PM)는, 도가니 몸체(111)의 길이 방향과 평행한 방향으로 놓이며 도가니 몸체(111)의 바닥면에 지지되는 원통형 구조물(114)일 수 있다.
따라서, 변형 방지 부재(PM)가 도가니 몸체(111)의 길이 방향과 평행한 방향으로 놓이는 기술구성이 제공되므로, 표면 장력 등에 의해 발생되는 도가니 몸체(111)의 수직 방향의 변형[즉, 도가니 몸체(111)의 길이 방향에 대해 수직한 방향으로 작용하는 변형]을 최소화하여, 즉 박막 형성용 물질(L)의 표면부에서 도가니 몸체(111)를 외측으로 밀거나 내측으로 끌어 당기는 힘을 분산시켜 도가니 몸체(111)의 변형을 최소화할 수 있다.
이하, 도 7을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 증발원(100)을 포함한 진공 증착 장치에 대해 상세히 설명한다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공 증발원을 포함한 진공 증착 장치를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
진공 증착 장치는, 도 7에 도시된 바와 같이, 챔버(200)와, 기판 지지부(300)와, 그리고 진공 증발원(100)을 포함한다.
챔버(200)는 실질적으로 진공 증착이 이루어지는 작업 공간으로 진공 분위기를 갖는다. 기판 지지부(300)는 챔버(200)에 구비되며 기판(10)의 일면을 지지한다. 진공 증발원(100)은 상술한 본 발명의 일 실시예와 동일하므로 구체적인 설명을 생략한다.
나아가, 박막 형성 물질(L)을 기판(10) 상에 균일하게 형성하기 위하여, 기판(10)을 장착하는 기판 지지부(300)를 모터(400)에 의해 회전시키거나 이동시키는 기술구성을 추가할 수 있다.
이상에서와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 증발용 도가니와 이를 포함하는 진공 증발원 및 진공 증착 장치는 다음과 같은 효과를 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 반응 차단막(112)이 도가니 몸체(111)와 박막 형성용 물질(L) 사이에 형성되는 기술구성이 제공되므로, 박막 형성용 물질(L)이 반응 차단막(112)에 대부분 가로 막혀 고온에서 박막 형성용 물질(L)과 도가니 몸체(111)의 반응이 방지되어, 박막 형성용 물질(L)로부터 도가니 몸체(111)가 식각되는 현상을 최소화할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 의하면, 변형 방지 부재(PM)가 도가니 몸체(111)의 내부에 놓이되 그 일단이 도가니 몸체(111)의 바닥면에 놓이고 타단이 박막 형성용 물질(L)의 수위보다 높게 위치되는 기술구성이 제공되므로, 증착공정 종료 후 도가니 몸체(111)를 냉각시키는 과정에서 내부에 잔류하고 있던 박막 형성용 물질(L)이 그 표면에서부터 고체화되면서 발생되는 표면 장력, 열 팽창력 또는 열 수축력이 변형 방지 부재(PM)에 의해 분산되어 도가니 몸체(111)의 변형을 최소화할 수 있다. 특히, 변형 방지 부재(PM)가 도가니 몸체(111)의 길이 방향과 평행한 방향으로 놓일 경우, 표면 장력 등에 의해 발생되는 도가니 몸체(111)의 수직 방향의 변형[즉, 도가니 몸체(111)의 길이 방향에 대해 수직한 방향으로 작용하는 변형]을 최소화하여, 즉 박막 형성용 물질(L)의 표면부에서 도가니 몸체(111)를 외측으로 밀거나 내측으로 끌어 당기는 힘을 분산시켜 도가니 몸체(111)의 변형을 최소화할 수 있다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
10: 기판 100: 진공 증발원
110: 증발용 도가니111: 도가니 몸체
112: 반응 차단막PM: 변형 방지 부재
113a: 원기둥 막대113b: 받침대
114: 원통형 구조물L: 박막 형성용 물질
120: 가열부(또는 열선)130: 냉각부
140: 제1 케이스150: 제2 케이스
160: 열 반사판170: 지지봉
180: 지지대190: 전원 공급부
200: 챔버300: 기판 지지부
400: 모터

Claims (9)

  1. 진공 상태에서 기판이나 웨이퍼에 박막 형성용 물질을 증착시키기 위한 증착공정을 위해 진공 증발원에 사용되는 증발용 도가니에 있어서,
    상기 증발용 도가니의 몸체를 이루며 박막 형성용 물질이 담기는 도가니 몸체; 및
    상기 도가니 몸체의 내면에 형성되어 상기 도가니 몸체와 상기 박막 형성용 물질의 반응을 차단하는 반응 차단막을 포함하고,
    상기 증발용 도가니는,
    상기 도가니 몸체의 내부에 구비되며 상기 도가니 몸체의 바닥면에 일단이 놓이고 타단이 상기 박막 형성용 물질의 수위보다 높게 위치되어 상기 박막 형성용 물질이 냉각되는 동안 상기 도가니 몸체의 변형을 막는 변형 방지 부재를 더 포함하고,
    상기 증착공정이 종료된 후 상기 도가니 몸체를 냉각시키는 과정에서 상기 도가니 몸체의 내부에 잔류하고 있던 상기 박막 형성용 물질이 그 표면에서부터 고체화되면서 발생되는 표면 장력, 열 팽창력 또는 열 수축력이 상기 변형 방지 부재에 의해 분산되는
    증발용 도가니.
  2. 제1항에서,
    상기 도가니 몸체는 금속 재질로 이루어지고,
    상기 반응 차단막은 절연 재질로 이루어지는 증발용 도가니.
  3. 제2항에서,
    상기 도가니 몸체와 상기 반응 차단막은 일체로 이루어지는 증발용 도가니.
  4. 제3항에서,
    상기 반응 차단막은 상기 도가니 몸체의 내면이 질화처리 또는 산화처리 되어 상기 도가니 몸체의 내면에 일체로 형성되는 증발용 도가니.
  5. 삭제
  6. 제1항에서,
    상기 변형 방지 부재는, 상기 도가니 몸체의 길이 방향과 평행한 방향으로 놓인 복수개의 원기둥 막대; 및 상기 복수개의 원기둥 막대를 상기 도가니 몸체의 바닥면에 지지하는 받침대를 포함하는 증발용 도가니.
  7. 제1항에서,
    상기 변형 방지 부재는
    상기 도가니 몸체의 길이 방향과 평행한 방향으로 놓이며 상기 도가니 몸체의 바닥면에 지지되는 원통형 구조물인 증발용 도가니.
  8. 박막 형성용 물질이 담기는 제1항 내지 제4항, 제6항 내지 제7항 중 어느 한 항의 증발용 도가니;
    상기 증발용 도가니의 외부에 구비되며 상기 증발용 도가니를 가열하는 가열부; 및
    상기 증발용 도가니의 외부에 구비되며 상기 증발용 도가니를 냉각시키는 냉각부
    를 포함하는 진공 증발원.
  9. 내부를 진공 분위기로 유지하기 위한 챔버;
    상기 챔버 내에서 기판의 일면을 지지하는 기판 지지부; 및
    상기 챔버의 한 면에 구비되어 상기 기판에 박막 형성용 물질을 가하는 제8항의 진공 증발원
    을 포함하는 진공 증착 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220098491A (ko) * 2021-01-04 2022-07-12 이승범 차단막 제공 장치 및 이를 포함하는 시스템

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003300566A (ja) 2002-04-12 2003-10-21 Sanken:Kk 揮散容器

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102011000502A1 (de) * 2011-02-04 2012-08-09 Solibro Gmbh Abscheidevorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Tiegels hierfür

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003300566A (ja) 2002-04-12 2003-10-21 Sanken:Kk 揮散容器

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190101680A (ko) 2018-02-23 2019-09-02 공주대학교 산학협력단 무기물 증착용 시트 타입 히터 및 무기물 증착용 진공 증착원 장치
KR20210082783A (ko) 2019-12-26 2021-07-06 주식회사 선익시스템 박막 증착용 도가니장치 및 상기 도가니장치의 절연 가이드링

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