JP4857456B2 - 真空成膜装置 - Google Patents
真空成膜装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4857456B2 JP4857456B2 JP2000158647A JP2000158647A JP4857456B2 JP 4857456 B2 JP4857456 B2 JP 4857456B2 JP 2000158647 A JP2000158647 A JP 2000158647A JP 2000158647 A JP2000158647 A JP 2000158647A JP 4857456 B2 JP4857456 B2 JP 4857456B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- roll
- chamber
- tension
- film forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ロールツーロール方式でフィルム表面に薄膜を形成する構成の真空成膜装置での、搬送されるフィルムの張力を制御する機構の改良に関する。
特に、ロールツーロール方式のうち、間欠的にフィルムを搬送→停止・成膜が行なわれるステッピングロール方式の真空成膜装置での上記改良に関する。
本発明の適用される分野としては、複数の電極層および半導体層などを有する多層の薄膜半導体素子が代表的であり、太陽電池素子,透明電極,タッチパネルなどの製造に好適である。
【0002】
【従来の技術】
複数の電極層および半導体層などを有する薄膜半導体装置の代表例として、アモルファスシリコン(以下a−Siと記す)を主原料とした半導体層を光電変換層とし、電極層がこの層を挟む構造の薄膜太陽電池が公知である。
【0003】
発電量の点から太陽電池の大面積化に対する要求が強く、このような大面積の薄膜太陽電池の製造方式としては、枚葉方式より生産性の優れているロールツーロール方式の連続巻き取り方式またはステッピングロール方式による製造の実現が要求されている。
【0004】
これらの方式は、ロールに巻かれた長尺の高分子材料あるいはステンレス鋼などの金属材料からなるフレキシブル(可撓性)の基板を、各成膜室に順次に送りながら、基板上に光電変換層,電極層などの各層を各成膜室毎に形成して、薄膜太陽電池を製造する方式である。
前者は、各成膜室内を連続的に移動する基板上に成膜し、後者は各成膜室内で同時に停止させた基板上に成膜し、成膜の終わった基板部分を次の成膜室へ送り出している。
ステッピングロール方式の成膜装置は、隣接する成膜室間でのガスの相互拡散を防止できることから、各薄膜の特性が安定して得られる点で優れている。
【0005】
太陽電池を構成する光電変換素子の成膜においては、光電変換層各層、例えばp−i−n構成の太陽電池の場合、i層に対してp層およびn層はppmオーダーのジボラン,フォスフィンなどの微量元素の添加(=ドーパント)によって膜特性を規定しているため、ステッピングロール方式において、フィルムを搬送する際に成膜面にローラが接触してしまうと、ロール表面に残留した微量元素の成膜面上への転移または機械的応力によりデリケートな各層の界面に影響を与えてしまう。
【0006】
上記の事情から、成膜が施されることになるフィルム表面には、搬送ロールを接触させないようにする工夫が必要となる。
また、成膜準備および成膜自体において、約200°前後の加熱処理が必要な場合もあり、高分子材料(樹脂)製のフィルムでは、温度上昇により伸び・たるみを生じてしまい、設計通りの成膜が行なわれない。
本発明は、ステンレス鋼などの金属材料よりも「温度上昇による伸び・たるみ」が問題となり、成膜に十分な耐熱性および可撓性は備える材料からなるフレキシブル基板を用いる場合に、特に有効である。
【0007】
そのため、ステッピングロール方式では、成膜中の温度上昇によるフィルムの伸びを吸収して、成膜室内のフィルムに張力を付与する機構が必要となる。
従来のそれは、図1に示すダンサロールなどが使用されていた。
同図に示すように、搬送されるフィルムに接するダンサロールが、同図上方に移動することにより、フィルムの搬送路(パス)を長くして、その上流または下流に位置する温度上昇で伸びたフィルムに張力を付与する機構である。
しかしながら、ダンサロールの上下動(ストローク)を大きくとらなければ、吸収できる伸びの量が少ないこと、軸やロールが移動するためのスペースを確保しなければならないという問題があった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
このように、生産性および成膜室の相互拡散防止において優れるステッピングロール方式の成膜装置においても、成膜面の汚染防止・フィルム搬送の観点からは、未解決の問題点を有している。
本発明は、前記問題点を鑑みなされたものであり、その目的とするところは、成膜面への種々の影響を排除した上で、フィルムの張力を付与(制御)する機構を装置に備えることにより、各薄膜の特性を安定して得られる巻き取り式フィルム太陽電池成膜装置(に例示される真空成膜装置)を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明は、
ロールツーロール方式(または、ステッピングロール方式)でフィルム表面に薄膜を形成する真空成膜装置において、搬送されるフィルムの幅方向に平行なローラ対によりフィルムを表裏から挟んだ状態で、ローラ対の相対位置を維持しながら、ローラ対の軸線に平行な任意の回転軸を中心にして回転変位を与えることにより、フィルムの搬送経路を変位させて、フィルム張力を制御する機構を有することを特徴とする真空成膜装置である。
【0010】
<作用>
本発明の構造の「フィルム張力の制御機構」によると、
フィルムの伸びを、一対のローラの回転によって巻き込んで吸収し張力を付与することができ、前述のダンサロールのように、軸やロールが大きく上下動する動作が無く、装置の省スペース化の上で有効である。
【0011】
好ましくは、一対のローラーが、適度な間隔を空けて離間できる構成とすることにより、成膜の行なわれるフィルム表面が搬送されて、ローラー間を通過する際に、前記フィルム表面はローラ表面に接触することがないので、成膜面を清浄に保つことができる。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を、フレキシブル(可撓性)基材に対して光電変換層を形成する太陽電池用の真空成膜装置について説明する。
図2は、太陽電池成膜装置の全体構成を示す説明図である。
上記装置は、真空成膜法によりフィルム上に薄膜太陽電池の光電変換部を形成する成膜室を有するステッピングロール方式の成膜装置であって、フィルムが、巻き出しロール2から巻き取りロール8に搬送される間、成膜に必要なガス雰囲気以外の気体に曝されることなく、また、搬送に必要な張力以外の機械的外力に曝されること無く成膜を施すことができる構成である。
【0013】
フィルムは、n層成膜室18→i層成膜室17→p層成膜室19を順に経由して、光電変換部が形成される。
各成膜室の前後には、成膜が行なわれるフィルム表面の清浄や温度調整などの成膜準備と共に、成膜室内の雰囲気と成膜前後のフィルムを隔離するための中間室が備えられている。
隔離は、ゲートバルブ10〜15によって確実にされる。
【0014】
本発明の主要部である「フィルム張力の制御機構」は、各中間室内に備えられている。
前記機構は、前述の通り、フィルムの幅方向に平行な一対のローラーが、フィルムを挟んで対抗する位置に配置され、この一対のローラの軸線に平行した軸を中心に回転変位を与えることにより、フィルムの搬送路(パス)を変位させて、ローラで巻き取り、フィルム張力が制御され、一般には、熱に起因するフィルムの伸びを吸収し、適正な張力を付与することができる。
成膜室と中間室、およびゲートバルブの構造を、図3に拡大して示す。
また、「フィルム張力の制御機構」の駆動の一例を、図4に示す。
【0015】
以下、装置および機構の動作を詳細に説明する。
まず、図2および図3に従って、ステッピングロール方式による本発明に係る太陽電池成膜装置の説明をする。
【0016】
巻き出し室1に配置された成膜前のロールフィルム2は、アイドルロール3からテンションロール4を経て第一の中間室5に入る。
この間、フィルム6は、テンションロール4に設置された(図示しない)張力検出器により検出された張力値が電気信号に変換され、(図示しない)巻き出し軸に連結されたモータの制御ループにフィードバックされることにより、所定の張力に制御されることになる。
【0017】
巻き取り室7においても、同様に巻き取り張力の制御が行われ、成膜後のロールフィルム8として巻き取られる。
所定の長さ、即ち成膜室−中間室の間隔相当分の長さが繰り出されて搬送された後、フィルムは停止する。
停止後、中間室では、図3に示すように、駆動ロールが隣接した成膜室内のフィルムに適正な張力を与え、電極に対するフィルムの距離を一定に保たれる。
この際の張力は、駆動ロールの回転角により定義され制御される。
【0018】
以上は、ステッピングロール方式の成膜装置に係る説明であるが、ロールツーロール方式の成膜装置についても、フィルムの搬送は一対のローラの間で行われるので、例えば、単層のみの成膜が行なわれるような装置では、成膜されるフィルム表面には非接触な構成をとるならば、本発明が適用される。
【0019】
次に、図4および図5に従って、本発明の主要部である「フィルムの張力制御機構」の駆動の一例について説明する。
図4は、一対の巻き込みローラ22の軸線に平行な軸を、巻き込みローラ22同士の中心を結んだ中点に置き、回転変位を与えることによってフィルムに張力を付与する例に係る説明図である。
【0020】
一対の巻き込みローラの中心間距離を30mm、巻き込みローラ,フリーロールの径をφ50mmとした場合の、駆動ロールの回転変位(deg)とフィルム行程距離の増分(mm)との関係を図5に示す。
これにより、一対の巻き込みローラ22の回転変位量に応じてフィルムの行程距離が変化し、任意の張力を付与することができ、本発明の目的が果たされる。
【0021】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によって、ステッピングロール方式で成膜が行われる場合は、成膜室内のフィルムに適正な張力が与えられると共に、成膜面への種々の悪影響が排除され、各薄膜の特性を安定して得られるような、生産性の高い巻き取り式フィルム太陽電池の生産が可能となる。
【0022】
本発明の「フィルムの張力制御機構」では、前記機構を配置する間隔や数量を調整することにより、上流〜下流の複数の成膜箇所のそれぞれで、任意の張力をフィルムに付与することができる。
【0023】
さらに、前記機構は、駆動ローラの回転によってフィルムを巻き込んで張力を付与する性質を有しており、装置前後のフィルムの行程(パス)に大幅な変化が生じないことから、従来のダンサロールと比べて、設置スペース上の制約は受けない構成である。
【0024】
【図面の簡単な説明】
【図1】フィルムに張力を付与する手段として用いられている従来技術の1つであるダンサロールの説明図。
【図2】本発明に係るフィルム張力制御機構を内蔵した太陽電池成膜装置の全体を示す説明図(側面図)。
【図3】本発明に係るフィルム張力制御機構の説明図。
【図4】本発明に係るフィルム張力制御機構の駆動例を示す説明図。
【図5】本発明に係るフィルム張力制御機構の駆動例における駆動ロールの回転変位(deg)とフィルム行程距離の増分(mm)との関係を示すグラフ。
【符号の説明】
1…巻き出し室
2…成膜前のロールフィルム
3…アイドルロール
4…テンションロール
5…中間室
6…フィルム
7…巻き取り室
8…成膜後のロールフィルム
9…巻き出し室ゲートバルブ
10…ゲートバルブ
11…ゲートバルブ
12…ゲートバルブ
13…ゲートバルブ
14…ゲートバルブ
15…ゲートバルブ
16…巻き取り室ゲートバルブ
17…i層成膜室
18…n層成膜室
19…p層成膜室
20…駆動ロール
21…フリーロール
22…巻き込みロール
23…フィルム
Claims (4)
- ロールツーロール方式でフィルム表面に薄膜を形成する真空成膜装置において、搬送されるフィルムの幅方向に平行なローラ対によりフィルムを表裏から挟んだ状態で、ローラ同士の相対位置を維持しながら、当該ローラ対の軸線に平行な回転軸を前記ローラの中心を結んだ中点に置き、当該ローラ対に対し回転変位を与えることにより、フィルムの搬送経路を変位させて、フィルムの張力を制御する機構を有することを特徴とする真空成膜装置。
- ステッピングロール方式の真空成膜装置であり、
複数の成膜室と、
各成膜室の前後には、成膜が行なわれるフィルム表面の清浄や温度調整などの成膜準備と共に、成膜室内の雰囲気と成膜前後のフィルムを隔離するための中間室を備え、
中間室内に、フィルムの張力を制御する機構を備えることを特徴とする請求項1に記載の真空成膜装置。 - 張力の制御は、成膜が行われない領域にあたるフィルム表面が、中間室に存在する際に行なわれ、
前記ローラ対の間を、成膜が行われる領域のフィルム表面が通過する際には、少なくとも成膜面側に接するローラの接触が解除される構成であることを特徴とする請求項2に記載の真空成膜装置。 - 複数の成膜室では、半導体層または電極層が形成されることを特徴とする請求項2または3に記載の真空成膜装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000158647A JP4857456B2 (ja) | 2000-05-29 | 2000-05-29 | 真空成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000158647A JP4857456B2 (ja) | 2000-05-29 | 2000-05-29 | 真空成膜装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001339082A JP2001339082A (ja) | 2001-12-07 |
JP4857456B2 true JP4857456B2 (ja) | 2012-01-18 |
Family
ID=18663084
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000158647A Expired - Fee Related JP4857456B2 (ja) | 2000-05-29 | 2000-05-29 | 真空成膜装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4857456B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101024017B1 (ko) | 2008-06-30 | 2011-03-29 | 세종대학교산학협력단 | 롤투롤 공정에서 분산 처리 장력 관측 방법 |
KR101002188B1 (ko) | 2008-12-22 | 2010-12-20 | 주식회사 야스 | 박막형 반도체 소자를 유연한 기판에 제작하는 롤투롤 장치 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2737681A1 (de) * | 1977-08-20 | 1979-02-22 | Philips Patentverwaltung | Verfahren zur herstellung elektrischer gluehlampen mit wenigstens einer kolbenquetschung |
JPH07254566A (ja) * | 1994-03-16 | 1995-10-03 | Fuji Electric Co Ltd | 薄膜生成装置 |
JP2902953B2 (ja) * | 1994-10-17 | 1999-06-07 | 株式会社富士電機総合研究所 | 薄膜光電変換素子の製造装置 |
JPH09307128A (ja) * | 1996-05-20 | 1997-11-28 | Fuji Electric Co Ltd | 薄膜光電変換素子の製造装置および製造方法 |
JPH10150216A (ja) * | 1996-11-19 | 1998-06-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 太陽電池の製造装置とそれに使用する印刷装置 |
JPH11236669A (ja) * | 1998-02-23 | 1999-08-31 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | 薄膜形成方法および薄膜形成装置 |
-
2000
- 2000-05-29 JP JP2000158647A patent/JP4857456B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001339082A (ja) | 2001-12-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8088224B2 (en) | Roll-to-roll evaporation system and method to manufacture group IBIIAVIA photovoltaics | |
EP2200098B1 (en) | Production system of thin film solar battery | |
US5364481A (en) | Apparatus for manufacturing a thin-film photovoltaic conversion device | |
KR100269936B1 (ko) | 퇴적막형성방법및장치 | |
US4664951A (en) | Method provided for corrective lateral displacement of a longitudinally moving web held in a planar configuration | |
KR101002188B1 (ko) | 박막형 반도체 소자를 유연한 기판에 제작하는 롤투롤 장치 | |
WO2010073955A1 (ja) | 可撓性基板の処理装置 | |
EP2020392B1 (en) | Apparatus for manufacturing thin-film laminated member | |
KR20100126717A (ko) | 태양 전지의 제조 방법 | |
JP2009038276A (ja) | 薄膜積層体の製造装置 | |
JP2008031505A (ja) | 成膜装置および成膜方法 | |
US20020016017A1 (en) | Process for producing a semiconductor device | |
JP2009179838A (ja) | 薄膜製造装置 | |
JP2009057632A (ja) | 薄膜積層体の製造装置 | |
JP4857456B2 (ja) | 真空成膜装置 | |
JP2009038277A (ja) | 薄膜積層体の製造装置 | |
JP2000261015A (ja) | 太陽電池成膜装置 | |
KR20120091111A (ko) | 모듈형 기판 프로세싱 시스템 및 방법 | |
US20120247389A1 (en) | Apparatus for manufacturing thin film stacked member | |
JP3560134B2 (ja) | 薄膜半導体の製造装置 | |
JP5018523B2 (ja) | 薄膜積層体の製造装置 | |
JPH0982652A (ja) | 半導体薄膜の形成方法および形成装置 | |
JP4780474B2 (ja) | 薄膜積層体の製造方法および製造装置 | |
JP5169068B2 (ja) | 薄膜太陽電池の製造装置 | |
JP2006045593A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070424 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090929 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091020 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101102 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101210 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111004 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111017 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141111 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |