JPH10150216A - 太陽電池の製造装置とそれに使用する印刷装置 - Google Patents

太陽電池の製造装置とそれに使用する印刷装置

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JPH10150216A
JPH10150216A JP8322103A JP32210396A JPH10150216A JP H10150216 A JPH10150216 A JP H10150216A JP 8322103 A JP8322103 A JP 8322103A JP 32210396 A JP32210396 A JP 32210396A JP H10150216 A JPH10150216 A JP H10150216A
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film
semiconductor layer
type semiconductor
conductive film
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JP8322103A
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Masaru Sasaki
賢 佐々木
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 太陽光線収束要素を備えた、発電効率の高い
フィルム状の太陽電池を連続して製造する装置とそれに
使用する印刷装置を提供する。 【解決手段】 フィルム上に第1の電極である導電膜の
パターンを形成する手段、当該導電膜パターンに重畳し
て、n型、i型、p型の各半導体層をそれぞれ塗布し乾
燥する手段、絶縁層を形成する手段、第2の電極である
透明導電膜のパターンを形成する手段からなる第1の製
造ラインと、これとは別に太陽光線収束要素を形成する
第2の製造ラインとを有し、当該第1の製造ラインで形
成された太陽電池フィルム上に、当該第2の製造ライン
で得られた太陽光線収束要素を貼り合わせる貼合せ装置
と、により太陽電池を効率的に量産できる製造装置が得
られる。また、それに使用する印刷装置には、各半導体
層の酸化を防止できる窒素ガスによる乾燥装置が設けら
れている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は太陽電池の製造装
置とそれに使用する印刷装置に関する発明である。特
に、フィルム状の太陽電池を印刷方式により製造するこ
とを特徴とする。
【0002】
【従来の技術】太陽電池の素子構造としては、pin
型、MIS型、ヘテロ接合型などが知られているが、も
っとも実用的な構成は、例えば、第1の電極となる導電
膜層上にn型半導体層、i型半導体層、p型半導体層を
重畳して順次形成し第2の電極となる透明導電膜層を形
成するかまたはその逆で、p型半導体層、i型半導体
層、n型半導体層を重畳して順次形成した後に、第2の
電極となる透明導電膜層を形成する構成が知られてい
る。
【0003】ここで、光起電力発生層の製造方法は、蒸
着、スパッタリングによる方法が知られている。しか
し、これらの方法は量産性に欠け、大面積の光起電力発
生層を安価に製造することは困難である。一方、導電性
の薄膜を有するプラスチックフィルム支持体上に二層以
上からなる半導体薄膜層をワイヤーバーにより塗布して
設け、さらにその上に透明電極層及び保護層をこの順に
積層する製造方法も考えられる(特開平7−18355
5号)。しかし、この製法は実験室的な製造方法を示唆
するもので、必ずしも量産を意図する実際的なものでは
ない。また、光起電力発生層の上には、太陽光線収束要
素が設けられていないので効率的な太陽光発電をするこ
とができない。そこで、本発明は、太陽光線収束要素を
備えた発電効率の高い太陽電池の量産装置を提供すべく
なされたものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の要旨の第1は、連続して流れる基材フィルム
上に太陽光線収束要素を備える太陽電池を製造する装置
であって、(1)絶縁性基材フィルム上に第1の電極の
導電膜パターンを形成する手段と、当該導電膜パターン
に重畳して、n型半導体層、i型半導体層、p型半導体
層をそれぞれ塗布する手段と、第2の電極の透明導電膜
パターンを形成する手段、とを備えるフィルム状太陽電
池を製造する第1の製造ラインと、(2)太陽光線収束
要素のレンズ形状を形成する手段と、当該太陽光線収束
要素の表面層を付加する手段、とを備える太陽光線収束
要素を製造する第2の製造ラインと、(3)当該第1の
製造ラインで製造されたフィルム状太陽電池表面に、当
該第2の製造ラインで形成された太陽光線収束要素を貼
り合わせる貼合せ装置と、を具備することを特徴とする
太陽電池の製造装置、にある。かかる装置により、光電
変換効率の高い太陽電池を効率的に量産することができ
る。
【0005】上記課題を解決するための本発明の要旨の
第2は、太陽電池製造のために使用される印刷装置であ
って、半導体層塗布後の塗膜乾燥のために、加熱した窒
素ガスを供給する機能を有することを特徴とする印刷装
置、にある。かかる印刷装置により塗布された半導体層
の酸化を防止して塗膜を乾燥させることができる。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明は、基本的には、フィルム
状の太陽電池を印刷塗布方式で製造することと、当該フ
ィルム状太陽電池上に太陽光線の収束効率を高めるレン
ズ形状を形成し、当該形成した太陽電池収束要素をフィ
ルム状太陽電池に貼り合わせて一体として太陽電池を製
造する一貫製造装置を企図するものである。ここに太陽
光線収束要素は、全体としては太陽光の照射される面積
を増大させるものではないが、1日または年間における
太陽光の照射角度変化に対して、平均した光照射を受け
ることを可能とすることを目的としている。図7は、太
陽光線収束要素に入射する太陽光の日変化を示す図であ
る。図7のようなレンズを使用する場合には、表面が平
面状である場合には、太陽光が斜めに入射する朝夕は光
が全反射して殆ど有効な起電力を得られない場合にも、
太陽光線を電池表面に収束して、日中変化の少ない起電
力を得ることができる効果を有する。
【0007】次に、本発明装置の実施形態を図面を参照
して説明する。図1は、本発明になる太陽電池製造装置
の全体構成を示す図である。本発明装置は、フィルム状
太陽電池102を製造する第1の製造ライン100と、
太陽光線収束要素205を製造する第2の製造ライン2
00と、両者を一体にする貼合せ部300とから構成さ
れている。第1の製造ラインでは、基材フィルム101
を供給して、フィルム状太陽電池102を製造し、第2
の製造ラインでは、基材フィルム201を供給して、太
陽光線収束要素205を製造する。
【0008】第1の製造ライン100は、太陽電池を構
成する各塗膜や塗布層を形成するための各ユニットが主
要装置であって、これらには、第1の電極である導電膜
形成部110、n型半導体層形成部120、i型半導体
層形成部130、p型半導体層形成部140、絶縁層形
成部150、第2の電極である透明導電膜形成部160
がある。絶縁層形成部は、第1の電極の導電膜と第2の
電極の透明導電膜との接触を防止するもので、両者の接
触が生じないパターンの場合は設ける必要がない。図1
は、pin型太陽電池製造を目的として各半導体層の塗
布順序が構成されているが、nip型太陽電池製造の場
合は、各半導体層の塗布順序を、p型、i型、n型の順
とすれば良い。その他、第1の製造ラインには、乾燥用
ガス供給装置170、太陽電池基材フィルムを供給する
第1基材供給部180と完成した太陽電池を巻き取る巻
取り部185および第1の張力制御部190、第2の張
力制御部191、第3の張力制御部192が設けられて
いる。
【0009】第2の製造ライン200は、太陽光線収束
要素を製造する装置部であって、太陽光線収束のため
の、レンズ形状を形成するレンズ形成部210と、レン
ズ面に表面層を付加する貼合せ部220が主要装置であ
る。その他、第2の製造ラインには、太陽光線収束要素
の基材フィルムを供給する第2基材供給部230、表面
層となる低反射フィルム等を供給する第3基材供給部2
40、これらのフィルムの張力を制御する第4の張力制
御部250、第5の張力制御部251、第6の張力制御
部252、第7の張力制御部253および低反射フィル
ムの保護シートを巻き取る巻取り部270が設けられて
いる。
【0010】フィルム状太陽電池102と太陽光線収束
要素205を貼り合わせる貼合せ部300は、太陽光線
収束要素の基材フィルム側裏面に接着剤を塗布するダイ
ヘッド310とフィルム状太陽電池と接着剤面とを圧着
するニップローラ320とからなっている。
【0011】次に、本発明装置の各部の構成についてさ
らに詳細に説明する。図2は、第1の製造ラインにおけ
る、塗布ユニットを説明する図である。当該太陽電池の
導電膜、各半導体層、絶縁層、透明導電膜の形成部は、
いずれも基本的構造を同一とするユニットで形成するこ
とができる。n型半導体層塗布ユニット120を例とし
て説明すると、塗布ユニットは、塗布用の版胴121と
圧胴122、ドクターブレード123、塗布液パン12
4とそれらを支持するフレーム枠(不図示)および塗布
後の基材フィルムを乾燥する乾燥部125が基本構成と
なる。塗布用版胴には、グラビア版が好適に使用され
る。塗布液は、密閉型の塗布液パンに収容され、塵埃等
の混入を防止する目的で、ユニットのドクターブレード
側およびドクターブレードと反対側の塗布液パンの上面
は開閉可能な蓋124a等が設けられている。塗布液は
必要により液循環ポンプ126に連結されている。各半
導体塗布ユニットにおいては、半導体特性に影響を与え
る金属微粉末、金属イオンを発生させない材料を使用す
ることが好ましい。
【0012】乾燥部は、フィルム上に塗布した塗膜に5
0〜300°C程度の窒素ガスまたは炭酸ガスあるいは
アルゴンガス等の不活性ガスを吹きつけて乾燥させる。
乾燥用ガスに窒素ガスを使用する場合には、乾燥用窒素
ガス供給装置は、n型,i型,p型の各半導体層塗布後
の塗膜の乾燥に使用する。従って、窒素ガスは、n型,
i型,p型の各半導体層のユニットのみでなく必要によ
り、その後の乾燥ユニットにも設けることが望ましい。
図1では、絶縁層の乾燥部にまで窒素ガスが供給される
ように図示されている。つまり、各半導体層の塗布液を
版胴に形成した個々のパターンにあわせてフィルム上に
形成した後、窒素ガス雰囲気中で300°C以下の温度
で乾燥するためのものである。図2において、窒素ガス
は乾燥部125内にのみ充満するように図示されている
が好ましくは当該ユニット全体をカバーするのが良い。
【0013】乾燥用不活性ガス供給装置170は、例え
ば液体窒素ボンベから供給された窒素ガスを非循環で使
用しても良いが、循環して使用する構造とするのが経済
的には望ましい。この場合、窒素ガス循環部は極力密閉
された構造とし漏洩した窒素ガス相当部分をボンベから
補充するようにする。従って、循環系には充満した溶剤
を除去する溶剤回収装置を付帯することが必要である。
不活性ガス中で乾燥するのは、シリコン等の半導体の酸
化反応を防止する趣旨で、例えば窒素とシリコンとの反
応は起こり難く1000°C以上の高温の場合とされる
からである。
【0014】第1の電極である導電膜形成部110は、
絶縁性基材フィルムに導電膜を形成する部分で、溶剤中
に分散した酸化インジウムスズ粉末等が塗布される。第
2の電極である透明導電膜形成部160は、各半導体層
を形成した後の最上面に形成される導電膜で、この2層
により両電極を形成する。絶縁層は、両電極の接触を防
止するためのものである。第1の電極である導電膜は透
明であることが必須ではないので、他の導電材料を使用
することが可能であるが、太陽電池の裏面または反射光
を利用する場合は透明性のものが望ましい。例えば、絶
縁性基材フィルム上に反射層を形成しておけば、一端入
射した光が反射層で反射され再び太陽電池に光が照射さ
れるため変換効率が向上する。n型半導体層形成部12
0、i型半導体層形成部130、p型半導体層形成部1
40は、光起電力発生層になる部分であって、それぞれ
溶剤中に分散されたシリコン粉末が塗布される。
【0015】張力調整装置190,191,192は、
搬送中の基材フィルムの張力を一定に維持するもので、
これらには、ダンサーローラや公知の張力制御装置が採
用される。第1基材供給部180、巻取り部185にも
公知の装置が採用される。
【0016】第2の製造ラインは、太陽光線収束要素の
レンズ形状を形成するレンズ形成部210と、レンズ面
に低反射フィルムを貼り合わせる貼合せ部220を有す
る。図1において、211は、レンズ形状を賦型する型
ローラ、212は押圧ローラ。型ローラにはレンチキュ
ラーレンズ形状が、ローラ回転方向に平行または直交し
てストライプ状に凹刻されている。213は賦型のため
の紫外線硬化型樹脂を供給するダイス部である。型ロー
ラの下部周囲には、型ローラ内の樹脂を硬化させる紫外
線光源215が設けられている。このレンズ形状形成部
において、第2基材供給部230から供給された透明な
基材フィルム201上には型ローラ211と押圧ローラ
212が接触する部分において、上部から紫外線硬化樹
脂202が供給され、フィルム表面の樹脂は型ローラ内
に押圧される。型ローラ内の樹脂はローラ表面の樹脂フ
ィルムに接着するとともに、ローラ表面を搬送されるう
ちに照射紫外光線の作用により光硬化する。透明樹脂フ
ィルム上に形成されたレンズ形状は、ニップローラ21
6の部分で樹脂フィルムとともに型ローラより剥離され
る。
【0017】低反射フィルム貼合せ装置は、図1に図示
されるように、第3基材供給部240、貼合せ部22
0、保護シート巻取り部270から構成される。第3基
材供給部からは、保護シート上に接着剤付きで形成さた
薄層の低反射フィルム204が供給され、貼合せ部で、
太陽光線収束要素のレンズ面に貼り合わされる。低反射
フィルムは、太陽光線の反射を防止するもので耐候性に
優れたフッ化ビニルフィルム等が使用できる。また、低
反射コートがされていれば、アクリル系のフィルムであ
っても良い。レンズ面はレンチキュラーレンズ形状に成
型されているので、低反射フィルムがレンズの凹凸形状
と隙間を作らずに貼り合わされるためには、適当な硬度
のニップローラ222が必要とされる。
【0018】レンチキュラーレンズ形状に低反射フィル
ムを積層する方法として上記のように別工程で行わず、
一回の工程で行うこともできる。すなわち、レンズ形成
部210で基材フィルム201上に紫外線硬化樹脂20
2を流す際に型ローラ211に沿わせるように低反射フ
ィルム204を供給すれば、低反射フィルムは型ローラ
内に押圧されるので、紫外線硬化樹脂は基材フィルムと
低反射フィルムとに挟まれた形でレンズ形状を形成し一
回の工程で低反射フィルムの付いたレンチキュラーレン
ズを形成できる。
【0019】このようにして太陽電池収束要素205が
形成されると、次に当該収束要素はフィルム状太陽電池
と貼合せ部300により一体にされる。太陽電池収束要
素は裏面にダイコート310により接着剤を塗布され
て、フィルム状太陽電池102の第2の電極である透明
導電膜層上に貼り合わされる。この際、透明導電膜層が
ストライプ状のパターンで形成されている場合は、当該
ストライプ状パターンとレンチキュラーレンズ形状との
位置合わせに注意が必要である。すなわち、レンチキュ
ラーレンズによって収束された太陽光線のラインがスト
ライプ状の導電膜位置と一致する場合には、起電力が低
くなるからである。太陽光線収束要素205と貼り合わ
されたフィルム状太陽電池102は、太陽電池103と
して、巻取り機185に巻き取られる。あるいは、この
段階で適宜な長さに断裁してシート状の製品とすること
も可能である。
【0020】次に、本発明装置で製造される太陽電池の
具体的内容について説明する。図3は、本発明装置で製
造される並列接続用途の太陽電池の構成を示す図であ
る。基材フィルムの流れに直角な面での断面が図示され
ている。図3において、11は基材フィルムであって、
当該フィルム上に、第1の電極である導電膜12、n型
半導体層13、i型半導体層14、p型半導体層15、
絶縁層16、第2の電極である透明導電膜17が順次積
層形成されている。これらの積層体がフィルム状太陽電
池を構成している。当該フィルム状太陽電池上に、接着
剤18を介して、太陽光線収束要素が貼り合わされてい
る。太陽光線収束要素は、下から、基材フィルム21、
レンチキュラーレンズ22、低反射フィルム23が積層
され構成されている。この太陽電池は、平面状に横に配
列した太陽電池の第1の電極である導電膜12同士と、
第2の電極である透明導電膜17同士とが、それぞれ基
材上で連続したパターンを形成するので、並列接続して
使用でき大電流の出力が得られる。
【0021】図4は、本発明装置で製造される直列接続
用途の太陽電池の構成を示す図である。基材フィルムの
流れに平行な面での断面を示しているが、導電膜の断面
と半導体層の断面は同一の断面には現れないので、両者
を重ねた模式的な断面図となっている。図4において、
11は基材フィルムであって、当該フィルム上に、第1
の電極である導電膜12、n型半導体層13、i型半導
体層14、p型半導体層15、絶縁層16、第2の電極
である透明導電膜17が順次積層形成されている。これ
らの積層体がフィルム状太陽電池を構成している。当該
フィルム状太陽電池上に、接着剤18を介して、太陽光
線収束要素が貼り合わされている。太陽光線収束要素
は、下から、基材フィルム21、レンチキュラーレンズ
22、低反射フィルム23が積層され構成されている。
この太陽電池は、平面状に縦に配列した太陽電池の第1
の電極である導電膜12と、第2の電極である透明導電
膜17とが、図中「J」の部分で接続して形成されてい
るので、直列接続して使用でき大電圧の出力が得られ
る。
【0022】図5は、並列接続したフィルム状太陽電池
を形成する場合の版胴上のパターンを説明する図であ
る。図において、点線内は版胴の1円周における絵柄面
積を示しており、その側部における(+)マークは印刷
における見当トンボを示している。図の横方向に版胴の
軸(不図示)があり、縦方向に回転してパターンを形成
することになる。図5(A)は、第1の電極である導電
膜のパターンを示す。図5(B)は、n型、i型、p型
の各半導体層を形成するためのパターンであり、各半導
体層は共通の形状でよいため、1枚の図に示している。
図5(C)は、絶縁層を形成するためのパターンであ
る。絶縁層は第1と第2の電極の導電性層が重なり合う
部分の絶縁を図るためのパターンである。図5(D)
は、第2の電極である透明導電膜パターンを示す。当該
透明導電膜パターンは全面塗布ではなく、格子状または
ストライプ状であってもよい。第1の電極である導電膜
パターンは図5(A)の左側で連続した電極を形成し、
第2の電極である透明導電膜パターンは図5(D)の右
側で連続した電極を形成する。これらのパターンを見当
トンボの位置が一致するように印刷すれば、図3のよう
に電極が並列接続されたフィルム状太陽電池が得られ
る。
【0023】図6は、直列接続したフィルム状太陽電池
を形成する場合の版胴上のパターンを説明する図であ
る。図において、点線内は版胴の1円周における絵柄面
積を示しており、その側部における(+)マークは印刷
における見当トンボを示すこと、版胴軸との関係は、図
5の場合と同一である。また、図6(A)は、第1の電
極である導電膜のパターンを、図6(B)は、n型、i
型、p型の各半導体層を形成するためのパターンを、図
6(C)は絶縁層を、図6(D)は第2の電極である透
明導電膜パターンを示す。第1の電極は図中「J」の部
分で第2の電極である透明導電膜と接続するようにされ
ている。これらのパターンを見当トンボの位置が一致す
るように印刷すれば、図4のように電極が直列接続され
たフィルム状太陽電池が得られる。
【0024】
【実施例】
(実施例)図1に示す本発明の太陽電池製造装置により
太陽電池を製造する実施例について説明する。第1の供
給部より2軸延伸された厚さ100μm、幅1mのポリ
エチレンテレフタレートフィルムを供給した。フィルム
は第1の張力制御部でフィルムの張力が一定に保たれ、
第1の電極である導電膜形成部に供給され、次の組成の
塗布液を、グラビア版を使用して、2.5g/m2 とな
るように塗布した。 酸化インジウムスズ粉末 3.6g メチルエチルケトン 96.4g
【0025】次いで、第1の電極の導電膜が形成された
上に、次の組成の塗布液を、グラビア版を使用して順次
塗布し、n型、i型、p型の各半導体層を形成した。 (n型半導体層用) アモルファスシリコン粉末 5.4g リン粉末 0.6g メチルエチルケトン 94.0g (i型半導体層用) アモルファスシリコン粉末 5.4g メチルエチルケトン 94.6g (p型半導体層用) アモルファスシリコン粉末 5.4g ガリウム粉末 0.6g メチルエチルケトン 94.0g これら半導体層の塗布膜の乾燥は、窒素ガス供給装置よ
り供給されたガスを200°Cに加熱して噴射すること
により乾燥した。
【0026】次いで、第1の透明導電膜と第2の透明導
電膜が重なり合う部分の絶縁層を形成するために次の組
成の塗布液を、グラビア版で塗布した。 塩化ビニル系樹脂 5.0g トルエン 50.0g メチルエチルケトン 45.0g 最後に、第2の電極である透明導電膜層を、第1の電極
である導電膜層形成と同様にして形成した。なお、以上
の工程で使用した塗布パターンは、図5に図示するもの
を使用した。
【0027】次に、第2の製造ラインで、レンズ形状を
形成するために、第2の供給部より、厚さ50μm、幅
1mのポリエチレンテレフタレートフィルムを供給す
る。レンズ形状形成樹脂には紫外線硬化型の、ウレタン
アクリレート系樹脂を使用した。レンズ形状は、ピッチ
2mm、高さ1mmの半円形のリニア状のレンチキュラ
ーレンズ形状が形成されるように、型ローラにピッチ2
mmの半円形の凹刻溝が円周上に連続して形成されてい
るものを使用した。
【0028】次に、フィルムに形成した太陽電池に低反
射フィルムを積層するため、第3基材供給部240よ
り、低反射性のフッ化ビニルフィルム、厚さ30μm、
幅1mを張力を一定に保ちながら貼合せ部220に送り
出す。貼合せ部には、レンズ形成部210で製造された
レンチキュラーレンズ形状付きフィルム203を供給し
た。
【0029】低反射フィルムが積層された太陽光線収束
要素205のレンズ裏面に透明な接着剤(エポキシ系)
をダイコート部310で塗布した後、貼合せ部300の
ニップローラ320で、フィルム状太陽電池102に圧
着して一体にし太陽電池103を製造した。
【0030】
【発明の効果】本発明は、太陽光の変換効率を向上させ
るための太陽光線収束要素と軽くて設置が容易なフィル
ム状太陽電池とが一体にされた太陽電池を一貫して製造
する装置に関わり、当該太陽電池を効率的に量産するこ
とが可能となる。また、本発明の印刷装置によれば、半
導体の酸化を防止して、半導体層を塗布乾燥することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明になる太陽電池製造装置の全体構成を
示す図である。
【図2】 第1の製造ラインにおける、塗布ユニットを
説明する図である。
【図3】 本発明装置で製造される並列接続用途の太陽
電池の構成を示す図である。
【図4】 本発明装置で製造される直列接続用途の太陽
電池の構成を示す図である。
【図5】 並列接続したフィルム状太陽電池を製造する
場合の版胴上のパターンを説明する図である。
【図6】 直列接続したフィルム状太陽電池を製造する
場合の版胴上のパターンを説明する図である。
【図7】 太陽光線収束要素に入射する太陽光の日変化
を示す図である。
【符号の説明】
11 基材フィルム 12 第1の電極である導電膜 13 n型半導体層 14 i型半導体層 15 p型半導体層 16 絶縁層 17 第2の電極である透明導電膜 18 接着剤 21 基材フィルム 22 レンチキュラーレンズ 23 低反射フィルム 100 第1の製造ライン 200 第2
の製造ライン 101 基材フィルム 201 基材
フィルム 102 フィルム状太陽電池 202 紫外
線硬化樹脂 103 太陽電池 203 レン
ズ形状付きフィルム 110 第1の電極である導電膜形成部 204 低反
射フィルム 120 n型半導体層形成部 205 太陽
電池収束要素 130 i型半導体層形成部 210 レン
ズ形成部 140 p型半導体層形成部 211 型ロ
ーラ 150 絶縁層形成部 215 紫外
線光源 220 貼合せ部 222 ニップローラ 160 第2の電極である透明導電膜形成部 170 不活性ガス供給装置 180,230,240 基材供給部 185 巻取り部 190,191,192,250,251,252,2
53 張力制御装置 300 貼合せ部 310 ダイヘッド 320 ニップローラ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成9年7月17日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0006
【補正方法】変更
【補正内容】
【0006】
【発明の実施の形態】本発明は、基本的には、フィルム
状の太陽電池を印刷塗布方式で製造することと、当該フ
ィルム状太陽電池上に太陽光線の収束効率を高めるレン
ズ形状を形成し、当該形成した太陽光線収束要素をフィ
ルム状太陽電池に貼り合わせて一体として太陽電池を製
造する一貫製造装置を企図するものである。ここに太陽
光線収束要素は、全体としては太陽光の照射される面積
を増大させるものではないが、1日または年間における
太陽光の照射角度変化に対して、平均した光照射を受け
ることを可能とすることを目的としている。図7は、太
陽光線収束要素に入射する太陽光の日変化を示す図であ
る。図7のようなレンズを使用する場合には、表面が平
面状である場合には、太陽光が斜めに入射する朝夕は光
が全反射して殆ど有効な起電力を得られない場合にも、
太陽光線を電池表面に収束して、日中変化の少ない起電
力を得ることができる効果を有する。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0008
【補正方法】変更
【補正内容】
【0008】第1の製造ライン100は、太陽電池を構
成する各塗膜や塗布層を形成するための各ユニットが主
要装置であって、これらには、第1の電極である導電膜
形成部110、n型半導体層形成部120、i型半導体
層形成部130、p型半導体層形成部140、絶縁層形
成部150、第2の電極である透明導電膜形成部160
がある。絶縁層形成部は、第1の電極の導電膜と第2の
電極の透明導電膜との接触を防止するもので、両者の接
触が生じないパターンの場合は設ける必要がない。図1
は、pin型太陽電池製造を目的として各半導体層の塗
布順序が構成されているが、nip型太陽電池製造の場
合は、各半導体層の塗布順序を、p型、i型、n型の順
とすれば良い。その他、第1の製造ラインには、乾燥用
不活性ガス供給装置170、太陽電池基材フィルムを供
給する第1基材供給部180と完成した太陽電池を巻き
取る巻取り部185および第1の張力制御部190、第
2の張力制御部191、第3の張力制御部192が設け
られている。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0015
【補正方法】変更
【補正内容】
【0015】張力制御部190,191,192は、搬
送中の基材フィルムの張力を一定に維持するもので、こ
れらには、ダンサーローラや公知の張力制御装置が採用
される。第1基材供給部180、巻取り部185にも公
知の装置が採用される。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0019
【補正方法】変更
【補正内容】
【0019】このようにして太陽光線収束要素205が
形成されると、次に当該収束要素はフィルム状太陽電池
と貼合せ部300により一体にされる。太陽光線収束要
素は裏面にダイヘッド310により接着剤を塗布され
て、フィルム状太陽電池102の第2の電極である透明
導電膜層上に貼り合わされる。この際、透明導電膜層が
ストライプ状のパターンで形成されている場合は、当該
ストライプ状パターンとレンチキュラーレンズ形状との
位置合わせに注意が必要である。すなわち、レンチキュ
ラーレンズによって収束された太陽光線のラインがスト
ライプ状の導電膜位置と一致する場合には、起電力が低
くなるからである。太陽光線収束要素205と貼り合わ
されたフィルム状太陽電池102は、太陽電池103と
して、巻取り機185に巻き取られる。あるいは、この
段階で適宜な長さに断裁してシート状の製品とすること
も可能である。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0029
【補正方法】変更
【補正内容】
【0029】低反射フィルムが積層された太陽光線収束
要素205のレンズ裏面に透明な接着剤(エポキシ系)
をダイヘッド310で塗布した後、貼合せ部300のニ
ップローラ320で、フィルム状太陽電池102に圧着
して一体にし太陽電池103を製造した。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明になる太陽電池製造装置の全体構成を
示す図である。
【図2】 第1の製造ラインにおける、塗布ユニットを
説明する図である。
【図3】 本発明装置で製造される並列接続用途の太陽
電池の構成を示す図である。
【図4】 本発明装置で製造される直列接続用途の太陽
電池の構成を示す図である。
【図5】 並列接続したフィルム状太陽電池を製造する
場合の版胴上のパターンを説明する図である。
【図6】 直列接続したフィルム状太陽電池を製造する
場合の版胴上のパターンを説明する図である。
【図7】 太陽光線収束要素に入射する太陽光の日変化
を示す図である。
【符号の説明】 11 基材フィルム 12 第1の電極である導電膜 13 n型半導体層 14 i型半導体層 15 p型半導体層 16 絶縁層 17 第2の電極である透明導電膜 18 接着剤 21 基材フィルム 22 レンチキュラーレンズ 23 低反射フィルム 100 第1の製造ライン 200 第2
の製造ライン 101 基材フィルム 201 基材
フィルム 102 フィルム状太陽電池 202 紫外
線硬化樹脂 103 太陽電池 203 レン
ズ形状付きフィルム 110 第1の電極である導電膜形成部 204 低反
射フィルム 120 n型半導体層形成部 205 太陽
光線収束要素 130 i型半導体層形成部 210 レン
ズ形成部 140 p型半導体層形成部 211 型ロ
ーラ 150 絶縁層形成部 215 紫外
線光源 220 貼合せ部216, 222 ニップローラ 160 第2の電極である透明導電膜形成部 170 不活性ガス供給装置 180,230,240 基材供給部 185,270 巻取り部 190,191,192,250,251,252,2
53 張力制御 300 貼合せ部 310 ダイヘッド 320 ニップローラ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 連続して流れる基材フィルム上に太陽光
    線収束要素を備える太陽電池を製造する装置であって、
    (1)絶縁性基材フィルム上に第1の電極の導電膜パタ
    ーンを形成する手段と、当該導電膜パターンに重畳し
    て、n型半導体層、i型半導体層、p型半導体層をそれ
    ぞれ塗布する手段と、第2の電極の透明導電膜パターン
    を形成する手段、とを備えるフィルム状太陽電池を製造
    する第1の製造ラインと、(2)太陽光線収束要素のレ
    ンズ形状を形成する手段と、当該太陽光線収束要素の表
    面層を付加する手段、とを備える太陽光線収束要素を製
    造する第2の製造ラインと、(3)当該第1の製造ライ
    ンで製造されたフィルム状太陽電池表面に、当該第2の
    製造ラインで形成された太陽光線収束要素を貼り合わせ
    る貼合せ装置と、を具備することを特徴とする太陽電池
    の製造装置。
  2. 【請求項2】 n型半導体層、i型半導体層、p型半導
    体層を順次塗布する手段がグラビア版を使用する塗布装
    置であることを特徴とする請求項1記載の太陽電池の製
    造装置。
  3. 【請求項3】 太陽電池製造のために使用される印刷装
    置であって、半導体層塗布後の塗膜乾燥のために、加熱
    した窒素ガスを供給する機能を有することを特徴とする
    印刷装置。
JP8322103A 1996-11-19 1996-11-19 太陽電池の製造装置とそれに使用する印刷装置 Pending JPH10150216A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001339082A (ja) * 2000-05-29 2001-12-07 Toppan Printing Co Ltd 真空成膜装置
US8178777B2 (en) 2003-10-08 2012-05-15 Sharp Kabushiki Kaisha Method of manufacturing solar cell and solar cell manufactured thereby
JP2012256637A (ja) * 2011-06-07 2012-12-27 Philtech Inc 膜成長装置および太陽電池の製造装置
JP2018061056A (ja) * 2012-10-23 2018-04-12 エルジー エレクトロニクス インコーポレイティド 太陽電池モジュール

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