JP4845699B2 - 固体電解コンデンサ及び固体電解コンデンサの製造方法 - Google Patents

固体電解コンデンサ及び固体電解コンデンサの製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、誘電体層上に設けられた第1陰極層と、第1陰極層上に設けられた第2陰極層とを備えた固体電解コンデンサ及び固体電解コンデンサの製造方法に関する。
近年、PCなどに用いられるCPUの高性能化に伴って、高周波領域において等価直列抵抗(ESR;Equivalent Series Resistance)が小さい固体電解コンデンサが要求されている。ESRは、陰極の導電性に依存する。また、陰極が多層構造を有する場合には、ESRは、各陰極層間の接触抵抗に依存する。
ESRの低減が図られた固体電解コンデンサとして、第1陰極層及び第2陰極層が誘電体層上に設けられた固体電解コンデンサが提案されている(例えば、特許文献1)。具体的には、第1陰極層は、芳香族スルホン酸アニオンを含むドーパントを用いた化学重合によって誘電体層上に形成されるポリピロール層であり、第2陰極層は、電解重合によって第1陰極層上に形成されるポリピロール層である。
また、ポリチオフェンなどによって構成される第1陰極層と、ポリピロールなどによって構成される第2陰極層とを有する固体電解コンデンサも提案されている(例えば、特許文献2)。具体的には、第1陰極層は、チオフェンモノマーの加熱や化学重合によって形成される。
特開平4-48710号公報(例えば、請求項1など) 特開平10-321471号公報(例えば、請求項1、図2など)
ここで、第1陰極層及び第2陰極層がともにポリピロールによって構成された固体電解コンデンサでは、第1陰極層と第2陰極層との接触抵抗を抑えることができる。一方で、ポリピロールによって構成された第1陰極層の導電性が低いため、ESRの低減が不十分である。
また、第1陰極層がポリチオフェンによって構成され、第2陰極層がポリピロールによって構成された固体電解コンデンサでは、第1陰極層の導電性が向上する。一方で、第1陰極層と第2陰極層との接触抵抗が高いため、ESRの低減が不十分である。
そこで、本発明は、上述した課題を解決するためになされたものであり、ESRの低減を十分に図ることを可能とする固体電解コンデンサ及び固体電解コンデンサの製造方法を提供することを目的とする。
本発明の一の特徴は、陽極基体と、前記陽極基体上に設けられた誘電体層と、前記誘電体層上に設けられた第1陰極層と、前記第1陰極層上に設けられた第2陰極層とを備えた固体電解コンデンサにおいて、前記第1陰極層が、ポリエチレンジオキシチオフェンとポリピロールとによって構成される層であり、前記第2陰極層が、ポリピロールによって構成される層であることを要旨とする。
かかる特徴によれば、第1陰極層がポリエチレンジオキシチオフェンを含むため、第1陰極層の導電性が向上する。また、第1陰極層がポリピロールを含み、第2陰極層がポリピロールによって構成されるため、第1陰極層と第2陰極層との境界面における接触抵抗が低減する。これによって、固体電解コンデンサのESRの低減を図ることができる。
本発明の一の特徴は、上述した一の特徴において、前記誘電体層の表面において、前記第1陰極層を構成するポリエチレンジオキシチオフェンが前記誘電体層を被覆する被覆率は、0%よりも大きく、80%よりも小さいことを要旨とする。
本発明の一の特徴は、上述した一の特徴において、前記誘電体層の表面において、前記第1陰極層を構成するポリエチレンジオキシチオフェンが前記誘電体層を被覆する被覆率は、2%よりも大きく、35%よりも小さいことを要旨とする。
本発明の一の特徴は、陽極基体上に誘電体層を形成するステップと、前記誘電体層上に第1陰極層を形成するステップと、前記第1陰極層上に第2陰極層を形成するステップとを含む固体電解コンデンサの製造方法において、前記第1陰極層を形成するステップが、前記誘電体層の表面上に酸化剤を付着させる第1酸化処理を行うステップと、前記第1酸化処理の後に、前記誘電体層の表面でエチレンジオキシチオフェンモノマーの蒸気と前記酸化剤とを反応させるステップと、前記誘電体層の表面で反応させたエチレンジオキシチオフェンモノマーを加熱する第1熱処理を行うステップとを含むことを要旨とする。
かかる特徴によれば、第1陰極層は、前記誘電体層の表面でエチレンジオキシチオフェンモノマーの蒸気と酸化剤とを反応させた上で、前記誘電体層の表面で反応させたエチレンジオキシチオフェンモノマーを加熱することによって形成される(化学重合)。従って、ポリエチレンジオキシチオフェンが誘電体層の一部を被覆するように、第1陰極層を形成することが可能となる。
本発明の一の特徴は、上述した一の特徴において、前記第1陰極層を形成するステップが、前記第1熱処理の後に、前記誘電体層の表面上に酸化剤を付着させる第2酸化処理を行うステップと、前記第2酸化処理の後に、前記誘電体層の表面でピロールモノマーの蒸気と前記酸化剤とを反応させるステップとをさらに含むことを要旨とする。
本発明の一の特徴は、上述した一の特徴において、前記第1熱処理では、75℃よりも高く、180℃よりも低い温度域で熱が加えられることを要旨とする。
本発明の一の特徴は、上述した一の特徴において、前記第1酸化処理で用いられる酸化剤が、p−トルエンスルホン酸第三鉄、ドデシルベンゼンスルホン酸第二鉄、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム及び硫酸の中から選択されるいずれか一つを少なくとも含むことを要旨とする。
本発明の一の特徴は、上述した一の特徴において、前記第2酸化処理で用いられる酸化剤が、p−トルエンスルホン酸第三鉄、ドデシルベンゼンスルホン酸第二鉄、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム及び硫酸の中から選択されるいずれか一つを少なくとも含むことを要旨とする。
本発明によれば、ESRの低減を十分に図ることを可能とする固体電解コンデンサ及び固体電解コンデンサの製造方法を提供することができる。
以下において、本発明の実施形態に係る固体電解コンデンサについて、図面を参照しながら説明する。なお、以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には、同一又は類似の符号を付している。
ただし、図面は模式的なものであり、各寸法の比率などは現実のものとは異なることに留意すべきである。従って、具体的な寸法などは以下の説明を参酌して判断すべきである。また、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることは勿論である。
[第1実施形態]
(固体電解コンデンサの構成)
以下において、第1実施形態に係る固体電解コンデンサの構成について、図面を参照しながら説明する。図1は、第1実施形態に係る固体電解コンデンサ10の構成を示す図である。
図1に示すように、固体電解コンデンサ10は、陽極基体11Aとリード線11Bとによって構成される陽極体11と、誘電体層12と、第1陰極層13Aと、第2陰極層13Bと、カーボン層14と、銀層15と、導電性接着剤層16と、陽極端子17と、陰極端子18と、モールド樹脂19とを有する。
陽極基体11Aは、アルミニウム、タンタル、ニオブ、チタン等の弁作用金属によって構成される多孔質焼結体である。リード線11Bは、タンタル金属などによって構成される。例えば、陽極体11は、所定の平均粒径(例えば、2μm)を有するタンタル金属の粉末内にリード線11Bを埋設した状態で、タンタル金属の粉末を焼結させることによって形成される。
誘電体層12は、陽極基体11Aを構成する弁作用金属の酸化皮膜によって構成される。例えば、誘電体層12は、陽極基体11Aを電解質水溶液(例えば、リン酸水溶液)中で陽極酸化することによって形成される。
第1陰極層13Aは、ポリエチレンジオキシチオフェン(以下、PEDOT)とポリピロール(以下、PPy)とが混在する層である。ここで、第1陰極層13Aと誘電体層12との境界面において、PEDOTが誘電体層12を被覆する被覆率は、0%よりも大きく、80%よりも小さいことが好ましい。また、PEDOTが誘電体層12を被覆する被覆率は、2%よりも大きく、35%よりも小さいことがさらに好ましい。
ここで、第1陰極層13Aは、以下の手順で形成される。具体的には、陽極基体11A及び誘電体層12によって構成されるコンデンサ素子を酸化剤水溶液に浸漬する(酸化処理(1))。次に、コンデンサ素子(誘電体層12)の表面でエチレンジオキシチオフェンモノマー(以下、EDOTモノマー)の蒸気を反応させた後に、コンデンサ素子に熱処理(1)を施す。このようにして、図2に示すように、誘電体層12の一部がPEDOTによって被覆される。
酸化処理(1)で用いられる酸化剤は、例えば、p−トルエンスルホン酸第三鉄、ドデシルベンゼンスルホン酸第二鉄、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム及び硫酸の中の少なくとも一つを含むことが好ましい。なお、これらの酸化剤を組み合わせて用いてもよいことに留意すべきである。
続いて、コンデンサ素子を水洗後、コンデンサ素子を酸化剤水溶液に浸漬する(酸化処理(2))。次に、コンデンサ素子(誘電体層12)の表面でピロールモノマー(以下、Pyモノマー)の蒸気を反応させる。このようにして、図3に示すように、誘電体層12の一部がPEDOTによって被覆されるとともに、PEDOTとPPyとが混在する第1陰極層13Aが形成される。
酸化処理(2)で用いられる酸化剤は、例えば、p−トルエンスルホン酸第三鉄、ドデシルベンゼンスルホン酸第二鉄、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム及び硫酸の中の少なくとも一つを含むことが好ましい。なお、これらの酸化剤を組み合わせて用いてもよいことに留意すべきである。
このように、第1陰極層13Aは、EDOTモノマーの蒸気及びPyモノマーの蒸気を誘電体層12の表面上で反応させることによって形成される(化学重合)。
第2陰極層13Bは、PPyによって構成される層である。例えば、第2陰極層13Bは、第1陰極層13Aが形成されたコンデンサ素子を、ピロール及びスルホン酸ドーパントを含む水溶液に浸漬した状態で電流を流すことによって形成される(電解重合)。
カーボン層14は、カーボンによって構成される層であり、銀層15は、銀によって構成される層である。例えば、カーボン層14は、第2陰極層13Bが形成されたコンデンサ素子にカーボンペーストを塗布することによって形成される。銀層15は、カーボン層14が形成されたコンデンサ素子に銀ペーストを塗布することによって形成される。
導電性接着剤層16は、導電性接着剤が硬化した層である。陽極端子17は、陽極体11のリード線11Bにスポット溶接などによって取り付けられる。陰極端子18は、銀層15が形成されたコンデンサ素子に塗布された導電性接着剤によって銀層15に接着される。
モールド樹脂19は、陽極体11〜陰極端子18によって構成されるコンデンサ素子を覆う外装樹脂である。例えば、モールド樹脂19は、エポキシ樹脂等によって構成される。
なお、陽極端子17及び陰極端子18は、モールド樹脂19の外側に引き出されていることは勿論である。
(固体電解コンデンサの製造方法)
以下において、第1実施形態に係る固体電解コンデンサの製造方法について、図面を参照しながら説明する。図4は、第1実施形態に係る固体電解コンデンサ10の製造方法を示すフロー図である。
図4に示すように、ステップ10において、弁作用金属によって構成される陽極基体11Aの表面を陽極酸化させることによって誘電体層12を形成する。例えば、60℃に保持されたリン酸水溶液(リン酸の重量%=0.1wt%)に陽極基体11Aを浸漬した状態で、8Vの定電圧を10時間印加する。なお、陽極基体11Aは、2μmの平均粒径を有するタンタル金属の粉末の焼結によって形成される。
ステップ20において、PEDOTとPPyとが混在する第1陰極層13Aを誘電体層12上に形成する。なお、第1陰極層13Aの形成の詳細については後述する(図5を参照)。
ステップ30において、PPyによって構成される第2陰極層13Bを第1陰極層13A上に形成する。例えば、ピロール(3.2mol/L)及びスルホン酸ドーパント(0.2mol/L)を含む水溶液に、第1陰極層13Aが形成されたコンデンサ素子を浸漬した状態で、0.5mAの電流を5時間通電する(電解重合)。
ステップ40において、カーボンによって構成されるカーボン層14を第2陰極層13B上に形成する。例えば、カーボンペーストを第2陰極層13B上に塗布する。
ステップ50において、銀によって構成される銀層15をカーボン層14上に形成する。例えば、銀ペーストをカーボン層14上に塗布する。
ステップ60において、陽極端子17をスポット溶接によってリード線11Bに取り付ける。
ステップ70において、銀層15に導電性接着剤を塗布して、導電性接着剤によって陰極端子18を銀層15に接着する。
ステップ80において、陽極体11〜陰極端子18によって構成されるコンデンサ素子をモールド樹脂19によって被覆する。例えば、温度が160℃、圧力が150Kg/cm、時間が90秒という条件下で、エポキシ樹脂を用いてトランスファー成形を行う。続いて、モールド樹脂19が形成されたコンデンサ素子を150℃で4時間保持することによってエポキシ樹脂を硬化させる。
ここで、陽極端子17及び陰極端子18がモールド樹脂19の外側に引き出されるように、モールド樹脂19が形成されることは勿論である。
次に、第1陰極層13Aの形成の詳細について説明する。図5は、第1実施形態に係る第1陰極層13Aの形成方法を示すフロー図である。
図5に示すように、ステップ21において、陽極基体11A及び誘電体層12によって構成されるコンデンサ素子に酸化処理(1)を施す。例えば、コンデンサ素子を5分間酸化剤水溶液に浸漬する。
酸化処理(1)で用いられる酸化剤は、例えば、p−トルエンスルホン酸第三鉄、ドデシルベンゼンスルホン酸第二鉄、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム及び硫酸の中の少なくとも一つを含むことが好ましい。なお、これらの酸化剤を組み合わせて用いてもよいことに留意すべきである。
ステップ22において、酸化処理(1)が施されたコンデンサ素子(誘電体層12)の表面でEDOTモノマーの蒸気を反応させた後に、コンデンサ素子に熱処理(1)を施す。ここで、EDOTモノマーの蒸気を反応させる時間は、2分以上25分未満であることが好ましい。また、熱処理(1)は、75℃よりも高く、180℃よりも低い温度域で行われることが好ましい。
ステップ23において、熱処理(1)が施されたコンデンサ素子を水洗後、コンデンサ素子に酸化処理(2)を施す。例えば、コンデンサ素子を5分間酸化剤水溶液に浸漬する。
酸化処理(2)で用いられる酸化剤は、例えば、p−トルエンスルホン酸第三鉄、ドデシルベンゼンスルホン酸第二鉄、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム及び硫酸の中の少なくとも一つを含むことが好ましい。なお、これらの酸化剤を組み合わせて用いてもよいことに留意すべきである。
ステップ24において、酸化処理(2)が施されたコンデンサ素子(誘電体層12)の表面でPyモノマーの蒸気を反応させる。
このように、第1陰極層13Aは、EDOTモノマーの蒸気及びPyモノマーの蒸気を誘電体層12の表面上で反応させることによって形成される(化学重合)。
(作用及び効果)
第1実施形態に係る固体電解コンデンサ10によれば、第1陰極層13AがPEDOTを含むため、第1陰極層13Aの導電性が向上する。また、第1陰極層13AがPPyを含み、第2陰極層13BがPPyによって構成されるため、第1陰極層13Aと第2陰極層13Bとの境界面における接触抵抗が低減する。これによって、固体電解コンデンサ10のESRの低減を図ることができる。
第1陰極層13Aと誘電体層12との境界面において、PEDOTが誘電体層12を被覆する被覆率が0%よりも大きく、80%よりも小さいため(好ましくは、2%よりも大きく、35%よりも小さいため)、ESRの低減をさらに図ることができる。
第1実施形態に係る固体電解コンデンサ10の製造方法によれば、第1陰極層13Aを形成するステップ(ステップ20)は、コンデンサ素子(誘電体層12)の表面でEDOTモノマーの蒸気を反応させた後に、コンデンサ素子に熱処理(1)を施すステップ(ステップ22)を含む(化学重合)。従って、誘電体層12の一部をPEDOTが被覆するように、第1陰極層13Aを形成することが可能となる。
第1陰極層13Aを形成するステップ(ステップ20)は、コンデンサ素子(誘電体層12)の表面でPyモノマーの蒸気を反応させるステップ(ステップ24)を含む(化学重合)。従って、PEDOTで被覆されていない誘電体層12をPPyが被覆するように、第1陰極層13Aを形成することが可能となる。
第1陰極層13Aを形成するステップにおいて、EDOTモノマーの蒸気をコンデンサ素子の表面で反応させる時間を調整することによって、PEDOTが誘電体層12を被覆する被覆率を調整して、ESRがさらに低減された固体電解コンデンサ10を製造することができる。
熱処理(1)において、75℃よりも高く、180℃よりも低い温度域でコンデンサ素子に熱処理を施すため、ESRがさらに低減された固体電解コンデンサ10を製造することができる。
酸化処理(1)及び酸化処理(2)で用いられる酸化剤は、p−トルエンスルホン酸第三鉄、ドデシルベンゼンスルホン酸第二鉄、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム及び硫酸の中から選択されたいずれか一つを少なくとも含むため、ESRがさらに低減された固体電解コンデンサ10を製造することができる。
[第1実施例]
以下において、実施例に係る固体電解コンデンサと比較例に係る固体電解コンデンサとの比較結果について説明する。ここで、実施例と比較例とでは、誘電体層上に設けられる陰極層の構成が異なっていることに留意すべきである。
(実施例に係る固体電解コンデンサ)
実施例1に係る固体電解コンデンサでは、陰極層は、PEDOTとPPyとが混在する第1陰極層(第1陰極層13A)と、PPyによって構成される第2陰極層(第2陰極層13B)とを有する。
具体的には、実施例1に係る第1陰極層は以下のように形成した。p−トルエンスルホン酸第三鉄を含む酸化剤水溶液(p−トルエンスルホン酸第三鉄の重量%=20wt%)に、誘電体層が形成されたコンデンサ素子を5分間浸漬した。続いて、コンデンサ素子(誘電体層)の表面でEDOTモノマーの蒸気を10分間反応させた後に、130℃の温度域で10分間コンデンサ素子に熱処理を施した。
続いて、コンデンサ素子を水洗後、p−トルエンスルホン酸第三鉄を含む酸化剤水溶液(p−トルエンスルホン酸第三鉄の重量%=20wt%)にコンデンサ素子を5分間浸漬した。続いて、コンデンサ素子(誘電体層)の表面でPyモノマーの蒸気を10分間反応させた。
また、実施例1に係る第2陰極層は以下のように形成した。ピロール(3.2mol/L)及びスルホン酸ドーパント(0.2mol/L)を含む水溶液に、第1陰極層が形成されたコンデンサ素子を浸漬した状態で、0.5mAの電流を5時間通電した(電解重合)。
(比較例1に係る固体電解コンデンサ)
比較例1に係る固体電解コンデンサは、陰極層は、PPyによって構成される第1陰極層と、PPyによって構成される第2陰極層とを有する。すなわち、比較例1に係る固体電解コンデンサは、PEDOTとPPyとが混在する第1陰極層に代えて、PPyのみによって構成される第1陰極層を有する。なお、比較例1では、第1陰極層を化学重合で形成した。
(比較例2に係る固体電解コンデンサ)
比較例2に係る固体電解コンデンサは、陰極層は、PEDOTによって構成される第1陰極層と、PPyによって構成される第2陰極層とを有する。すなわち、比較例2に係る固体電解コンデンサは、PEDOTとPPyとが混在する第1陰極層に代えて、PEDOTのみによって構成される第1陰極層を有する。なお、比較例2では、第1陰極層を化学重合で形成した。
(比較例3に係る固体電解コンデンサ)
比較例3に係る固体電解コンデンサは、陰極層は、PPyによって構成される層のみを有する。すなわち、比較例3に係る固体電解コンデンサは、PEDOTとPPyとが混在する第1陰極層を形成せずに、PPyのみによって構成される第2陰極層のみを有する。なお、比較例3では、上述した実施例1と同様に、第2陰極層を電解重合で形成した。
(比較例4に係る固体電解コンデンサ)
比較例4に係る固体電解コンデンサは、陰極層は、PEDOTによって構成される第1陰極層と、PPyによって構成される第2陰極層とを有する。すなわち、比較例4に係る固体電解コンデンサは、PEDOTとPPyとが混在する第1陰極層に代えて、PEDOTのみによって構成される第1陰極層を有する。
なお、比較例4では、PEDOT(=5wt%)、p−トルエンスホン酸(=25wt%)、n−ブタノール(=30wt%)、i−プロパノール(37wt%)、純粋(=3wt%)の溶液にコンデンサ素子を浸漬した後に、50℃で10分間重合した。続いて、コンデンサ素子を水洗後、100℃で5分間乾燥した。また、溶液への浸漬、水洗及び乾燥を5回繰り返した。これによって、PEDOTのみによって構成された第1陰極層を誘電体層の表面に均一に形成した。
(ESR及び静電容量の測定)
上述した実施例1、比較例1〜比較例4について、100kHzでのESR及び120Hzでの静電容量の測定をLCRメータを用いて行った。
(PEDOT被覆率の測定)
上述した実施例1、比較例2及び比較例4について、図6に示す測定装置を用いて、PEDOTが誘電体層を被覆する被覆率の測定を行った。被覆率の測定では、第2陰極層を形成せずに第1陰極層のみを形成したコンデンサ素子を用いた。図6に示す測定装置では、30wt%の硫酸水溶液中に活性炭電極が浸漬されている。
そして、陽極基体上に誘電体層のみが設けられたコンデンサ素子と、これに対極として活性炭電極を用いて、周波数が120Hzでの静電容量C1を測定した。続いて、実施例1、比較例2及び比較例4においてPEDOT層のみを形成したコンデンサ素子に、カーボンペースト、銀ペーストを塗布した。そして、周波数が120Hzでの静電容量C2、静電容量C3及び静電容量C4を測定した。さらに、以下の式(1)を用いて、PEDOT被覆率を算出した。
PEDOT被覆率=(C2(C3orC4)÷C1)×100・・・(1)
表1は、上述した測定結果を示す表である。
Figure 0004845699
表1に示すように、PEDOTとPPyとが混在する第1陰極層と、PPyによって構成される第2陰極層とを有する実施例1では、比較例1〜比較例4と比べて、ESRの低減及び静電容量の高容量化がともに達成されていることが確認された。
一方で、PPyのみによって構成される第1陰極層を有する比較例1では、第1陰極層の導電性が低いため、ESRが低減されないと考えられる。
PEDOTのみによって構成される第1陰極層を有する比較例2では、第1陰極層と第2陰極層との境界面において接触抵抗が大きいため、ESRが低減されないと考えられる。また、PEDOTが誘電体層を被覆する被覆率が小さく、電解重合で誘電体層上に第2陰極層(導電性高分子層)を直接形成することができないため、静電容量が小さいと考えられる。
第1陰極層を有していない比較例3では、電解重合で誘電体層上に第2陰極層(導電性高分子層)を直接形成することができないため、ESRが低減されず、静電容量が得られないと考えられる。
誘電体層上に均一に形成されたPEDOTのみによって構成される第1陰極層を有する比較例4では、第1陰極層と第2陰極層との境界面において接触抵抗が大きいため、ESRが低減されないと考えられる。
[第2実施例]
以下において、実施例に係る固体電解コンデンサの測定結果についてさらに説明する。具体的には、上述したPEDOT反応処理(ステップ22)において、EDOTモノマーの蒸気をコンデンサ素子の表面で反応させる時間を変更して、PEDOT被覆率が異なる第1陰極層(実施例2〜実施例12)を形成した。実施例2〜実施例12について、EDOTモノマーの蒸気をコンデンサ素子の表面で反応させる時間は、30秒、1分、2分、3分、5分、10分、15分、25分、40分、90分、120分であった。
実施例2〜実施例12について、第1実施例と同様の手法で、PEDOT被覆率、ESR及び静電容量を測定した。
表2は、これらの測定結果を示す表である。表2に示すように、実施例2〜実施例12について、PEDOT被覆率は、1%、2%、3%、5%、10%、20%、30%、35%、40%、70%、80%であった。
Figure 0004845699
表2に示すように、第1陰極層と誘電体層との境界面において、PEDOTが誘電体層を被覆する被覆率は、0%よりも大きく、80%よりも小さいことが好ましいことが確認された。また、PEDOTが誘電体層を被覆する被覆率は、2%よりも大きく、35%よりも小さいことがさらに好ましいことが確認された。
[第3実施例]
以下において、実施例に係る固体電解コンデンサの測定結果についてさらに説明する。具体的には、上述したPEDOT反応処理(ステップ22)において、EDOTモノマーの蒸気をコンデンサ素子の表面で反応させた後に行われる熱処理(1)において、温度条件を変更して第1陰極層(実施例13〜実施例20)を形成した。実施例13〜実施例20について、熱処理(1)の温度は、75℃、80℃、100℃、130℃、150℃、170℃、180℃、190℃であった。
実施例13〜実施例20について、第1実施例と同様の手法で、ESR及び静電容量を測定した。
表3は、これらの測定結果を示す表である。
Figure 0004845699
表3に示すように、熱処理(1)の温度は、75℃よりも高く、180℃よりも低いことが好ましいことが確認された。
[第4実施例]
以下において、実施例に係る固体電解コンデンサの測定結果についてさらに説明する。具体的には、上述した酸化処理(1)(ステップ21)及び酸化処理(2)(ステップ23)において、コンデンサ素子を浸漬させる酸化剤水溶液に含まれる酸化剤の種類を変更して第1陰極層(実施例21〜実施例35)を形成した。
実施例21〜実施例35について、第1実施例と同様の手法で、ESR及び静電容量を測定した。
表4は、これらの測定結果を示す表である。
Figure 0004845699
表4に示すように、酸化処理(1)で用いる酸化剤は、p−トルエンスルホン酸第三鉄、ドデシルベンゼンスルホン酸第二鉄、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム及び硫酸の中のいずれか一つであることが好ましいことが確認された。同様に、酸化処理(2)で用いる酸化剤は、p−トルエンスルホン酸第三鉄、ドデシルベンゼンスルホン酸第二鉄、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム及び硫酸の中のいずれか一つであることが好ましいことが確認された。
[その他の実施形態]
本発明は上述した実施形態によって説明したが、この開示の一部をなす論述及び図面は、この発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
例えば、上述した実施形態では、第2陰極層13Bは電解重合で形成されるが、これに限定されるものではない。具体的には、第2陰極層13Bは化学重合で形成されてもよい。
第1実施形態に係る固体電解コンデンサ10の構成を示す図である。 第1実施形態に係る第1陰極層13Aにおいて、PEDOTが誘電体層12の一部を被覆する状態を示す図である。 第1実施形態に係る第1陰極層13Aにおいて、PEDOT及びPPyが誘電体層12を被覆する状態を示す図である。 第1実施形態に係る固体電解コンデンサ10の製造方法を示すフロー図である。 第1実施形態に係る固体電解コンデンサ10の製造方法を示すフロー図である。 第1実施形態に係る第1陰極層13Aにおいて、ポリエチレンジオキシチオフェンの被覆率を評価する装置を示す図である。
符号の説明
10・・・固体電解コンデンサ、11・・・陽極体、11A・・・陽極基体、11B・・・リード線、12・・・誘電体層、13A・・・第1陰極層、13B・・・第2陰極層、14・・・カーボン層、15・・・銀層、16・・・導電性接着剤層、17・・・陽極端子、18・・・陰極端子、19・・・モールド樹脂

Claims (6)

  1. 陽極基体と、前記陽極基体上に設けられた誘電体層と、前記誘電体層上に設けられた第1陰極層と、前記第1陰極層上に設けられた第2陰極層とを備えた固体電解コンデンサであって、
    前記第1陰極層は、ポリエチレンジオキシチオフェンとポリピロールとによって構成される層であり、
    前記第2陰極層は、ポリピロールによって構成される層であることを特徴とする固体電解コンデンサ。
  2. 前記誘電体層の表面において、前記第1陰極層を構成するポリエチレンジオキシチオフェンが前記誘電体層を被覆する被覆率は、0%よりも大きく、80%よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の固体電解コンデンサ。
  3. 前記誘電体層の表面において、前記第1陰極層を構成するポリエチレンジオキシチオフェンが前記誘電体層を被覆する被覆率は、2%よりも大きく、35%よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の固体電解コンデンサ。
  4. 前記第1陰極層のポリエチレンジオキシチオフェンは、前記誘電体層の一部を被覆し、
    前記第1陰極層のポリピロールは、前記誘電体層の前記ポリエチレンジオキシチオフェンで被覆されていない部分を被覆していることを特徴とする請求項1に記載の固体電解コンデンサ。
  5. 陽極基体上に誘電体層を形成するステップと、前記誘電体層上に第1陰極層を形成するステップと、前記第1陰極層上に第2陰極層を形成するステップとを含む固体電解コンデンサの製造方法であって、
    前記第1陰極層を形成するステップは、
    前記誘電体層の表面を部分的にポリエチレンジオキシチオフェンで被覆するステップと、
    前記誘電体層の前記ポリエチレンジオキシチオフェンで被覆されていない部分をポリピロールで被覆するステップと、を含み、
    前記第2陰極層を形成するステップは、前記第1陰極層をポリピロールで被覆するステップを含むことを特徴とする固体電解コンデンサの製造方法。
  6. 前記第1陰極層を形成するステップは、
    前記第1陰極層のポリエチレンジオキシチオフェンを、化学重合により形成するステップと、
    前記第1陰極層のポリピロールを、化学重合により形成するステップと、を含み、
    前記第2陰極層を形成するステップは、前記第2陰極層のポリピロールを電解重合により形成するステップを含むことを特徴とする請求項5に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
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