JP4844799B2 - 燃料電池用電解質膜およびその製造方法 - Google Patents
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Description
S=12×5×k2×tan(54)÷4
である。ここで、kは五角形の1辺の長さである。これより、全表面積は、1.189nm2となる。
R=0.308nm
従って、水クラスタ球の直径は、 0.615nmである。
(1)陽極酸化膜の形成
高純度(99.9%)のアルミ板(1mm厚)を陽極に、カーボンを陰極とし、シュウ酸(濃度0.5M)中で、数Vから数十V程度の電圧を10時間程度印加すると、アルミニウム板の表面の酸化が促進され、かつ、数十nm径の細孔が自己整列して板面に垂直にmm級の深さでも直線状に孔のあく現象がある。その後、電極を反対にして電圧を印加すると、アルミニウム部と細孔形成部との界面に水素ガスが発生し、酸化皮膜が金属面から容易にはがせる。
(2)エッチング
上記陽極酸化を行った時点では、細孔の先端部は数nmの厚みのバリア層で覆われており、貫通していない。このままでは、プロトン伝導性を有する電解質膜として使えないので、化学的、あるいは物理的にエッチングする必要がある。
(3)メゾポーラスシリカ
メゾポーラスシリカは、TEOS(テトラエトキシシラン)やTMOS(テトラメチルオルソシリケート)、NaHSi2O5・3H2O等のシリカ原料と界面活性剤の混合液を、平面基板上にスピンコートすると、基板表面に平行に形成できる。円筒状のメゾポーラスシリカのシリカナノチャンネルは、平板に平行ではあるが、基板面全体にわたって一方向を向いていないという問題がある。
上記操作により、陽極酸化法で得られた細孔の該細孔内に、上記ミセルを鋳型としてシリカナノ細孔が形成され、さらにシリカナノ細孔集合体であるメゾポーラスシリカが形成され、膜厚方向に極細孔が整列して形成されたメゾポーラスシリカが埋設された状態が得られる。
(4)メゾポーラスシリカ表面の修飾
本発明の電解質膜は、陽極酸化法で得られたカソード側に貫通した細孔を有する多孔質薄膜の該細孔内に、膜厚方向に極細孔が整列して形成されたメゾポーラスシリカを埋設した後、さらに、該メゾポーラスシリカ極細孔に、官能基を修飾し、プロトン伝導性を向上させることが好ましい。
(5)充填膜の形成
上記のようにして得られた、陽極酸化法で形成された細孔内に作ったメゾポーラスシリカの極細孔内に、更に充填膜を付加して穴を小さくすることができる。この方法により、プロトンの伝導する界面(表面)の面積、つまりプロトン伝導路を増やすことができ、かつ、燃料、水分の透過を防ぐことができる。
(6)表面積の計算
ここで、細孔と表面積の関係を確認する。
表面積Sは、底面と細孔内壁の面積の和として、
S=〔k2−Nπ(B/2)2〕×2 +N×πBt
〜NπBt ・・・・(a)
注>第1項=k2−Nπ(B/2)2
=k2−k2/(√3A2/2)×π(B/2)2
=k2〔1−π/(2√3)×(B/A)2〕
第2項=k2/(√3A2/2)×πBt
=k22πBt/√3A2
第1項<<第2項である。
=πDt×B2/C2
であり、単位面積内のメゾポーラスシリカ極細孔の総面積は、
N×πDt×B2/C2 ・・・・・・ (b)
=k2/(A2/2)×πDt×B2/C2
=k2(2π/√3)×Dt(B/C)2
(a)と(b)より、メゾポーラスシリカ極細孔のある方が、表面積はγ=BD/C2倍 大きくなることになる。
(7)メゾポーラスシリカ極細孔径と肉厚の関係
メゾポーラスシリカ極細孔をもつ構造体の表面積は、上記のように(b)式を変形してわかるように、D・(B/C)2に比例する。
表面積∝B2/(D+2α+α2/D)
における、最大最小問題となる。
(7)電極形成
上記メゾポーラスシリカを埋設した多孔質薄膜を、乾燥させた後、両面にカーボンペーストを貼付して電極を作製した。その後、交流インピーダンス法(ソーラトロン製SI−1260)でプロトン伝導度を計測した。また、メゾポーラスシリカ内を、上記官能基で修飾した薄膜についても同様に、プロトン伝導度を計測した。
(参考例1)
高純度(99.9%)のアルミニウム板(1mm厚)を陽極に、カーボンを陰極とし、シュウ酸(濃度0.5M)中で、30Vの電圧を10時間印加した。その後、電圧を逆転し、アルミニウム板より酸化膜をはがした。
(参考例2)プロトン伝導度
参考例1で作製した電解質膜の両端にカーボンペーストを貼り付けた。ソーラトロン製のインピーダンスアナライザー(SI−1260)を用い、室温でプロトン伝導度を計測した。プロトン伝導度は、σ=3.5×10−3S/cmであった。
(参考例3)
参考例1と同じ方法で作製したアルミナ陽極酸化膜(10×10×0.05mm3)の細孔の表面積をBET法(窒素ガス使用)で計測したところ、13.1m2であった。次に、参考例1と同じ手法で作ったメゾポーラスシリカの埋設された電解質膜の表面積を計測したところ、153m2であった。約11.7倍の表面積の増加が見られた。
(参考例4〜6)
参考例1の電解質膜のメゾポーラスシリカに、OH基以外に、COOH等の官能基をつけて、プロトン伝導度を計測した。酢酸処理することで、COOH基、SOOH基を修飾した。同様にして、アルキル基(メチル基)を修飾した場合についても、計測した。計測は室温で行った。
参考例1と同様にアルミナ陽極酸化した多孔質薄膜の細孔内(細孔内径、約30nm)に作ったメゾポーラスシリカ極細孔(極細孔内径0.5nm程度)を作った後、メチルアルコール水(メチルアルコール濃度40%)の透過を試みたが、透過は確認されなかった。(実施例1)
参考例1と同様にアルミナ陽極酸化した多孔質薄膜の細孔内(細孔内径、約30nm)に作ったメゾポーラスシリカ極細孔(極細孔内径0.5nm程度)を作った後、石英反応管内の石英ウールの上に置いた。反応管を800℃に加熱して、約2時間、N2ガスに2.5%のプロピレンガスを混合したガスを、200cm3/分程度流した。これにより、メゾポーラスシリカ極細孔の内壁に、グラッフェンシートが内張りするように成膜された。それは、直径が、1〜2nm程度のカーボンナノチューブであった。このCNTはほとんど単層であった。
(参考例8)
シリコン基板を、希硝酸(20wt%)中で、10Vの電圧を印加することで、陽極酸化して作った多孔質シリカ、及び、多孔質であるシリカゲルについて、上記参考例1と同様に、シリカ源であるTMOSと界面活性剤の混合液を上記多孔質材料の細孔に浸漬させて、細孔内部にメゾポーラスシリカのパイプ群を育成させた。そのままでもOH基が付いているので、プロトン伝導度を計測したところ、室温で、それぞれ、σ=6・5×10−2S/cm、σ=3.2×10−2S/cmの伝導度が得られた。
(参考例9)
チタンを用い、上記参考例1と同様に、希硝酸中で陽極酸化してチタニア多孔質材料を作った。膜は不完全であったが、多孔質であったので、上記の参考例1同様にして、多孔質内にメゾポーラスシリカのパイプ群を作ったところ、表面積が増えたのが効いて、室温でのプロトン伝導度が、σ=4.3×10−3S/cmが得られた。
(参考例10)
購入した多孔質ジルコニア(三井金属製、MZR)を利用して、マクロ多孔質内にメゾポーラスシリカを作り、プロトン伝導度を計測した。σ=7.2×10−3S/cmというおおきなプロトン伝導度が得られた。
(参考例11)
陽極酸化アルミナ多孔質膜の細孔内にメゾポーラスシリカを埋設し、該メゾポーラスシリカの極細孔内壁に官能基を修飾した。
陽極酸化アルミナを参考例1と同様に作り、その段階でのプロトン伝導度はほぼ同じことを確認した。その上で、上記実施例1と同じように内壁を、CVD法でグラッフェンシートで内張りした。その上で、8種類の炭素、酸素、水素を含む官能基を修飾して、それぞれについてプロトン伝導度を計測した。結果を表3に示す。
約100μm厚の金属セリウム箔とインジウム箔を、それぞれおよそ同濃度(10%)の希硫酸中で陽極酸化して多孔質化し、その後、硝酸中に数十秒ほどエッチングし細孔を貫通させた。電子顕微鏡で調べると、100nm級の孔があいていた。その細孔中にメゾポーラスシリカを埋設させた。その後、OH基を修飾して、乾燥させた後、プロトン伝導度を計測した。伝導度は、室温で、以下のような値が得られた。
参考例1と同様にして、アルミニウムを陽極酸化して得られた細孔(細孔の内径は約30nm)の内部に、極細孔(細孔内径は1〜2nm)を有するメゾポーラスシリカを埋設させた。
陽極酸化アルミナ多孔質膜について、室温(温度25℃、湿度40%)で、プロトン伝導度を測定した。プロトン伝導度は、σ=5×10−5S/cmであった。
「評価」
比較例1のように、陽極酸化アルミナ多孔質膜では、室温(温度25℃、湿度40%)で、プロトン伝導度は、σ=5×10−5S/cm程度であるが、陽極酸化アルミナ多孔質膜の細孔内にメゾポーラスシリカの極細孔(内径1.5nm、外形3nm)を作り、OH基を十分に修飾できた実施例2では、プロトン伝導度は、σ=3.5×10−3S/cmとなっており、約100倍向上した。
21 アノード
22 カソード
31 アノード側セパレータ
32 カソード側セパレータ
311 燃料流路
321 空気流路
Claims (9)
- アノード(燃料極)およびカソード(酸素極)にそれぞれ液体有機燃料および気体酸化剤を供給することによって継続的に発電可能な燃料電池に用いられる燃料電池用電解質膜であって、前記アノードと前記カソードの間に介在して使用される電解質膜が無機多孔質薄膜であり、該薄膜は、膜厚方向に細孔が整列して形成され、カソード側は、該細孔がカソード側に貫通しており、該細孔内に、膜厚方向に極細孔が整列して形成された極細孔を有するメゾポーラスシリカが埋設されており、該メゾポーラスシリカの極細孔内に更に、充填材として、カーボンナノチューブあるいは/及びβ―アルミナを内張りしていることを特徴とする燃料電池用電解質膜。
- 無機多孔質薄膜が、アルミナ、シリカ、チタニア、セリア、酸化インジウム、ジルコニアから選ばれた1種の薄膜であり、該薄膜は、陽極酸化法で、膜厚方向に細孔が整列して形成され、カソード側は、閉塞した細孔の先端部バリア層をエッチングすることによりカソード側に貫通していることを特徴とする請求項1記載の燃料電池用電解質膜。
- 請求項1記載のメゾポーラスシリカ極細孔に、官能基を修飾したことを特徴とする請求項1記載の燃料電池用電解質膜。
- 修飾した官能基が、OH基、炭素と水素を含む官能基、窒素と水素を含む官能基、あるいは、イオウと水素を含む官能基であることを特徴とする請求項3記載の燃料電池用電解質膜。
- 充填したカーボンナノチューブ層の更に内壁に、酸素、炭素、水素から構成される官能基であるα―ジケトン基、ケトン基、フェノール基、カルボキシル基、カルビノール基、o−ヒドロキノイド基、ラクトン基の少なくとも一種の官能基を修飾したことを特徴とする請求項1記載の燃料電池用電解質膜。
- メゾポーラスシリカ層の極細孔内径が、該極細孔間の壁厚の1.7倍から2.3倍となっていることを特徴とする請求項1、3、5記載の燃料電池用電解質膜。
- メゾポーラスシリカ層の極細孔内径が0.5nm以下であることを特徴とする請求項1、3、5、6記載の燃料電池用電解質膜。
- アノード(燃料極)およびカソード(酸素極)にそれぞれ液体有機燃料および気体酸化剤を供給することによって継続的に発電可能な燃料電池に用いられる燃料電池用電解質膜の製造方法において、
金属薄膜を酸化して、膜厚方向に細孔が整列した金属酸化物多孔質薄膜を得て、
前記細孔の先端部のバリア層を化学的または物理的にエッチングすることによって所定の大きさの寸法に空け、
前記細孔内に極細孔を有するメゾポーラスシリカを埋設し、
さらに、前記メゾポーラスシリカの極細孔内に、充填材として、カーボンナノチューブあるいは/及びβ―アルミナを内張りする
ことを特徴とする燃料電池用電解質膜の製造方法。 - 前記メゾポーラスシリカの極細孔にさらに官能基を修飾することを特徴とする請求項8記載の燃料電池用電解質膜の製造方法。
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